郭艺美,储德清
(天津工业大学 化学工程与技术学院,天津 300387)
纳米材料因其特殊的结构和物理化学性质,在光电子学、化学传感器、催化等领域有广泛的应用前景。而过渡金属氧化物价态多变,价电子层构型多样,晶体结构类型丰富,是目前纳米科技的一大研究热点。纳米技术中,最为重要的一部分便是微纳米材料。微纳米材料稳定性良好,具有纳米材料特有的体积效应、表面效应、量子尺寸效应、介电限域效应和量子隧道效应等,在环境、材料等多个领域受到了研究者的关注。
试剂:五水合硝酸铋(Bi(NO3)3·5H2O)、二水合钨酸钠(Na2WO4·2H2O)、六次甲基四胺(C6H16N4)、乙醇(C2H5OH),均为分析纯,天津市科密欧化学试剂有限公司;乙二醇((CH2OH)2),分析纯,天津市百伦斯生物技术有限公司;罗丹明B(RhB),分析纯,天津大学科威公司。
仪器:即热式恒温加热磁力搅拌器(DF-101S型),巩义市予华仪器有限公司;电子天平(FA-JA型),上海上平仪器有限公司;离心沉淀机(80-2型),巩义市予华仪器有限公司;电热恒温干燥箱(DG-201型),天津市天宇实验仪器有限公司;场发射扫描电子显微镜(S-4800型),日本日立仪器公司;X射线粉末衍射仪(DISCOVER型),德国布鲁克光谱仪器公司;X射线光电子能谱(K-alpha型),美国伊达克斯仪器公司。
扫描电子显微镜(SEM)表征:利用SEM对制备出的样品进行表征,表征前对样品进行喷金,设电压为10 kV、电流为10 mA。
能谱(EDS)表征:对样品进行SEM表征的同时,对其元素进行EDS表征。
X射线衍射(XRD)表征:对不同条件下制备的样品进行XRD测试,扫描范围为5°~80°,扫描频率为10°/min。
X射线光电子能谱(XPS)表征:对样品中的元素进行XPS分析,激发源采用Al K X射线,分析点面积为400 μm,标准透镜模式。
实验中用到的试剂均为分析纯,不需要进一步纯化。称取0.485 g (1 mmol)的Bi(NO3)3·5H2O加入放有15 mL (CH2OH)2溶液的烧杯中,将其溶解并标记为A溶液。同时,称取0.330 g (1 mmol) Na2WO4·2H2O溶于15 mL 蒸馏水中,标记为B溶液。将B溶液匀速滴加至A溶液中,搅拌20 min使其混合均匀,加入一定量的乌洛托品(HMTA),室温下磁力搅拌30 min。将混合均匀的溶液转移至配有30 mL聚四氟乙烯内衬的不锈钢高压釜中,在150 ℃条件下水热反应一定时间,反应完毕后将其放置室温下自然冷却。将得到的沉淀物用去离子水和无水乙醇反复冲洗并离心以去除杂质,于60 ℃真空干燥24 h,最终得到旋钮状Bi2WO6微纳米材料。
调整HMTA的用量分别为0.1 g、0.3 g和0.5 g,调整Bi(NO3)3·5H2O和Na2WO4·2H2O的物质的量之比分别为0.3∶1、 0.5∶1和2∶1,探究其对Bi2WO6半导体材料形貌的影响。
旋钮状Bi2WO6的微观结构可通过SEM获取。所制样品的SEM图像和EDS谱图如图1所示。从图1(a)中Bi2WO6微纳米结构的整体形态可以看出,制备的Bi2WO6产率较高、大小均一、结构规整。从图1(b)中Bi2WO6微纳米结构的放大图像可以观察到,制备出的微纳米Bi2WO6由厚度约100 nm的纳米片构成,其中纳米片层层叠加组成底座,较小的纳米片交叉相接于底座,形成旋钮结构。图1(c)至(f)是Bi2WO6半导体的能谱谱图及Bi、O、W元素图像,从中可以看出水热法制备出的Bi2WO6半导体存在Bi、O、W元素,且各元素均匀分布,初步证实合成了微米级旋钮状Bi2WO6。
图1 旋钮状Bi2WO6的扫描电子显微镜(SEM)图像和能谱(EDS)谱图Fig.1 SEM images and EDS pattern of knob-shaped Bi2WO6
为进一步探究产物结构,利用XRD表征了所制的微纳米Bi2WO6,分析了产物的晶体结构及其结晶度,旋钮状Bi2WO6的XRD谱图如图2所示。从图2中可以看出,所有衍射峰的峰值和峰位均与Bi2WO6标准卡片(JCPDS No.39-0256)[10]的衍射峰相吻合,晶胞参数为a=5.456 8Å,b=16.435 5Å,c=5.438 2Å,说明制备出的样品为正交晶系Bi2WO6微纳米材料。另外,该图谱中2θ在28.299°、32.790°、47.138°、55.820°处存在衍射峰,分别对应(1 3 1)、(2 0 0)、(2 0 2)和(3 3 1)晶面,表明样品为正交晶系的Bi2WO6。各峰峰型尖锐,没有其他杂质峰且28.299°处的衍射峰强度最高,表明合成的Bi2WO6具有较高的结晶度,且沿着(1 3 1)晶面择优取向生长。
图2 旋钮状Bi2WO6的XRD谱图Fig.2 XRD patterns of the knob-shaped Bi2WO6
通过XPS进一步表征了所获得的旋钮状Bi2WO6晶体表面的化学组成和电子价态,旋钮状Bi2WO6的XPS谱图如图3所示。
图3 旋钮状Bi2WO6的XPS谱图Fig.3 XPS patterns of the knob-shaped Bi2WO6
图3(a)XPS全谱图显示出明显的W、Bi、O、C元素峰,其中C 1s通常出现在XPS谱图中,主要来源于仪器本身的碳氢化合物,表明产物只有W、Bi、O、C元素存在,与之前的EDS结果相符。图3(b)是W 4f特征峰拟合的结果,位于35.4 eV和37.5 eV处的结合能分别属于W 4f7/2轨道和W 4f5/2轨道[11-12],结合能差值为2.1 eV,表明产物中的钨元素主要以W6+的形式存在。在图3(c)中,159.3 eV和164.6 eV处的两个特征峰分别对应Bi 4f7/2轨道和Bi 4f5/2轨道[13-14],且结合能相差5.3 eV,说明样品中铋元素的存在形式为Bi3+。图3(d)是O 1s特征峰拟合后的XPS谱图,特征峰分别位于529.9 eV、530.7 eV和532.5 eV处,其中529.9 eV处和530.7 eV处分别为W—O键和Bi—O键中氧元素的结合能[15],532.5 eV处的结合能对应吸附在样品表面的羟基氧化学键[16]。以上均表明该方法成功合成了旋钮状Bi2WO6半导体。
HMTA是改变制备的Bi2WO6微纳米材料形态的有效控制剂。为了进行比较,探究了表面活性剂HMTA对样品形貌的影响,不同HMTA添加量制备的Bi2WO6样品SEM图像如图4所示。从图4(a)和(d)可以看出,加入0.1 g HMTA的Bi2WO6形貌为螺旋状,中间有凹陷;当HMTA的添加量增至0.3 g时,凹陷完全消失,纳米片交叉叠在底座上方,如图4(b)和(e)所示;当HMTA的添加量增至0.5 g时,Bi2WO6上层纳米片几近消失,底座纳米片分开,形貌近似于花状,如图4(c)和(f)所示。以上表明随着HMTA含量的增加,Bi2WO6固有的各向异性生长被抑制,Bi2WO6纳米片在上部和底部生长,由螺旋状变成花状。
图4 不同HMTA添加量制备的Bi2WO6样品SEM图像Fig.4 SEM images of Bi2WO6 prepared with different HMTA additions
为探究Bi3+和W6+的比例对Bi2WO6形貌的影响,进行了不同比例的单一变量实验,发现Bi3+和W6+的比例对产物形态有很大的影响,如图5所示。从图5(a)和(d)可以看出,当Bi3+与W6+物质的量之比为0.3∶1时,纳米片小,底座分层不明显,且整体均匀性较差;从图5(b)和(e)可以看出,当Bi3+与W6+物质的量之比为0.5∶1时,上层纳米片开始出现交叉情况,产物渐渐形成旋钮形,但均匀性仍然不高;图5(c)和(f)是Bi3+与W6+物质的量之比为 2∶1时Bi2WO6的形貌,纳米片小且薄,边和面接触,相互交叉形成花状结构。综上可知,当Bi3+含量增加时,纳米片变薄,但Bi2WO6整体尺寸增大,原因可能是Bi3+在乙二醇中不容易发生水解,首先生成配合物,随着水热时间的增加,温度升高后,配合物分解生成Bi3+,然后均匀分散至溶液中再与W6+离子反应,故随着Bi3+含量的增加,Bi2WO6所组成的纳米片变小但表面积增大,形貌由层状逐渐变为花状。
图5 不同Bi3+和W6+物质的量之比制备的Bi2WO6样品SEM图像Fig.5 SEM images of Bi2WO6 prepared under different ratios of Bi3+ and W6+
本研究采用简单水热法成功合成了旋钮状Bi2WO6微纳米材料,并将HMTA添加量与Bi3+和W6+的比例作为其中两个影响因素,对Bi2WO6的形貌变化进行了探究。根据表征结果,推测出Bi2WO6的生长机制遵循奥斯特瓦尔德成熟机制,先生成层状结构,小颗粒溶解再次沉积到Bi2WO6结构上,由于HMTA的存在改变了固有的各向异性生长,最终形成了旋钮状Bi2WO6。