基于自相关过程的控制图的性能评价

2011-05-18 08:06:06李晓莉
统计与决策 2011年14期
关键词:虚线哈特极差

张 黎,李晓莉

(郑州航空工业管理学院,郑州 450015)

0 引言

传统上零件制造过程在大部分情况下处于统计控制状态[1~3],因此,在实际应用中,不管过程数据是否独立,往往不加检验直接应用于控制图,对过程进行监控。Alwan[4][5]对出现在教材、手册、软件、权威期刊等中所讨论的控制图进行了统计,发现有235个控制图的应用是错误的,其中违背了使用控制图的独立性假定条件的超过85%。Alwan把应用控制图的错误分为4种类型:(1)数据不独立,但过程可以描述为一个自相关的时间序列;(2)数据不独立,可以由时间序列加上一些确定的变量来描述;(3)数据不独立,但可以表示为确定的变量;(4)非正态;第一种类型几乎占了一半。因此,必须研究过程数据具有相关性对控制图的影响,以构建适用于相关性的监控方案。本文将以平均运行长度(ARL)为评价指标,在过程观测值为二阶自回归AR(2)模型下,讨论相关性对控制图性能的影响。

1 移动极差估计

AR(2)模型表示如下[6][7]:

其中过程观测值为{Z1,Z2,…,Zn},φ1、φ2为介于(-1,1)之间的常数,μ为Zt的期望值(在不失一般性下假设μ=0),而αt为时间t时的纯噪声。在模型参数φ1、φ2不随时间变化的前提下,造成过程均值不稳定的一个可能原因就是μ的变化。所以本文分析的核心是:假设过程在控制状态下,αt为正态分布,Zt均值从开始为0偏移到δσ2时,以三种常用控制图监控过程并以ARL探讨其稳健性。

已知AR(2)自协方差为

因此,当ρ1=0时,是过程标准差的无偏估计:否则,该估计值不是标准差的无偏估计,比例常数为

2 控制图的ARL

若Zt落在控制限之外,就判断过程存在特殊原因,过程失控。

以Zt建立单值休哈特控制图[2],上下控制限为

同理,对于 Zt的 EWMA 统计量 Wt=λZt+(1-λ)Wt,建立EWMA控制图[8],上下控制限为

这里,λ=0.2,c=2.859。若Wt落在控制线之外,就判断过程失控。

CUSUM控制图的统计量为[9][10]

为了详细的分析相关性对控制图的影响,计算上述3种控制图的ARL。由于计算ARL的公式复杂,我们采用仿真的方法求出。对于不同参数的模型,在受控过程下(μ=0),重复仿真10000次,ARL0列于表1中;然后在失控状态下重复进行(μ=δσz),其 ARL1也列在表 1 中,表中未标出的表明 ARL的值超过3000。

表1 AR(2)过程下控制图的性能

表中第1列是过程参数的不同组合;第2、3列为AR(2)过程的标准差和移动极差的期望值。从表中 看 到 ,φ1>0的移动极差的期望值均小于标准差,这样,控制图的控制界限相对过紧,由此增加了假警报,降低了控制图的稳健性。而 φ1<0时移动极差的期望值均大于标准差,由此控制界限过宽,容易漏发警报,从而降低了控制图的灵敏性。表中第5列、第6列的ARL进一步说明上述结果。

因此,在具有相关性的情况下,直接应用传统的控制图,一种情况使控制界限变宽,不能有效地及时发现特殊原因的存在;另一种情况使控制界限过紧,频繁的报警,导致对控制图的解释错误。其原因是移动极差估计是过程标准差的有偏估计,这样控制图不能正确地反映过程长期变化的情况。

3 仿真验证

为了更直观的考察相关对控制图的影响,并验证上述结论,现模拟两组自相关数据,以休哈特图和EWMA控制图为例,并与修正控制界限的休哈特图和EWMA图进行比较分析。在讨论之前,先来推导AR(2)过程下,EWMA统计量的方差,以建立修正界限的EWMA控制图。

AR(2)过程的方差为自协方差为 γk=Cov(Zt,Zt+k),EWMA 统计量为

因为

这样,

所以

当t趋于无穷时,Wt收敛,这样,Wt是渐进平稳的。我们可以找到一个整数N,使

Cov(Wt,Wt+k)

因此,EWMA的近似方差为

令 φ1=0.3,φ2=0.3,αt~N(0,1)。 模拟数据 100 个,前 80 个数据的过程均值μ=0;第81个数据后,假设过程受到特殊原因的影响,过程均值从零偏移到μ1=2σz=2.3204,图1表示Matlab软件模拟的100个数据序列。

图1 休哈特控制图(φ1=0.3,φ2=0.3)

不考虑相关性,利用移动极差估计标准差,建立休哈特控制图,上下控制限分别为UCL=2.6313、LCL=-2.6313(图1虚线)。直观地看,图1中前80个值是平稳的,后20个值有向上的趋势,虚线所表示的20个值是没有偏移的情形。从图1中看到,第81点落在了控制限之外,这样在偏移发生之后就探测到均值偏移;但问题是图中前80个点有1点(第76点)也落在了控制线的外边,这是假警报。原因是没有考虑数据的自相关性,控制限过紧导致控制图发出假警报。由移动极差建立的休哈特控制图受控时的平均运行长度为51.50,相应于独立过程的假警报率是7.2。因此,不考虑自相关性,直接建立控制图监测过程是无效的。

如果考虑相关性,标准差σZ1.1602,建立修正控制限的休哈特控制图:±cσZ;并以受控时修正控制图的ARL近似于370.4,仿真确定参数 c=2.9734[5],控制限 UCL=3.45,LCL=-3.45(图1实线)。注意到,前80个点全部在控制限内,均值偏移后的第85点落在了控制线之外。

图2 EWMA 控制图(φ1=0.3,φ2=0.3)

图3 休哈特控制图(φ1=0.3,φ2=0.3)

现在我们考虑使用同样的100个数据作EWMA图,如图2。不考虑相关性,同样使用移动极差估计标准差,λ=0.2,c=2.859,则 EWMA 的控制限为 UCL=0.83、LCL=-0.83(图 2虚线)。从图2中看到,前80个点中有4个点落在了控制限的外边。实际上,这个控制图在受控时的ARL=22.35,假警报率为16.5。因此,如此高的假警报使得EWMA图与休哈特图一样,不能正确的反映过程的波动信息。

同样,考虑到相关性,修正控制限的EWMA控制图:±σW。σW=0.4073,修正参数c=5.3507,这样EWMA的控制限为UCL=2.18、LCL=-2.18(图 2实线),在前 80个点没有报警,在均值偏移后的82点报警。

同理对于φ1=-0.3,φ2=0.3;休哈特控制图的控制界限,UCL=4.1604,LCL=-4.1604。 直观地看(图 3虚线),图 3中前80个值比图1更平稳,后20个值向上偏移,虚线图为没有偏移的图示。图中没有一次报警,并且前80个点的徘徊远离控制线。偏移后也没有报警。事实上,考虑自相关,过程标准差 σZ=1.1602,c=2.9734,控制限为 UCL=3.45,LCL=-3.45(图3实线),因此控制限相对过松,由此导致控制图不能发出警报,而考虑相关性的修正控制图在85点报警。

图4 EWMA 控制图(φ1=0.3,φ2=0.3)

同样对于φ1=-0.3,φ2=0.3不考虑相关性,建立EWMA控制图如图 4,UCL=1.32,LCL=-1.32(图 4 虚线),均值偏移后在84点发出警报,这是因为休哈特图偏移后ARL大于EWMA图。而考虑自相关,σW=0.2105,c=3.0409,上下控制限为 UCL=0.66,LCL=-0.58(图4实线),控制图仍然在第 82点发出了报警。

4 结论

传统的控制图监测并不包括数据自相关的情况,零件制造工业在过去使用控制图时假定过程数据是随机独立的,如果数据表现为正的相关性,控制图会频繁的发出警报。本文以自相关过程AR(2)为例,讨论了控制图直接监测自相关过程失效的原因,是由于移动极差估计是过程长期波动的有偏估计,仿真模拟试验的结果表明,当φ1>0时控制图的控制界限相对过紧,降低了控制图的稳健性,而φ1<0时控制界限过宽,降低了控制图的灵敏性。模拟数据比较了传统控制图和修正界限的控制图的监测的效果,验证了该结论。

[1]D.C.Montgomery.Introduction to Statistical Quality Control(4thEdition)[M].New York:John Wiley and Sons,2001.

[2]W.A.Shewhart.Statistical Msethod from the Viewpoint of Quality Control[M].Washington:Courier Dover Publications,1986.

[3]W.H.Woodall.Controversiesand Contradictions in Statistical Process Control[J].Journal of Quality Technology,2000, 32(4).

[4]L.C.Alwan.Statistical Process Analysis[M].New York:McGraw-Hill,2000.

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[7]杨位钦和顾岚.时间序列分析与动态数据建模[M].北京:北京工业学院出版社,1986.

[8]J.N.Dyer,B.M.Adams,M.D.Conerly.The Reverse Moving Average Control Chart for Monitoring Autocorrelated Processes[J].Journal of Quality Technology,2003,35(2).

[9]C.Lu,M.R Reynolds Jr.Cusum Charts For Monitoring An Autocorrelated Process[J].Journal of Quality Technology,2001,33(3).

[10]O.O.Atienza,L.C.Tang,B.W.Ang.A CUSUM Scheme for Autocorrelated Observation s[J].Journal of Quality Technology,2002,34(2).

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