四乙氧基硅烷合成尾气清洁工艺研究

2018-07-04 01:38:28姜林炜李连朋
江西化工 2018年3期
关键词:三氯氢硅氯硅烷氧基

周 俊 丁 冰 姜林炜 李连朋

(江西晨光新材料股份有限公司,江西 九江 332500)

前言

四乙氧基硅烷是硅烷偶联剂重要的中间体,也是重防腐涂料中最重要的原料,以其为主要生产原料可以生产环氧富锌底漆,用于船舶,桥梁等容易被腐蚀的金属表面,通过电化学和物理化学的原理,增强金属材料在高湿高盐环境的耐腐性,延长使用寿命。四乙氧基硅烷利用广泛,但受尾气HCl的制约,影响产量,此套工艺可以解决HCl尾气回收问题,扩大四乙氧基硅烷生产量,也可减少尾气氯化氢对环境的污染。

1 国内现有四乙氧基硅烷酯化尾气吸收方式

1.1 水吸收法

1.1.1 所涉及的工作原理或反应方程式

酯化反应:

4CH3CH2OH+SiCl4=Si(OCH2CH3)4+4HCl↑

溶解:水溶解Hcl形成盐酸。

中和反应:

HCl+NaOH=NaCl+H2O

1.1.2 工艺流程

目前,国内生产四乙氧基硅烷的部分企业,采用的是水吸收法处理四乙氧基硅烷中的Hcl。其主要流程(图1)是尾气经过冷凝器后经多级降膜吸附器吸收,形成一定浓度的盐酸溶液,然后后续对盐酸溶液进行处理,从而解决四乙氧基硅烷尾气问题。

此方法存在的弊端是:四乙氧基硅烷产量越大,产生的HCl尾气量越大,从而导致产生的盐酸量相应变大,处理盐酸所需要的成本高,严重限制四乙氧基硅烷的产量,不利于产品的扩产;

附图1:

图1 水吸收法工艺流程

1.2 Hcl气体直接回收利用

1.2.1 所涉及的工作原理或反应方程式

酯化反应:

4CH3CH2OH+SiCl4=Si(OCH2CH3)4+4HCl↑

尾气回收反应方程式:

Si+3HCl=SiHCl3+H2

1.2.2 工艺流程

目前,工业合成SiHCl3,是利用硅粉和HCl气体反应制得。四乙氧基硅烷合成尾气的主要成分HCl气体,进入三氯氢硅合成炉反应,可以回收这部分的HCl气体。

此方法有以下两点好处:1、基本可以避免盐酸的产生,使得四乙氧基硅烷的产量可以有很大提升;也可以减少环保成本;2、回收HCl,可以减少合成SiHCl3的原料投入,降低成本。

此方法的弊端是:四乙氧基硅烷合成尾气中含有一部分乙醇,会随着HCl气体进入SiHCl3合成炉,会使得设备易堵塞,增加维修成本,也会影响三氯氢硅产品品质。

2 四乙氧基硅烷合成尾气清洁工艺

HCl气体直接回收利用的前景乐观,好处良多,但弊端也严重影响到HCl的回收利用,四乙氧基硅烷合成尾气清洁显得尤为重要。

2.1 工艺流程

图2 四乙握拳基硅烷尾气工艺

此工艺流程(图2)增加两个洗涤塔,利用氯硅烷在洗涤塔内循环,将四乙氧基硅烷尾气中的乙醇完全反应,使得尾气中含有纯净的氯化氢气体,再进入三氯氢硅合成炉反应,可以大大降低合成炉的堵塞情况,使得HCl可以稳定的回收利用,带来巨大的经济效益和环保效益。

[1]黄宏伟.《正规酸乙酯在涂料上的应用研究》.

[2]赵云,师琳霞,但建明,齐誉,洪成林.《SiCl4制备正规酸乙酯的研究》.

[3]李建勇,邓锋杰.《有机氯硅烷醇解工艺研究进展》.

[4]卜向明,钟宏,戴子林,吴长永.《氯硅烷醇解中氯化氢的去除方法》.

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