集成电路布图设计登记保护与商业利用的冲突与化解

摘 要：【目的】完善集成电路布图设计登记制度。【方法】聚焦《集成电路布图设计保护条例》第17条的立法原意，结合登记保护与商业利用冲突的司法案例，从利益博弈视角出发，寻求产业发展创新和公众利益之间的平衡。【结果】集成电路布图设计登记保护与商业利用之间的冲突限制了商业利用的灵活性，拖延了商业利用的时间。【结论】针对《集成电路布图设计保护条例》第17条提出修订建议，主张取消两年登记期限限制，通过正向措施引导布图设计权利主体积极登记，以更好地平衡登记保护与商业利用之间的关系，从而加速布图设计成果的转化与运用。

关键词：集成电路布图设计；登记保护；商业利用

中图分类号：D923.43" " "文献标志码：A" " 文章编号：1003-5168（2025）01-0107-05

DOI：10.19968/j.cnki.hnkj.1003-5168.2025.01.021

The Conflict and Resolution of Integrated Circuit Layout Design

Registration Protection and Commercial Utilization

—Analysis Based on Article 17 of Regulations on the Protection of Integrated Circuit Layout Design

YANG Xia

（Law School， Southwest University of Science and Technology， Mianyang 621000， China）

Abstract：[Purposes] This paper aims to improve the registration system for integrated circuit layout design. [Methods] Focusing on the legislative intent of Article 17 of the Regulations on the Protection of Integrated Circuit Layout Design and by examining judicial cases involving conflicts between registration protection and commercial utilization， this paper seeks a balance between industry development and innovation and the public interest from the perspective of interest negotiation. [Findings] The conflict between integrated circuit layout design registration protection and commercial utilization restricts the flexibility of commercial utilization and delays its timing. [Conclusions] In view of the revision of Article 17 of the Regulations on the Protection of Integrated Circuit Layout Design， the author advocates canceling the two-year time limit for registration ，guiding the holders of layout design rights to actively register through positive measures， in order to better balance the relationship between registration protection and commercial utilization， thereby accelerating the transformation and application of layout design results.

Keywords： integrated circuit layout design; registration protection; commercial utilization

收稿日期：2024-06-18

作者简介：杨霞（1998—），女，硕士生，研究方向：知识产权法学。

0 引言

2024年5月11日，国家知识产权强国建设工作部际联席会议办公室印发了《2024年知识产权强国建设推进计划》（以下简称《计划》），在知识产权法律法规规章完善方面，《计划》明确提出开展《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）修改论证。《条例》出台23年从未修改，部分内容已不适应产业发展，因此有必要对现行法律进行修订以适应实际需要［1］。

《条例》第8条规定了布图设计专有权由登记产生，布图设计的登记是受《条例》保护的前置程序。《条例》第17条规定布图设计自首次投入商业利用之日起2年内未向我国相关部门提出登记申请的，将不再予以登记。该规定是根据当时国家的具体情况及布图设计立法保护的背景而制定的，旨在引入国外的先进技术，同时维护布图设计权利人的合法权益，以实现产业发展创新与公共利益之间的平衡。随着国际布图设计的发展与保护环境的变化，该条款已不能适应现实需要，且阻碍了布图设计的商业利用，应修改法律以适应当下的变化，全面保护布图设计，促进技术更好地转化运用。

1 集成电路布图设计登记保护的重要性与《条例》第17条的解读

知识产权是绝对权。为了保护知识产权人以外不特定义务人行为的自由，避免义务人因不知道知识产权的权利范围，而闯入知识产权的权利领地，法律法规普遍要求各类型知识产权的取得要履行公示手续。《条例》对布图设计专有权的取得设定了程序条件与实体条件，登记备案是程序条件中不可缺失的一环，是法律要求取得权利的必要手续，是确定布图设计内容的过程［2］。《条例》第8条明确了登记是布图设计受保护的必要程序条件，布图设计权利人向知识产权行政部门提交法律要求的材料并办理相关手续申请登记，完成了以上程序性条件，其拥有的布图设计才能受《条例》保护。一般情况下，绝大多数申请登记的布图设计只要登记手续齐全，登记形式要件充分，基本上都能获准登记。采用登记备案的优势体现在以下几点：第一，登记备案的内容能作为确定布图设计专有权保护范围的文件，为后续纠纷处理提供依据。第二，事先登记备案、事后确权的模式符合布图设计客体高信息成本、多区别特征的特点，有利于保证管理效率［3］。第三，布图设计登记数据能反映我国集成电路产业发展中的部分现状，登记保护变化形态和相关数据能够为国家制定产业发展政策提供研究依据。登记保护不仅是对创作者权益的保障，也是促进集成电路产业健康发展的关键［4］。

《条例》第17条规定，布图设计自其在世界任何地方首次投入商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。此条的立法初衷是维护布图设计权利人的正当权益，又兼顾布图设计使用者和公众及国家的利益［5］，同时以失权为代价督促布图设计权利人积极登记。《条例》第17条为在先投入商业利用的布图设计附加2年登记期限，超过登记期限后布图设计权利人申请登记的，国家知识产权局不再予以登记。若因审查不严已登记的，也随时面临被撤销的后果。登记期限将《条例》施行以前商业利用已满2年的布图设计排除在保护范围之外，有利于促进我国集成电路产业的发展［6］。然而，国际上布图设计登记的数量几乎没有增加，反而是国内布图设计登记数量维持稳定增长的趋势。知识产权制度从其产生之初发展到今天，一直处于权利保护与限制的法律调整之中［7］。知识产权应该以登记保护为手段，以转化运用为目的，以促进创新与技术进步为目标。集成电路布图设计的登记限制，不但不利于保护权利人的权益，反而挫伤了在先创新者的创新积极性，打破了知识产权保护创新维护、公众利益的价值平衡，应该对此做出调整。

2 登记保护与商业利用的冲突

2.1 限制商业利用的灵活性

集成电路布图设计自首次投入商业利用之日起2年内未提出登记申请的将不予登记的规定限制了商业利用的灵活性。知识产权是人们基于知识依法享有的权利，布图设计作为知识产权的客体，对其进行保护强调其必须依法产生，反映了立法者的价值判断。我国对布图设计采用登记保护原则，在登记过程中采取形式审查，只要形式上符合要求，不存在驳回理由就予以登记公告。布图设计发展速度较快，通过登记便于确定布图设计的创作完成时间，还能通过登记确定该布图设计是否符合法定受保护条件，使设计人的权利趋于稳定［7］。《条例》第8条规定布图设计专有权以登记为受保护的前提条件。但《条例》第17条规定，投入商业利用2年内未提出登记申请的，将不再予以登记。《集成电路布图设计保护条例实施细则》第20条规定，布图设计专有权自申请日起生效，而并非自登记之日起生效［8］。总的来说，布图设计专有权保护的前提是登记，但是布图设计投入商业利用2年内没有进行登记则直接失去了登记的权利。即使布图设计在登记日前已投入商业利用，但由于没有登记，布图设计专有权还未生效，布图设计权利人在商业利用日至登记日期间无法享有布图设计专有权，因此不受《条例》保护。2年登记期限限制了布图设计在商业利用中的灵活性。一旦超过这个期限，即使布图设计在市场上具有巨大潜力，也将失去登记保护的机会。

2.2 拖延商业利用的时间

《华盛顿条约》规定布图设计专有权可以以登记作为保护条件，也可以以第一次投入商业利用时产生。我国采用登记保护原则，在《条例》颁布初期，即便法律赋予布图设计以知识产权保护，可凭借商业利用登记期限的限制条款，使部分没有及时登记的布图设计得以自由利用，以平衡在技术发展不利条件下，布图设计按照国际高要求的保护水平带来的过度保护。如今此条款的立法目的已不能适应现实需求，在先投入商业利用会使布图设计进入不受《条例》保护的“真空”状态，布图设计者为了实现布图设计的全面保护，取得更长的保护期限，可能会先进行登记而再投入商业使用，这拖延了商业利用的时间。

登记保护与商业利用的冲突在司法实践中也有所体现。2009年原告广东省深圳市天微电子有限公司（以下简称“天微公司”）诉被告广东省深圳市明微电子股份有限公司（以下简称“明微公司”）布图设计专有权侵权案中，双方都申请了布图设计登记，天微公司的布图设计先投入商业利用而后登记，但明微公司的布图设计申请登记日期早于天微公司申请登记日期2个多月。天微公司以商业利用早于被告的登记时间主张明微公司侵权，最后深圳市中级人民法院以明微公司的申请日早于原告，判决不构成侵权①。即使商业利用在前也不构成侵权，原因在于布图设计申请人在登记申请日前不享有布图设计专有权。简言之，即使商业利用日早于登记日也无法对抗登记的效力。这个案例是登记保护与商业利用冲突的直接体现。登记保护与商业利用的冲突不是个例，2006年因《条例》第17条，我国首次对集成电路布图设计启动撤销程序。但因有关商业利用的证据链不完整，无法确认该布图设计在申请日之日起2年前已投入商业利用，最终决定维持布图设计专有权②。可见，布图设计登记保护与商业利用的冲突早已产生，且一直没有得以解决。

《条例》的立法目的是鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展。《条例》只把登记作为权利保护的唯一依据，对于完成创作后未能及时登记而投入商业利用的主体就此丧失登记的权利，不利于保护在先创作人的权利，也不利于促进布图设计相关技术的成果转化，让本就更新迭代迅速的集成电路技术因登记等因素，拖延了商业利用的时间。

3 化解登记保护与商业利用冲突的建议

3.1 取消布图设计登记期限的限制

建议对第17条进行修改，取消登记期限的限制，以适应商业利用的实际需求。布图设计及时投入商业利用可促进技术更快发挥经济效能和社会效能，但是已经投入商业利用且未登记就不在《条例》的保护之下，显然与法律鼓励创新和促进科学技术转化的精神相背离。对布图设计专有权的保护应该考虑在登记之前已投入商业利用的权益人的一定权利，从而激励布图设计产业创新，提高布图设计的利用率，促进科技成果转化为现实的生产力。

我国采用登记作为受保护的程序条件，排除对投入商业利用后没有完成登记的布图设计的保护，以平衡在技术发展不利条件下，布图设计按照国际高要求的保护水平带来的过度保护。从布图设计登记权利的名次看，美国亚德诺半导体公司作为布图设计权利主体，2001年至2021年布图设计总量为943项，居于布图设计权利人登记数量之首，外国主体在我国布图设计登记中具有明显优势。由此可见，发达国家在知识产权的登记保护上本就具有很强的主动性，如今利用此项规定很难达到排除相关技术受我国法律保护的目的。而国内众多的权利主体在知识产权保护方面，对于积极登记的意识尚显不足。加之布图设计更新迭代迅速，登记过程可能会影响其商业利用的时效性。因此，应修改《条例》第17条关于登记期限的要求，取消登记期限的限制，采用正向引导方式，激励布图设计权利人积极登记，使布图设计权利人积极创新的同时又能将设计出的布图设计及时投入商业利用进行成果转化。通过修改集成电路布图设计法律制度，有利于强化集成电路产业知识产权保护［9］。

3.2 明确登记保护与商业利用的平衡点

一味地强调登记保护并非促进产业发展的正确之道，还应注重促进知识产权的创新和知识的流通［10］。《条例》第12条规定：“布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准…。”但布图设计在登记申请日前投入商业利用的，布图设计申请人在登记申请日前不享有布图设计专有权，这不仅产生了保护期计算与专有权生效起止时间的矛盾，还可能导致布图设计权利人为了获得更长的保护期限而选择先登记后投入商业利用。布图设计的登记与商业利用相比，登记仅是一些程序要求，只要按照法律规定完成相应的手续就能实现。但是布图设计商业利用的难度高于登记，知识产权不能仅以登记保护为目的，还应重视知识产权成果的运用。成果的转化利用对产业的可持续发展和技术的进步具有导向性，更能发挥知识产权的内在价值，比登记更具难度。现有的法律规范的侧重点往往是对布图设计的保护，这种“重保护”而“轻应用”的失衡理念导致布图设计专门法在实践中显得无足轻重。为了实现登记保护与商业利用的平衡，应对登记前已投入商业利用的布图设计以一定的权利效力倾斜。例如，投入商业利用后一定期限内进行登记并获得授权的布图设计专有权，可以以第一次投入商业利用的时间计算其保护期限。

荷兰、美国等国家的法律采用使用与登记取得的立法模式，该种方式是对登记取得制的一种补充和修正，主要为首次商业利用但未进行登记的布图设计提供特别补救程序［7］。这种保护模式很好地平衡了登记保护与商业利用的关系，为我国法律修改提供了借鉴。当然，布图设计专有权以第一次投入商业利用时产生打破了布图设计登记产生的基本要求，需要对此加以限制。首先，布图设计在投入商业利用后一定期限内必须申请登记，并且在发生争议时只有经过形式审查予以登记的布图设计才能得到保护。这是防止布图设计权利人把权利保护的希望全部寄托于商业利用，而忽视知识产权依法产生的必要要求。除此以外，布图设计的登记内容须与投入商业利用的布图设计的权利范围一致，如果发生登记与商业利用不一致的情形，要明确以登记的权利范围作为判断依据。提出这点是为了防止布图设计权利人随意扩大权利保护的范围而限制了其他权利主体的合法利益。

集成电路布图设计专有权包括复制权和商业利用权，商业利用权作为布图设计专有权的权利内容，是布图设计实现其知识产权成果价值的重要途径。布图设计专有权的保护与专利保护是不同的，专利权被授予后，其他人即使独立完成了与专利技术相同的技术也不得投入商业利用。布图设计人通过向国家知识产权行政部门登记获得专有权保护后，并不排斥其他民事主体通过独立创作的方式创造出与其完全相同的布图设计。《条例》要求布图设计专有权客体具有新颖性和创新性，其权利必须通过登记取得。布图设计登记保护是法律规定权利产生的必要条件，布图设计的商业利用是布图设计权利的内容，两者之间应保持平衡，既实现全面保护布图设计，又能促进布图设计在获得保护的情况下尽快投入商业利用，实现成果的转化利用。

3.3 引导布图设计权利人积极登记

布图设计登记具有重要意义：第一，明确权利归属；第二，登记是维权的有力武器；第三，提升客体价值。因此力求布图设计登记保护与商业利用平衡的同时仍然要引导布图设计权利人通过登记手段获取权利，更好地推动布图设计专有权的保护与运用。

化解布图设计登记保护与商业利用的冲突并非主张布图设计权利人可以不登记，也并不认同直接以商业利用作为权利产生的依据。布图设计作为知识产权的客体之一，是依法产生的权利，登记保护制度有利于提前明确权利保护范围，登记备案作为布图设计法定赋权要求具有重要的意义。无论是设置登记期限还是取消登记期限，或是以投入商业利用作为权利产生的依据，都是为了平衡登记保护与商业利用，防止因过度依赖登记制度阻碍了布图设计的成果转化。但无论如何，布图设计权利人都应在合适的条件下积极登记，通过登记全面享有权利，实现权利的自由行使。因此，布图设计权利人要加强登记保护意识，对于自身研发创作的布图设计及时向国家知识产权局申请登记。达到布图设计登记保护与商业利用之间的平衡，仍然要引导布图设计权利人积极通过登记程序明确自己的权利范围。

4 结论

《集成电路布图设计保护条例》第17条在保护布图设计专有权的同时，也带来了与商业利用的冲突。通过取消布图设计登记时效的限制、明确登记保护与商业利用的平衡点、引导布图设计权利人积极登记，有效化解这些冲突，促进集成电路产业的持续健康发展。国内有部分学者认为《条例》所起的作用有限，行业经过自身发展已经能够避免布图设计侵权问题，不必浪费立法资源对现有规定做出修改。但这是由于现有布图设计的技术水平超过了制备设施和制造工艺的技术水平，一旦今后制备设备和制造工艺技术得到提升，那么布图设计侵权问题又会再次出现。法律的规制应具有前瞻性，《条例》是工业版权法的一次有效探索，应当在此基础上继续修改完善，以应对今后可能会出现的新局面。未来，随着技术的不断进步和市场的日益变化，《条例》做出的适时修改将会更好地促进布图设计专有权的保护与运用。

注释：

①参见广东省高级人民法院（2010）粤高法民三终字第256号民事判决书。

②参见原国家知识产权局专利复审委员会集成电路布图设计撤销案件审查决定（第0001号）。

参考文献：

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