Ku波段 GaN 单片低噪声放大器的研制

2017-06-27 00:58彭龙新凌志健
电子与封装 2017年6期
关键词:噪声系数低噪声单片

刘 昊,彭龙新,牛 超,凌志健

(南京电子器件研究所,南京 210016)

Ku波段 GaN 单片低噪声放大器的研制

刘 昊,彭龙新,牛 超,凌志健

(南京电子器件研究所,南京 210016)

研制了一款 Ku 波段 GaN 单片低噪声放大器,该放大器采用了 GaN 0.25 μm Ku 功率工艺,工作电压为 10 V。在 12~18 GHz 频带内,噪声 NF≤2.9 dB,增益 G≥20 dB,输入驻波比 VSWR1≤1.8,输出驻波比 VSWR2≤1.5。该芯片在 16 GHz 下,承受 38 dBm 的大功率输入脉冲 (周期为 1 ms,占空比为 10%) 10 min,经测试未发现低噪声放大器芯片烧毁的现象。

低噪声放大器;耐功率;GaN;单片

1 引言

低噪声放大器广泛应用于通信、微波测量、雷达等接收系统中,作为接收系统的第一级,对整个接收系统起到重要作用。GaAs低噪声放大器承受功率有限,一般不超过 20 dBm[1],T/R 组件需要在低噪声放大器前端增加限幅器,这就增加了额外的噪声、体积和成本,而 GaNHEMT 可以承受很大的输入功率,在耐功率要求不高的情况下可以省去限幅器,会得到更好的低噪声性能。近几年介绍 GaN 低噪声放大器的文章中,其可承受输入连续波功率的有 31 dBm、33 dBm、36 dBm、37 dBm,脉冲输入则可以达到 46 dBm[1~5],所以对 GaN LNA 的研究很有意义。

本文采用 0.25 μm GaN Ku 功率工艺研制了一款12~18 GHz的低噪声放大器,主要设计指标为:噪声系数 NF≤3 dB,增益 G≥20 dB,增益平坦度为±1 dB,输入驻波比 VSWR1≤2.0,输出驻波比 VSWR2≤1.8。输入38 dBm 的脉冲信号(16 GHz 下周期为 1 ms,占空比为10%),耐功率 10 min 后,经测试未发现低噪声放大器芯片烧毁的现象。

2 低噪放的设计

2.1 放大器结构的选择

低噪声放大器的拓扑结构有电抗匹配式、反馈式、分布式、平衡式等,各种结构各有优点。

此次采用的是负反馈结构。引入负反馈结构可以改善放大器的增益平坦度、晶体管的稳定性和输入输出匹配,为放大器提供更宽的频带,并在一定程度上降低对工艺的敏感度。

偏置电阻可以使电路的第一级增加一定的承受功率能力,三级放大器均采用自偏置结构。级联结构的噪声系数为:

其中 Fi表示的是第 i级的噪声系数,Gi表示第 i级的增益。式(1)中放大器的噪声主要由第一级决定,所以第一级最小噪声电抗匹配,增益尽可能高;后两级采用并联的负反馈,设计成正斜率增益,以补偿前级的负斜率增益。

2.2 GaN HEMT 工作状态的选择

该 放 大 器 三 级 均 使 用 4 μm ×50 μm 的 GaN HEMT,为了使放大器性能达到最佳,对管芯的微波特性进行测试分析,确定其最佳静态工作点。测得在16GHz下,栅极电压为-1.8 V 时,不同漏极电压下的最小噪声系数和相关增益如表1 所示。在漏极电压为 9 V 时,其最小噪声系数为 0.99 dB。从表1 中还可以看出,在栅压为-1.8 V 时,漏极电压对噪声和增益影响不大。在这个条件下,低噪声放大器正常工作,具有良好的噪声系数和增益。

表1 GaN HEMT 在不 同漏压下的噪声 系数和相 关增益(16 GHz,Vgs=-1.8 V)

2.3 低噪声放大器的仿真设计

低噪声放大器的第一级使用最小噪声系数匹配技术[6],后两级采用负反馈技术。

对于第一级放大器,输入端要进行噪声匹配,根据式(1)可知,第一级放大器的增益对整个放大器的噪声产生较大的影响,所以需要在增益和噪声性能上进行折中设计。

如图1 所示,X 曲线是 GaN HEMT 在漏极电压为9 V、栅极电压为-1.8 V 时 12~18 GHz 范围内最佳噪声反射系数 Γopt;Y 曲线是在 HEMT 管加入自偏置反馈网络后,在频带内的最佳噪声反射系数。输入匹配按照 Y 曲线进行匹配,但是需要对输入驻波比、电路稳定性和增益性能进行折中。图2 是 GaN HEMT 源极增加了自偏置结构,在 14 GHz 时 Smith 圆图上的等噪声圆和等增益圆。m2 点是最佳增益点,为 12.93 dB, m3 点是最小噪声点,最小噪声系数为 0.96 dB。

图1 12~18 GHz 下 GaN HEMT(X)、管芯加入自偏置网络(Y)的 Γopt

图2 14 GHz下的 HEMT 加源极自偏网络的等增益圆和等噪声圆

在放大器的设计过程中,需要对噪声、增益的阻抗匹配之间采取折中的方式,对于低噪声放大器的第一级,要选取一个更靠近最小噪声匹配的输入阻抗,但是也要考虑到增益对整体噪声系数的影响。在 15 GHz的频率点,将噪声系数 NF 调整到 1.25 dB,增益 G 调整到 6.6 dB,输入驻波调整到 1.6。如图3 所示是第一级放大器在整个频带内的增益和噪声系数,可以看出其噪声系数小于 1.9 dB,增益大于 5 dB,其增益平坦度很差,呈负斜率状态,需要后两级放大器对其进行调整。

图3 第一级放大器的增益和噪声系数

第一级放大器的设计中得到了较低的噪声系数和较高的增益,放大器后两级采用并联负反馈的结构,形成正斜率增益,来补偿第一级增益的负斜率,同时也增加放大器的增益。

如图4所示为三级低噪声放大器的电路拓扑图。调整图中的后两级负反馈阻抗 Rf1、Rf2可以改善整个放大器增益平坦度,使得增益向正斜率方向倾斜,平衡第一级的负斜率增益。图中的 Rd1是第一级放大器漏极与外接电源之间的小电阻,主要可以增加放大器的稳定性,防止低频端自激的产生。在第一级放大器栅极接地电感上的串联 RC,也可以防止放大器低频自激的产生。三级的级间匹配和输出端匹配均采用了电容电感的串联结构。

图4 三级放大器的电路拓扑结构

通过 ADS 进行版图仿真,结果如图5 所示,设计的放大器增益在 23~24 dBm 之间,具有较好的平坦度,噪声小于 2.5 dB,输入驻波比 VSWR1≤2,输出驻波比 VSWR2≤1.8,满足设计要求。

图5 三级低噪声放大器的仿真结果

上面设计的是采用 0.25 μm 功率 GaN HEMT 的工艺,如果采用低噪声材料和低噪声工艺,能够降低放大器的噪声系数。由 Fukui噪声模型推导出[7]:

式中,Ids为漏极电流,Lg为器件栅长,vsat为沟道中的载流子饱和速度,Ec为载流子速度饱和时对应的临界电场,Rs和 Rg分别为源极和栅极的寄生电阻。

从式(2)中可以看出,缩短栅源、栅漏间距,可以减小栅、源的寄生电阻 Rs和 Rg,从而降低 GaN HEMT 的噪声系数。选用合适的栅金属和增加栅厚度可以降低栅极寄生电阻。栅长 Lg从 0.25 μm 缩短到 0.15 μm,则管芯噪声系数将降低 20%以上。

3 GaN 低噪声放大器的测试结果和分析

3.1 低噪放性能测试结果

一款基于 0.25 μm 的 GaNHEMT 单片低噪声放大器,经过调试后,外加 10 V 的电压。如图6 所示,在工作范围 12~18 GHz 内,噪声系数 NF≤2.9 dB,增益G≥20 dB,输入驻波比 VSWR1≤1.8,输 出 驻 波比VSWR2≤1.5。

图6 LNA的小信号性能参数

图7 显示低噪声放大器输出 1 dB 功率,在频带范围内基本稳定在 17 dBm 以上。

3.2 可承受功率的测试结果

对低噪声放大器进行了耐功率测试,采用 16 GHz下周期为 1 ms、占空比为 10%的脉冲输入信号,输入功率从 30 dBm 到 39 dBm,每次递增 1 dBm,在每个功率下进行 10 min 耐功率测试,在测试过程中发现低噪声放大器始终处在外加 10 V工作电压的状态下。图8(a)中可以看出随着输入信号功率的不断增大,输出功率是逐渐变小的。图8(b)中的 Id1表示静态工作电流,Id2表示输入功率后的工作电流,随着输入功率增大,放大器耐功率时的工作电流会逐渐减小。

图7 低噪声放大器的1 dB压缩电平

图8 16 GHz、周期 1 ms占空比 10%的脉冲信号下输入、输出功率之间的关系和输入功率前后工作电流变化量

图9 是耐 38 dBm(其他条件同上)前后的噪声系数和增益的对比图,其中增益下降在 1 dB 以内,而噪声变大在 0.7 dB 以内(14 GHz)。增益和噪声系数发生一定变化,是因为对低噪声放大器进行耐功率时,第一级 HEMT 的栅极会产生一个流入管芯的电流,这个电流会使第一级的 HEMT 加快老化,从而导致放大器性能短时间内就发生一些变化。

图9 低噪放承受 38 dBm 前(a)后(b)的噪声系数和增益对比

4 结论

基于 0.25 μm GaN Ku 功率 HEMT 工艺,研制了一款低噪声放大器,在 12~18 GHz 条件下,噪声系数NF≤2.9 dB,具有 20 dB 的增益,并且还进行了良好的输入输出匹配。

该放大器具有较好的耐功率特性,可以承受16GHz、38 dBm 的 1 ms 周期 10%占空比的脉冲信号 10 min的冲击,使得 GaN 低噪声放大器在一些条件下可以省去前端的限幅器,降低了系统的噪声。

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Ku-Band GaN Low-Noise Amplifiers MMIC

LIU Hao,PENG Longxin,NIU Chao,LING Zhijian
(Nanjing Electronic Devices Institute,Nanjing 210016,China)

A Ku-band GaN monolithic-microwave integrated-circuit low-noise amplifier is designed and fabricated using GaN 0.25 μm technology.The amplifier working at10 V with a current160 mA has a noise figure below 2.9 dB,a gain over20 dB and input/output VSWR less than 1.8/1.5 from 12 GHz to 18 GHz.The amplifiercan endure 38 dBm ofinputpulse power(1 ms period and 10%duty ratio at16 GHz)for10 minutes.

low-noise amplifier(LNA);endurance;GaN;MMIC

TN722.3

A

1681-1070 (2017)06-0027-04

刘 昊(1991—),男,吉林省吉林市人,2014 年本科毕业于西北工业大学电子信息学院电磁场与无线技术专业,现为南京电子器件研究所在读硕士研究生,研究方向为微波毫米波单片集成电路。

2017-3-27

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