赢创开发显示器用半导体涂覆新技术
2016-03-15 04:53:15贾磊
无机盐工业 2016年1期
赢创开发显示器用半导体涂覆新技术
作为手机、笔记本、台式机的主流显示设备，薄膜晶体管（TFT）发挥着重要的作用。目前，企业多采用非晶硅（a-Si）和低温多晶硅（LTPS）以提升TFT半导体的性能，但在性能和尺寸方面仍受到较多限制。金属氧化物作为半导体材料可有效提升平板显示器的迁移率，满足高解析度平板显示器的要求（＞10 cm2/Vs）。与硅半导体TFT相比，金属氧化物半导体具有能耗低、待机时间长、加工和使用便捷等优点。赢创工业集团利用独有的技术开发了金属氧化物半导体材料iXsenic S，该半导体并未采用较为普及的气相沉积法（CVD），而是通过涂覆技术形成半导体层，不仅拥有和CVD法相媲美的效果，且成本大大减少，此外实现了不同尺寸的可控生产。预计在未来几年内，iXsenic S有望投入市场。
贾磊译自www.ixsenic.com.2015-12-17
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