采用回转窑制备四氟化硅的方法

本发明公开了一种采用回转窑制备四氟化硅的方法，该方法是将氟硅酸钠与硫酸预反应后送入回转窑中进一步反应，回转窑窑内压力为-5～-2 kPa，窑内由前向后3段分别控制温度在 160～190℃、191～220℃、221～250℃， 反应完成后，将四氟化硅与HF混合气分离。本发明采用回转窑作为反应设备进行反应，原料可采用磷肥厂的副产物氟硅酸钠，且装置主要固废硫酸钠仍可被磷肥厂回收用来生产氟硅酸钠；本发明通过设计三段式加热方式，使得原料充分反应；另外，全过程无难处理的“三废”，无需废酸浓缩装置，大大节省了装置投入。