宋晓侠,郭陈江,丁 君
(西北工业大学电子信息学院,陕西 西安 710129)
在许多工程应用中,通常要求阵列天线要有窄的扫描波束和低的副瓣。同均匀阵列天线相比,非均匀阵列天线自由度更大,因而能在减少天线阵列建造成本、降低系统复杂度的同时,满足工程要求[1]。
非均匀阵列天线的综合问题(给定阵元数和阵列响应,确定位置和激励分布)一直未得到很好的解决。由于非均匀阵列天线的最大相对旁瓣电平是阵元位置的非线性函数,没有现存的解析方法来确定最大相对旁瓣电平,也就是说,即使已知所有阵元的位置,也没有可凭借的解析方法来求得最大相对旁瓣电平出现的位置,因而阵元间距的优化是一个非线性问题[2],一直都是非均匀阵列天线研究的难点和重点。
虽然已有许多经典的优化方法(如微扰法、穷举法及统计法等)可以借用,但随着计算机技术的发展和天线系统变得复杂,越来越多的优化方法用于阵列天线的综合,常见的有共扼梯度法、拟牛顿法、神经网络、单纯形法、遗传算法和模拟退火法。差分进化算法(Differential Evolution,DE)是由 R.Stone和K.Price在1995年提出的一种简单而高效启发式的全局优化算法[3],在1996年的国际进化优化竞赛上,DE表现优异,被证明是最快的进化算法之一。差分进化算法具有参数少、算法简单、易编程等优点,对于高维、非线性及不可微等特性的函数优化问题表现出极强的生命力,因而广泛应用于各个领域。与遗传算法相比,收敛速度更快,且易于其他方法相结合[4],而且此算法无论在数学还是在天线阵列优化[4-5]方面都有很好的鲁棒性。标准的DE算法一个重要缺陷就是在求解后期收敛速度较慢,对于有些多峰复杂函数容易出现“早熟”现象,文献[6]针对这一缺点设计了一种快速高效的差分进化算法。目前该改进算法尚未在天线领域中应用,因此,将该改进的差分进化算法引入到非均匀线阵综合。
考虑优化的不对称非均匀线阵如图1所示,阵列的孔径为L,阵元数为N(N为正整数),为了保证阵列的孔径为L,令dN=L,d1=0,取阵元位置为(d2,…,dN-1),满足 min {di+1-di≥d} ,使该线阵的最大峰值旁瓣电平(maxPSLL)最低。取阵元位置为优化变量,且In为第n个电流激励,u=cosθ,θ是扫描角,0≤θ≤π,k=2π/λ,u的取值区间排除主瓣区域,各阵元的激励等副同相,即In=1(n=1,…,N),则非均匀线阵的方向图为:
图1 不对称非均匀线阵的结构Fig.1 Geometry of non-uniformly linear asymmetric array
以降低非均匀线阵的峰值旁瓣电平(PSLL)为优化目标,依据最大峰值旁瓣电平构造适应度函数:
式(2)中,fmax为主瓣峰值。
目标函数为:
标准DE算法首先要随机产生一个种群,然后对种群中的个体进行变异、交叉和选择操作,从而产生新的一代,如此反复迭代最终收敛到最优个体[7]。具体操作如下:
1)变异操作
对每个目标矢量变异如下
式中,r1、r2、r3∈ [1,2,…,N]为随机选择的不同于i的互不相同的3个数;di(n)为第n代产生的新个体,F ∈ [0,2]为缩放因子。
2)交叉操作
对于目标矢量di(n),将与式(1)中产生的变异矢量Di(n+1),按如下规则进行交叉产生实验矢量:
式中,R∈[0,1]为交叉概率因子。
3)选择操作
DE在交叉操作之后,通常采用贪婪选择产生如下子代:凡交叉后所产生个体之目标函数优于其父体,就代替父代进入再下一代循环;否持父代不变。
针对标准DE算法易陷入早熟的缺点,在变异和交叉操作中引入文献[6]提出的自适应缩放因子F及交叉概率因子R:
式中,Fmax为0.6,Fmin为0.2,Rmin为0.2,Rmax为0.9,nmax为迭代的最大代数。缩放因子F和交叉概率因子R的大小对算法的收敛性和收敛速度有极大的影响。为了在搜索的初始阶段保持种群的多样性,进行全局搜索,而在搜索的后期应加强局部搜索能力和加速收敛速度,以提高算法的精度。该改进DE算法能够很好地平衡局部搜索能力和全局搜索能力。该改进算法的具体步骤如下:
1)创建初始群体;
2)计算群体中个体的适应度;
3)判断是否满足收敛准则,若满足则输出最佳个体,否则继续迭代;
4)自适应变异操作;
5)自适应交叉操作;
6)选择最佳个体作为新父代;转到第2)步骤。
将该改进的差分进化算法用来综合非均匀线阵,在进化过程中增加了改进DE算法预处理和后处理两个步骤,因而在优化过程中不需要反复测定阵元是否满足条件,简化了优化过程。具体描述如下:
1)初始群体的创建
该直线阵的优化参数即各点源的坐标di,在[0,L]的范围内随机产生,并在优化的过程中不断趋近于最优值。无论是随机产生的还是进化得到的最优值di,都需要测定其是否满足最小间距条件,这样会使优化过程非常复杂。非均匀线阵的约束条件为:为了从物理上保证最大阵列孔径,在两端各放置一个阵元,即,dN=L,d1=0,假设前N-1个阵元都向后占据长度为d,则共有(N-1)d的区间上不能分布阵元,这样孔径上共剩余的区间为:S=L-(N-1)d,在区间[0,S]上随机生成N-2个随机数并按照从小到大的顺序排列,这样即可生成阵元向量:
不难证明,上述方法生成的个体满足了阵元数为N,孔径为L,最小阵元间距为d。再根据上述描述,可以随机生成M个向量X构成初始种群。
2)改进DE算法预处理和后处理
由于阵列的阵元间距约束,通过通用的DE算法交叉变异得到子代群体很有可能不再满足阵元间的距离约束。为了避免该问题的出现,需要对父代群体进行差分操作预处理提取基因信息,然后对基因信息进行自适应交叉和自适应变异两种差分操作,最后对新的基因信息矩阵进行差分操作后处理,得到子代群体。
令由阵元数N和最小阵元间距d确定的数量矩阵为约束矩阵:
定义1:由选择后的形式如F父代群体F1到差分操作(广义交叉和广义变异)前的基因矩阵P的如下变换为DE算法操作预处理:
定义2:交叉和变异操作之后的基因信息矩阵P1到子代群体F2的DE算法操作后处理:
3)改进DE算法的变异和交叉操作
通过预处理得到的父代个体,按照式(4)进行自适应变异操作,产生变异矢量Di(n+1),自适应缩放因子F由式(6)确定。再判断变异矢量是否在[0,S],若不在,将变异矢量用[0,S]区间内的随机数取代,最后对该变异矢量的元素从小到大排列;对于目标矢量和变异矢量按照式(5),产生实验矢量Ui,j,其中自适应交叉因子按照式(7)确定。
为了验证改进的DE算法在天线应用中的有效性和稳健性,下面用它综合两例线阵具有不同阵元数同一孔径非均匀线阵,并分别与同一孔径同一阵元数的均匀线阵进行比较。
仿真实例1:对于阵列孔径为9.744λ(λ为波长),阵元数为17,任意阵元间距不小于0.5λ的非均匀线阵。算法的基本参数为:种群数为100,终止代数为300,采用截断选择,截断阀值为0.5。为保证该方法的有效性,随机进行了9次仿真实验,表1列出了优化后的PSLL最优线阵的阵元坐标和阵元间距,PSLL值为-20.080 1dB,图2为最优非均匀线阵和均匀线阵方向图。仿真结果表明:该方法可用于非均匀天线综合,有效地降低阵列天线最大旁瓣电平。
表1 仿真实例优化的阵元坐标Tab.1 The element positions in simulation
图2 阵元数为17均匀阵与非均匀阵方向图比较Fig.2 Comparison of Radiation pattern for the non-uniformly and uniform 17-element array
仿真实例2:图3为阵列孔径为9.744λ(λ为波长),阵元数为10的均匀阵列和非均匀线阵的方向图,算法参数与仿真实例1相同。从图中可以看出,均匀阵列的方向图会出现栅瓣,而DE优化的非均匀阵列没有,因此该方法能有效避免栅瓣。图4为仿真实例的收敛曲线,可以看出该方法具有高鲁棒性,快速达到预期目标。
图3 阵元数为10均匀阵与非均匀阵方向图比较Fig.3 Comparison of Radiation pattern for the non-uniformly and uniform 10-element array
图4 DE收敛曲线Fig.4 Convergence characteristics of DE
仿真实例3:运用遗传算法(GA)综合仿真实例1,GA的基本参数为:种群数为200,最大迭代次数为300,采用截断选择,截断阈值为0.5,单点交叉,交叉概率0.6,变异概率为m =0.3-0.29n/nmax,随机运行9次。图5为DE和GA算法随机运行9次最大旁瓣电平值对比,由图可知,DE算法得到的结果比GA算法更优,算法更加稳定。
图5 GA和DE算法运行9次的maxPSLL对比Fig.5 Contrast of maxPSLL by GA and DE running nine times
本文将改进的差分进化算法引入非均匀阵列综合。该改进的DE算法在天线综合过程中,增加了预处理和后处理两个步骤,简化了综合过程。仿真结果表明:该方法能有效地改善其阵列天线的性能,迅速找到最佳阵列天线单元的位置,简单实用,快速有效,鲁棒性和稳定性好,为解决天线综合这一问题提供了有益的参考。
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