镍修饰二氧化钛(100)表面的电子结构

2010-01-04 08:03陈书鸿李廷真
重庆三峡学院学报 2010年3期
关键词:锐钛矿二氧化钛能级

陈书鸿 付 川 潘 杰 李廷真

(重庆三峡学院化学与环境工程学院,重庆万州 404100)

锐钛矿TiO2具有价廉易得、使用稳定、无毒及光活性较高等特点,被认为是有机污染物降解的理想光催化剂,因而得到广泛的关注.[1-8]大量的研究表明,TiO2的光催化活性与其表面性质密切相关,在表面掺杂离子或者淀积贵金属能够增强其光催化活性.[4-7]但前期的研究[2-7]未能在电子结构基础上详细解释其机理.因此深入研究TiO2表面电子结构对了解光催化活性及反应机理显得十分重要.锐钛矿型TiO2的(100)表面具有特殊的结构,[4]能够增强催化剂的活性[8]以及在太阳能电池中的应用,[8]引起了研究者们的极大兴趣.Ruzycki等[9]首先应用STM研究了其表面原子结构,发现未存在明显的点缺陷,但未给出表面原子弛豫数据.基于密度泛函理论,Lazzeri等[10]和 Labat等[11]研究了锐钛矿型(100)表面的几何结构和能量;Calatayud等[12]研究(100)表面的几何结构、能量和电子结构以及吸附H的情况.

然而,目前对清洁(100)表面的理论研究并不充分,例如:Lazzeri等[10]发现表面二配位的O向外弛豫约0.02 Å,Calatayud等[12]发现它向外弛豫约0.11 Å,而Labat等[11]发现它向内弛豫约0.01 Å.为了弄清楚理想(100)表面的原子弛豫情况,以及掺杂或淀积某些金属后电子结构有何变化,对光催化活性有何影响等问题,因此,本文构建锐钛矿(100)表面 Slab周期模型,采用基于密度泛函理论的第一性原理计算了(100)表面的几何结构及电子结构,以及掺杂、淀积后的电子结构,并分析了其光催化性能.

1 结构模型与计算方法

锐钛矿型TiO2的晶格常数[4]为a = b = 3.782 Å,c = 9.502 Å,γ= 90°.建模使用Materials Studio软件,计算工作采用CASTEP程序包.首先采用多种计算方法对单胞晶体结构(包括晶格常数)进行优化,Ecut= 380.00 eV,自洽精度1.0E-6 eV/atom,k点设为7×7×3,结果见表1.

从表1可以看出,采用GGA-WC泛函获得的结果与实验值相比,误差分别为0.05%,0.6%,0.7%,0.4%.在此基础上构建(100)表面周期性slab(2×1)超胞模型,真空层厚度1 nm,选取模型原子层数分别为4、6、8层,因为(100)表面的原子层为间隔重复,所以选取偶数层,增强其原子对称.使用GGA-WC方案分别进行结构优化.采用平面波超软赝势方法,优化算法为BFGS,基本设置为Fine,平面波截断能Ecut设为340.00 eV,能量收敛为1.0E-6 eV/atom.图1所示(100)表面的原子层数为 6层,化学计量式Ti24O48.

2 计算结果与讨论

2.1 清洁表面的原子几何结构及电子结构

优化表面结构后,表面原子的弛豫数据如表 2所示.从表2可以看出:

1)6层和8层模型的弛豫数据很接近文献[10]结果;文献[12]中模型的原子层数偏少,导致弛豫结果相差太大;文献[11]中表面二配位的O有向内的弛豫,可能是模型及计算方法不同引起的.

2)6层和8层模型的弛豫数据很接近,表明要获得可靠的弛豫结果,模型中原子层数需达到一定的厚度.

3)表面原子有较明显的弛豫,但是位移不是很大,没有引起重构现象发生;弛豫后,暴露在最表面的是三配位O原子,因此表面不易形成氧空位,[13]这和实验研究结果相符.[9]

在计算(100)表面的能量及电子性质时,Ecut=380.00eV,k点设为3×3×1,其他设置不变.

表2 锐钛矿(100)表面原子弛豫数据与文献报道值的比较(单位Å)

图2是(100)表面的能带结构和分波态密度图,从图2可以看出,在(100)表面没有出现表面态,表面态密度和体相很相似,说明(100)表面能够稳定存在.(100)表面的能带相对平滑一些,根据载流子的有效质量和能带形状的关系,可以推断(100)表面的载流子有效质量较大,迁移速率较低.计算的(100)表面Egap = 2.29 eV,很接近体相的计算值;[14]费米能级EF= 1.2144 eV.从图2(b)可以看出,(100)表面的价带能量在-5.10 eV~0.00 eV,主要由O2p构成,Ti3d有较弱贡献;导带在2.21 eV~3.63 eV,主要由Ti3d构成.O2s与价带相差约10 eV,可以判断O2s对价带无影响.

2.2 镍修饰表面的原子几何结构、能量和电子结构

淀积分为2种方式,其一是负载在表面2配位O,其二是负载在表面3配位O.对淀积Ni的表面进行了结构优化,结果表明淀积Ni后,表面原子的几何位置相对清洁表面发生了变化,详见表 4.这可能是因为Ni2+具有较强的极化能力,而导致了键型变异.[15](425-428)

参照文献[16][17]的方法计算了淀积Ni的吸附能,淀积在2配位O的Eads = -2.40386 eV,Ni-O10的键长为1.743 Å,键布居数为0.37.淀积在3配位O的Eads = -2.20734 eV,Ni-O13的键长为1.779 Å,键布居数为0.26.这说明Ni能稳定地吸附在(100)表面,与表面 O以化学键方式连接.这和文献[7]的研究结果相符.

计算的费米能级分别为EF3c= 0.4997 eV,EF2c= 0.7037 eV,均小于表面的费米能级.费米能级降低后,半导体的能带就将向上弯向表面生成损耗层,形成Schottky能垒,Schottky能垒能有效地阻止电子-空穴在结合,[18](10-200)这样可以提高载流子的产率.

图3是淀积Ni后的能带结构图,从图3(a)、(b)可以看出,在二氧化钛禁带中出现了杂质能级,这些能级主要是Ni的3d电子态.可以知道这些杂质能级属于施主能级,其电子可以被激发到导带成为电子载流子;很明显,杂质能级显著地减小了禁带宽度,因此,光催化剂对太阳光的光谱响应范围增加了.

图3 淀积Ni后的能带结构图

3 结 论

通过对镍修饰二氧化钛表面的第一性原理计算、分析,本文得到如下结论:

1)清洁(100)表面原子有较明显的驰豫,但没有发生重构;表面的电子结构与体相基本相同,没有出现表面态.

2)镍以化学吸附方式与表面O原子键合;修饰后,费米能级降低,在禁带中出现杂质能级,减小了禁带宽度,增大了吸收光谱范围.

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