邹远来 郭中正 禄露玲 聂贞海 陈方健
(安顺学院电子与信息工程学院,贵州 安顺 561000)
电子功能陶瓷的产值约占现代陶瓷的80%,是微电子工业的基础材料,也是高技术陶瓷研发能力的体现。因具备介电、铁电、压电,压敏、热敏、气敏,以及光电性、热释电性等丰富特质,随着信息技术、智能制造及大数据产业的兴起,全球电子陶瓷产业年增长率达10%,产品附加值不断提高[1]。其中SrTiO3基陶瓷属于电容—压敏复合功能陶瓷,且自复位能力强,在灭弧消噪、电磁兼容(EMC)与元件保护、储能材料等领域应用广泛,在独石化电容器、光催化及光致发光等领域深具潜力[2-4]。其属ABO3型钙钛矿结构,禁带宽度约3.2 eV。SrTiO3基陶瓷的电容—压敏复合功能特性源于其绝缘化晶界和半导化晶粒的微观结构组合[5],因此须进行掺杂改性和微观结构控制,从而实现并提升电学性能。掺杂是影响SrTiO3基陶瓷性能的主要因素,而烧结气氛、烧结温度及时间则显著影响晶粒半导化程度、晶粒尺寸及其晶界特征。因此,合理选取掺杂剂并优化制备工艺是提高其电学性能的关键途径。多种掺杂剂被用于SrTiO3基陶瓷的改性。李建英等[6]研究出碱土金属Ca2+离子掺杂可明显降低SrTiO3陶瓷晶粒电阻率。高淑娟等[7]指出掺Mg2+离子可使SrTiO3介电性提高,而Ca-B-Si 掺杂的SrTiO3陶瓷介电损耗低至7×10-3[8]。韩蕊等[9]研究显示掺质量分数0.15%Nb2O5的SrTiO3陶瓷微波介电性能最佳。在烧结工艺研究方面,非气氛烧结法优势凸显[10]。虽诸多不同掺杂剂和烧结方法已被用于制备SrTiO3基陶瓷,但由于影响其电学性能的因素多且影响机制复杂,迄今仍在优化组分、工艺改进及提升性能方面不断探索,La2O3、Sm2O3等稀土氧化物的添加改性因效应明显而广受关注[11]。本研究选取稀土氧化物Y2O3作施主掺杂剂,探讨其掺杂量及烧结温度对SrTiO3基陶瓷电学性能和微观结构的影响。
本研究的化学原料纯度均达分析纯。主原料SrTiO3粉体由SrCO3和TiO2粉体按等物质的量配料,经球磨均混后用模具压实,在1 200 ℃保温3 h预合成而制备,化学反应式
X 射线衍射仪(TD-3500 型)物相鉴定结果如图1 所示。Cu Kα1谱线,扫描2θ10°~100°,步长0.02°。对比SrTiO3的标准衍射卡(卡号35-0734)并进行标定,未发现其他物相的衍射信息。这表明所合成的SrTiO3原料粉体纯度高,为制样提供了充分保证。
图1 合成的SrTiO3粉料的XRD谱
陶瓷的配方如下:(98-x)mol.% SrTiO3+xmol.%Y2O3+1.0 mol.%MnCO3+1.0 mol.%(Al2O3+H2SiO3),其中x= 0.3、0.6、0.9、1.2、1.5、1.8。MnCO3作受主掺杂剂,(Al2O3+ H2SiO3)为烧结助剂。运用典型电子陶瓷工艺流程,各原料以湿法球磨均混后干燥,加入聚乙烯醇(PVA)造粒,在150 MPa 压强下,压制成Φ10 mm×2 mm 的圆片状坯体,再在N2气氛+石墨(C)形成的炉内弱还原性气氛条件下,于1 350~1 450 ℃保温3 h,降温阶段在1 150 ℃通入纯氧25 min 做氧化热处理。样品烧覆Ag 电极后,选用压敏电阻直流参数仪(CJ1001 型)测试压敏电压V1mA和非线性系数α,用数字电桥(DF2811 型)测试相对介电常数εr和介电损耗tanδ。运用TESCAN VEGA 3 SBU 型扫描电镜对陶瓷自然表面进行形貌和微观结构观察。
经1 350 ℃3 h 保温烧成的SrTiO3基陶瓷的电学性能随Y2O3掺杂量的变化情况如图2 所示。由图2(a)可以看出,随着Y2O3的添加量从0.3 mol.%逐渐增至1.8 mol.%,陶瓷的压敏电压V1mA呈先减小后增大的趋势,0.9 mol.%Y2O3掺杂时V1mA最低(7.5 V)。原因在于Y3+取代Sr2+(A 位掺杂),当Y3+掺杂量较小时呈电子补偿机制,此时Y3+替换Sr2+使得SrTiO3的晶格常数略增加,弱化Ti—O 键从而促进晶格O 挥发、生成自由电子,同时也使Ti 离子的价态发生变化,Ti 的弱束缚电子参与电导。因此,随着Y2O3掺杂量增加,自由电子密度增大,晶粒半导化充分,使压敏电压降低。
图2 SrTiO3基陶瓷的电学性能随Y2O3添加量的变化趋势
但当Y2O3掺杂量过大时,O 空位减少使Sr空位增多,大量空穴与YSr替位缺陷产生了电子缔合,自由电子浓度降低,减弱晶粒半导化程度,压敏电压又上升。陶瓷的非线性系数α 则呈逐渐减小趋势,这是由于α 值主要受控于晶界势垒。Y3+也在晶粒表面与Ti4+发生替位式固溶并产生空穴,随着Y2O3掺杂量增加,晶界空穴浓度不断上升,明显提高表面受主态密度并降低晶界势垒,从而α 值趋于下降[12]。图2(b)则表明,随Y2O3掺杂量增加,相对介电常数εr和介电损耗tanδ总体上均呈上升趋势,且tanδ值与εr值呈正相关。原因在于,Y2O3引入量增多时,晶界层厚度均匀性更好,故εr值增大。但同时晶界杂质和缺陷变多,这导致tanδ值上升。整体而言,掺0.9 mol.%Y2O3的SrTiO3基陶瓷的综合电学性能较好:V1mA= 7.5 V,α= 10.2,εr= 3.4×104,tanδ=2.3×10-2。
用扫描电镜(SEM)的二次电子成像(SEI)模式,观察SrTiO3基陶瓷(经1 350 ℃3 h 烧成)的自然表面形貌,如图3 所示。由图3 可以看出,陶瓷微观结构随Y2O3掺杂量变化而改变。如图3(a)和图3(d)所示,掺0.3 mol.%和1.8 mol.%Y2O3时,平均晶粒尺寸较小,虽晶粒生长较完整、晶界较分明,但晶粒尺寸分布不甚均匀。图3(b)显示,添0.6 mol.%Y2O3时,晶界更加分明,晶界层厚度较薄,但晶粒尺寸不均匀。图3(c)则表明,掺0.9 mol.%Y2O3时,SrTiO3基陶瓷的晶粒形态最完整、尺寸分布较均匀;且晶界最明显,层厚最薄而均匀,微观结构相对理想。该样品综合电学性能较佳,显然与其具备较理想的微观结构密切相关[13]。
图3 Y2O3掺杂量不同时SrTiO3基陶瓷样品表面SEM
为进一步探讨烧结工艺对陶瓷微观结构及电学性能的影响,选取性质最优的配方(0.9 mol.%Y2O3掺杂),适当提高烧结温度(烧结时间仍为3 h)。陶瓷坯体在1 375~ 1 450 ℃温区烧结后,自然表面的SEM 如图4所示。与图3(c)对比可知,提高烧结温度可促进晶粒长大。如图4(a)所示,经1 375 ℃烧成时,晶粒生长较充分、晶界较分明,但晶粒尺寸分布均匀性欠佳。温度升至1 400 ℃,晶界更加分明,但局部界面偏厚,平均晶粒尺寸增大,尺寸分布不甚均匀,如图4(b)所示。图4(c)显示,经1 425 ℃烧结,晶粒生长完整且较均匀,晶界十分明晰且薄而均匀,微观结构较理想。图4(d)则表明经1 450 ℃烧结后,粗大晶粒开始出现,晶粒尺寸分布再度不均匀。可以认为,烧结温度为1 425 ℃时,微观结构最为理想。
图4 掺杂0.9 mol.%Y2O3的SrTiO3基陶瓷经不同温度烧成的样品表面SEM
在1 375~1 450 ℃经3 h保温烧成、掺杂0.9 mol.%Y2O3的SrTiO3基陶瓷的电学性能测量结果如图5所示。可见综合电学性能最优的是1 425 ℃时烧结的样品:V1mA= 7.2 V、α = 10.8、εr= 3.8×104、tanδ=2.1×10-2,显然这本质上源于其微观结构的优化,如图4(c)所示。因此,0.9 mol.%Y2O3掺杂、经1 425 ℃保温3 h 烧结为最优工艺,所制备的SrTiO3基陶瓷综合电学性能最佳。
图5 掺杂0.9 mol.%Y2O3的SrTiO3基陶瓷的电学性能随烧结温度的变化趋势
选取稀土氧化物Y2O3为掺杂剂,用典型电子陶瓷工艺,在N2气氛+石墨(C)弱还原气氛条件下,制备SrTiO3基功能陶瓷。探讨Y2O3掺杂量及烧结温度对陶瓷电学性能和微观结构的影响,得出以下结论。
①在0.3 mol.%~1.8 mol.%掺杂量范围内,随Y2O3掺杂量增加,经1 350 ℃保温3 h 烧结的SrTiO3基陶瓷的压敏电压V1mA先减小后增大,非线性系数α逐渐减小,相对介电常数εr和介电损耗tanδ则总体均趋于增大。掺0.9 mol.%Y2O3时,陶瓷的综合电学性能较好,微观结构较理想。
②烧结温度显著影响SrTiO3基陶瓷的微观结构和电学性能。在1 375~1 450 ℃范围内,适当提高烧结温度有利于获得晶粒生长完整且均匀、晶界薄而明晰的理想显微结构。掺0.9 mol.%Y2O3的SrTiO3基陶瓷经1 425 ℃保温3 h 烧结为优化工艺,综合电学性能最佳:V1mA= 7.2 V、α= 10.8、εr= 3.8×104、tanδ=2.1×10-2。