王思琦,陈元园,冯庆,韩坤炎,沈楚
1.西安泰金新能科技股份有限公司 陕西西安 710201
2.西北有色金属研究院 陕西西安 710201
铜具有优良的综合性能,已经被广泛应用于电器、电子、交通和机械等设备,其中T2铜是阴极重熔铜,含微量氧和杂质,具有高的导电、导热性,良好的耐蚀性和加工性能,可以熔焊和钎焊。主要用作导电、导热和耐腐蚀元器件,如电线、电缆、导电螺钉、壳体和各种导管等[1-3]。同时T2铜还经常被用于钢-铜复合板,即以钢为基体金属、铜作为复合材料冷轧而成,可进行单面或双面复合轧制。但是,T2铜在使用过程中容易出现带状组织等缺陷,这是因为退火工艺不合格使得晶粒粗大且伸长率差。不同的热处理参数对T2铜的显微组织和力学性能影响很大,因此本文采用3种退火工艺对T2铜显微组织和力学性能进行改善,发现当550℃/30min/空冷时,T2铜的晶粒细小且伸长率能达到58%,是最佳的热处理工艺。
试验所用材料为工业轧制纯铜(T2),轧制厚度为6mm,其化学成分见表1。为研究退火温度对显微组织、导电性和力学性能的影响,先用线切割在冷轧板上切出30mm×30mm×6mm的方块板料。本文设计了3种退火处理方案,热处理工艺分别为:①550℃/30min/空冷。②600℃/30min/空冷。③650℃/30 min/空冷。
表1 T2铜的化学成分(质量分数) (%)
试样经过240目、600目、1200目及2000目砂纸打磨处理和机械抛光后,金相腐蚀液为HNO3溶液腐蚀样品(时间为10s),利用OLYMPUS PMG3倒置式金相显微镜观察微观组织形貌,利用Nano Measurer 1.2软件对晶粒尺寸进行统计。
采用上海敏新检测仪仪器有限公司生产的M H V-50显微维氏硬度计对样品进行硬度检测。检测前,对检测面(30mm×30mm)进行240目、600目、1200目及2000目砂纸打磨和抛光处理,选取每个试样中心作为参考坐标原点,在此进行3mm×3mm阵列的取点检测,显微硬度检测参数为:载荷0.1kf(0.98N),保压时间10s。
对试样经过240目、600目、1200目及2000目砂纸打磨处理和机械抛光后,利用Sigma Scope Smp350涡流金属电导仪对铜进行电导率测试,测量5次取平均值作为该位置电导率。
拉伸试验按GB/T 228.1—2021《金属材料 拉伸试验 第1部分:室温试验方法》规定执行,试样结构尺寸如图1所示。试样的承载方向平行于棒材的挤压方向。拉伸试验设备采用美特斯工业系统(中国)有限公司生产的E45.305微机控制电子万能试验机,试验温度为室温,拉伸速率为2mm/min。
图1 拉伸试样结构尺寸
利用日本电子株式会社生产的JSM-IT200SEM扫描电镜对拉伸样断口进行拍照。
图2a~c所示分别为经过550℃/30min/空冷、600℃/30min/空冷、650℃/30min/空冷后T2铜的显微组织。从图2a~c可看出,退火后的显微组织中存在等轴晶和孪晶,这是因为由于铜为面心立方晶系,加工退火后易产生孪晶,故其组织为等轴晶,伴有相当数量的孪晶,并存在明显的位向差。
图2 不同热处理后T2铜的显微组织
图3、图4 所示分别为不同退火热处理后铜的晶粒尺寸和显微硬度。从图3、图4可看出,经过550℃/30m i n/空冷、600℃/30m i n/空冷、650℃/30min/空冷热处理后,铜的晶粒尺寸分别为18μm、42μm、82μm,硬度分别为78HV、72HV、68HV。随着热处理温度升高,铜晶粒增大,但是硬度则降低,这是因为晶粒尺寸越大,细晶强化效果越差[3-5]。
图3 不同热处理后T2铜的晶粒尺寸
图4 不同热处理后T2铜的显微硬度
图5所示为在550℃/30min/空冷、600℃/30min/空冷、650℃/30min/空冷后铜的电导率。从图5可看出,随着温度升高,铜的电导率有所增加,这是因为晶粒粗化使得电子沿晶界迁移能力变强[6-9],电导率升高。
图5 不同热处理后T2铜电导率
拉伸试验后,不同热处理试样形貌如图6所示,不同热处理后T2铜拉伸试样断口形貌如图7所示,拉伸试验结果见表2。
图6 不同热处理后T2铜的拉伸试样
图7 不同热处理后T2铜试样的断口形貌
表2 拉伸试验结果
从图7和表2可看出,经过550℃/30min/空冷、600℃/30min/空冷、650℃/30min/空冷热处理后,T2铜的抗拉强度和屈服强度基本一致。随着热处理温度升高,断后伸长率和断后收缩率逐渐降低,这是因为550℃/30min/空冷热处理后铜的晶粒变小[8-10],所以韧性升高。
通过对不同温度热处理的T2铜进行显微组织和性能检测,得出以下结论。
1)经过550℃/30min/空冷、600℃/30min/空冷、650℃/30min/空冷后,铜的晶粒尺寸分别为18μm、42μm、82μm,硬度分别为78HV、72HV、68HV。
2)经过550℃/30m i n/空冷、600℃/30m i n/空冷、650℃/30min/空冷后,铜的电导率分别为96.21%IACS、99.93%IACS、100.22%IACS。
3)经过550℃/30min/空冷、600℃/30min/空冷、650℃/30min/空冷后,T2铜的抗拉强度和屈服强度基本一致,断后伸长率和断后收缩率逐渐降低。