曹 晖
(1.国家石墨产品质量监督检验中心,湖南 郴州 423000;2.郴州市产商品质量监督检验所,湖南 郴州 423000)
ICP-AES方法广泛用于地质,化学工程和环境保护等科研领域。由于高纯度石墨中的杂质很少,因此使用常规的化学方法或常规冶金方法无法准确检测,这需要检测石墨污染的先进方法。通过实验研究,本文建立了快速,精确测定石墨灰的方法。
本研究中使用的测试材料为湖北金昌天然片状石墨浮选精矿(后称浮选石墨),碳含量为85.792%。经过初步的实验研究,改进了传统的碱苏酸法,在一定的流程图和适当的工艺条件下对浮选石墨进行了精制,固定纯度为99.913%的高纯度石墨,获得碳含量。电子能谱分析仪(EDS)用于研究和确定高质量石墨样品中材料的分布和含量,以用于质量规格和化学测量石墨污染。使用的工具是由英国牛津公司开发的牛津INCA DEA9100能谱分析仪。工作条件:加速电压20kV,12mA电流,35°放电角,30s~50s时间,15mm工作距离,使用纯金属和Co,采集极限约为0.01%,功率谱的分辨率为133eV。感应萃取等离子体光谱仪用于精确确定溶液中的离子浓度,该装置是由美国公司VAR IAN制造的Vari2 715-ES型等离子体的未连接等离子体光谱仪。主要技术参数:分辨率:≤0.004nm,范围:177nm~785nm,临时精度:RSD%-0.5%,长期耐久性:RSD%-1.5%。
首先,检查石墨样品中包含的杂质和污染,然后提取少量石墨产品以在扫描电子显微镜(SEM)下观察石墨产品的微观形态,如图1所示。
图1显示,在一些晦涩的石墨表面的中心线中有小的白色颗粒,这明显不同于石墨的形态。认为这些可能是纯化后没有除去的杂质颗粒,但是由于高纯度石墨中的杂质含量非常低,因此难以检测杂质颗粒的存在,杂质的组成和含量不能通过能谱分析来确定。
图1 实验产品的SEM图像
为了确定杂质的成分,使用SEM和EDS(能谱分析)来检测和分析石墨中的杂质。首先,将高纯度石墨样品膨胀43倍,并通过成像部位进行分析。选择可以发现O和Na的特定位置,将杂质元素的检测面积增加4000倍,并选择SEM因子3点和能谱分析。除元素C外,在控制区1中还发现了杂质成分Na,Si和Al,而在控制区2和3中未发现杂质,表明样品中杂质的含量很低,且分布不均匀,杂质局部富集。
高纯度石墨分析的微量杂质通常包括对样品进行预润滑或润湿,以除去碳,用酸除去灰分并确定溶液中的污染物含量。在灰分法中,不必使用超纯酸溶解灰烬,这避免了出现被测物质的风险,因此更经常使用。
计算显示石墨中的污染物含量。然而,该方法存在一些局限性,因为高纯度石墨包含大量碳,这会使铂坩埚脆化并在高温条件下分解,并且容易导致铂坩埚爆炸,购置成本很高,难以广泛使用,由于常规方法不可以检测出高石墨污染的成分,因此需要改进检测方法。
在刚玉样品舟下方放置一层纯铜金属,取一定量的精制石墨,放在铜片上,放入加热的950℃炉中,注入空气流,炉门应伸出10mm左右的间隙,有助于空气进入,为了使更多的灰分用于电子显微镜扫描和能谱分析,通常会燃烧结合碳的一部分,并且灰分通常会倍增。
在高温条件下,随着铜颗粒的表面随氧化铜的塌陷,将铜片添加到酸中以溶解氧化铜并使灰分在酸溶液的表面上显影,然后进行样品分散处理,以溶解灰烬。该工具确定样品溶液的其他化学成分(不包括纯铜片的成分),然后根据喷出的石墨量计算纯石墨杂质的形成。该方法不仅可用于分析高石墨样品中的杂质,而且可用于确定碳石墨材料中的杂质含量。
表1表明,每个杂质颗粒的组成是不同的。杂质点形成的分析没有显示出灰分的组成,因此不可能确定杂质的含量,但是可以确定杂质的组成为Fe,Ca,Mg,Al和Si。根据分析结果,综合图片,表示污染物主要是Si和Al,以及少量的Fe,Ca和Mg。
表1 杂质颗粒成分含量(质量百分比)/%
图2 高纯石墨灰分的ED S分析结果
高纯度石墨样品的灰分会增加,采样完成后,灰分会溶解在50ml的溶液中,Si,Al,Fe,Ca和Mg的成分以及确定石墨的含量并转换为高纯度石墨,表2列出了纯石墨中氧化物的污染物含量。
表2 高纯石墨样品中氧化物含量(质量百分比)/%
表2表明,污染物的成分是Si,Al,Fe,Ca,Mg,其中Fe,Ca,Mg具有最低的污染物含量,并且Al的含量低。这四种物质的总污染度仅为石墨样品重量的0.0218%,这表明它们易于去除,对石墨的提纯几乎没有影响。但是,Si并未完全去除,纯石墨的大多数污染物都是Si化合物,残留的Si降低了石墨纯度的提高,因此提高Si去除效率是提高纯度效果的关键。
(1)分析线选择和背景扣除。样品中的大量元素Al,Fe,Ca,Mg,Na,Mn和Ti形成分析线的背景信号,有时会超过样品中跟踪分析线产生的信号。大量元素会干扰被测矿物质的背景信号,从而导致更高的分析结果。实验使用ICPAES视线图确定测量对象的位置,有效消除了被测量对象的恒定信号失真。在本实验中,根据测试样品中每一项的含量,选择具有适当灵敏度,低光谱线背景且无其他项目显着干扰的光谱线作为分析线(表3)。
表3 各元素分析线波长
(2)光谱干扰校正。ICPAES方法的中断效果对光谱干扰更为敏感。该方法使用中间校正方法,通过测量样品中每种常量元素的干扰来确定干扰率并调整干扰谱,从而校正测量值和其他常量元素的干扰。实验表明,当使用表3中列出的分析线进行光谱分析时,Na和Mn不会触及其他项目的分析线。分析线之间是互相干扰的,例如:Fe与Ca(317.93nm);Ca与Al(396.15nm)相比等。其相互作用如表4所示,表4中未包括的某些项目受到轻微影响,无法检测到。干扰集中度(Ci)与干扰集中度(IEC)之间的关系为IEC=kiCi,干扰因子ki可以从干扰集中度(Ci)和平衡干扰(IEC)中找到。例如,从100mg/L的Ca到Zn(213.86nm)的平均干扰率(IEC)为0.071mg/L,干扰因子为ki=0.071/100=0.71×10-3。表4列出了常量元素的干扰系数。
表4 常量元素对各种元素的干扰系数Ki(×10-3)
(3)检出限。测量空白溶液10次,并通过标准偏差的三倍计算每个项目的检出限(表5)。
表5 各元素检出限(mg/L)
高碳石墨的发现和分析表明,高纯度石墨的主要杂质为Si,Al和少量的Fe,Ca,Mg。其中,Si含量最高,改善硅去除性能是提高提纯效果的关键。
(1)使用IL-PLASMA-300ICP-AES线轮廓功能检测背景,有效消除被测物体连续背景声中的干扰。
(2)使用IL-PLASMA-300ICP-AES中间校正系统,频谱校正可以快速确定由干扰程席井鼓振光谱干扰引起的测量误差。
(3)该方法检出限低,准确度高,选择线分析正确,分析速度快。适合详细分析石墨灰中的各种污染物,可以满足精炼石墨的研究要求。