铜及钼含有膜的蚀刻液组合物

专利申请号: CN201810996546

公开号: CN109136925A

申请日:2014.09.22公开日:2019.01.04

申请人: 易安爱富科技有限公司

本发明涉及一种蚀刻铜及钼含有膜时，控制钼或钼合金膜的侧蚀，实现稳定的蚀刻工程，并可改善蚀刻锥角、蚀刻偏差和蚀刻直线度等蚀刻特性的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物中，相对于总重量，过氧化氢的含量为10%～30%(质量分数,下同)，蚀刻抑制剂的含量为0.1%～5%，螯合剂的含量为0.1%～5%，蚀刻添加剂的含量为0.1%～5%，氟化物的含量为0.01%～2%，侧蚀抑制剂的含量为0.01%～2%，及使总质量达到100%的水。