张于弛,江丽芳
(1 闽江学院海洋学院, 福建 福州 350108; 2 福建省中国漆新型材料工程研究中心, 福建 福州 350108)
聚合物基纳米复合材料能够在低填充量下显著改善物理和工程性能[1-2]。由于商业上可买到的纳米颗粒通常是由于其高表面能而聚集的,因此在复合材料制造过程中,纳米颗粒团聚的破坏被证明是充分发挥纳米颗粒作用的关键问题[2]。将纳米粒子的表面特性由亲水性变为疏水性,对于增加填料/聚合物基体的相容性是至关重要的。通过改变接枝单体,可以有效地改进纳米复合材料中的界面相互作用。
热塑性聚氨酯(TPU)是一类重要的塑料,具有弹性、透明性、耐油性、耐油性和耐磨性。TPU有许多应用,包括汽车仪表板、脚轮、电动工具、体育用品、医疗器械、传动带、鞋类以及各种挤塑薄膜、片材和型材应用[3]。
二氧化硅(SiO2)是一类重要的无毒、稳定、耐高温的无机填料,广泛应用于橡胶、塑料、涂料、印刷品和化妆品等领域[4]。然而,由于SiO2表面羟基的亲水性,使得其在聚合物基体中容易团聚,难以分散[5]。用硅烷偶联剂对SiO2粒子进行表面改性,可以减少SiO2表面羟基的数量,使粒子由亲水性变为疏水性。使其可在聚合物基体中获得更好的分散性和相容性。本论文采用硅烷偶联剂(KH550)对纳米SiO2进行改性,研究最佳的改性工艺,以提高SiO2在有机溶剂中的分散性,抑制其团聚,制备SiO2/TPU复合材料,并对SiO2/TPU复合材料的结构与性能进行测试与表征。
热塑性聚氨酯(TPU,聚酯型),东莞宏德;KH550,广州市中杰化工有限公司;SiO2,江苏天行新材料有限公司;冰醋酸、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、无水乙醇试剂等由国药试剂提供,均为化学纯。
(1)KH550改性SiO2的制备
称取0.8 g KH550溶解在4 g去离子水中,并用冰醋酸调节至pH=3。称取2 g纳米SiO2于250 mL圆底烧瓶中,加入200 mL的乙醇/水的混合溶液(乙醇:水=1:1),超声分散30 min,后向SiO2分散液中加入KH550溶液。60 ℃下恒温磁力搅拌并回流一定时间,离心分离,无水乙醇洗涤3~4次,除去SiO2表面反应的KH550,于80 ℃烘箱中干燥24 h,研磨备用。
(2)KH550改性SiO2/TPU复合材料的制备
将TPU溶解在DMF中(质量比1:5),称取0.03 g SiO2于DMF中,超声分散30 min,加入到TPU溶液中,搅拌均匀并超声分散30 min,后置于真空干燥箱中真空脱泡20 min,倒一定量的溶液于平整的表面皿中,放入真空烘箱中50 ℃成膜,分别制备含0.4%、1%、1.5%、2%不同添加比例的复合材料膜。后采用XCS-101-200型冲片机(承德精密试验机有限公司)裁样后得到试样。
红外表征在傅里叶红外光谱仪(is 5,美国赛默飞)上进行。扫描范围为500~4000 cm-1,其中SiO2、KH550改性的SiO2粉末采用KBr压片制样;微观形貌测试在扫描电子显微镜(SU8010,日本日立)进行,测试样品为SiO2和KH550改性的SiO2形貌,喷金时间为30 s;分散稳定性:考虑DMF是TPU的良溶剂,因此,分散稳定性主要考察改性前后SiO2在DMF中的分散状况,浓度为0.5 mg/mL,观察试样的分散情况;拉伸性能在电子万能(拉力)试验机(CMT4104,美斯特工业系统有限公司)上进行。测试在室温下进行,拉伸速度为50.0 mm/min。每个配比测试5~6个试样,并取平均值;热重分析在差热分析仪(STA449f3,德国耐驰)上进行,N2气氛中,以10 ℃/min的速率从30 ℃升温至600 ℃。
KH550对SiO2表面改性后,在3425 cm-1和1630 cm-1归属于SiO2表面的OH伸缩振动吸收峰。1089 cm-1和795 cm-1归属于Si-O-Si的反对称伸缩振动吸收峰和弯曲振动伸缩峰,比未改性的SiO2有明显增强。对比红外谱图还可以发现改性后的SiO2在2925、2970 cm-1处出现了甲基和亚甲基的C-H伸缩振动峰,该峰归属于KH550上的-CH2的吸收峰。以上说明KH550成功接枝到SiO2表面。
图1 SiO2、KH550-SiO2的FTIR图Fig.1 FTIR spectra of SiO2 and KH550-SiO2
由图2改性前后SiO2的SEM对比可知,SiO2由于表面含有大量的羟基,表面能较高,团聚在一起,KH550改性过的SiO2,能较好地分散,这说明纳米SiO2表面的羟基与偶联剂发生了作用,使得纳米SiO2表面形成了较大的空间位阻,较为有效的阻止纳米SiO2粒子的团聚,使得纳米SiO2粉体的分散性得到有效的提高。
图2 SiO2(a)和KH550-SiO2(b)的SEM图Fig.2 SEM of SiO2(a)and KH550- SiO2(b)
2.3.1 反应时间的影响
控制反应温度为60 ℃,KH550的质量分数为40%,反应时间为3、4、6 h。反应时间对改性纳米SiO2的红外光谱影响如图3所示。
图3 反应时间对SiO2分散相体积的影响Fig.3 Effect of reaction time on the volume of SiO2 dispersed phase
观察改性后3 d的纳米SiO2的沉降性,反应时间对纳米SiO2分散相体积的影响如图3所示,由图3可知,反应3、4、6 h得到的纳米SiO2在DMF中的分散稳定性基本较好,静置3 d后分散相体积维持在20 mL左右,分散4 h效果优于3 h和6 h。反应达到4 h时,两者之间的反应达到饱和,继续反应,KH550已经不能接枝在SiO2表面。
2.3.2 反应温度的影响
反应时间为4 h,KH550的质量分数为40%,反应温度分别为40、60、80 ℃,反应温度对SiO2分散相体积的影响见图4。
图4 反应温度对SiO2分散相体积的影响Fig.4 Effect of reaction temperature on the volume of SiO2 dispersed phase
由图4可知,三组改性的SiO2在DMF溶液中都表现了良好的分散性,反应温度为60 ℃时,改性的SiO2在DMF中的沉降稳定性最好,对比未改性的SiO2,反应温度为60 ℃时,KH550对SiO2的改性可以明显提高SiO2在DMF中的分散稳定性[6]。
2.3.3 KH550用量的影响
反应温度60 ℃,反应时间4 h,KH550用量分别为30%、40%和50%, KH550对SiO2沉降稳定性的影响如图5所示。
图5 KH550用量对SiO2分散相体积的影响Fig.5 Effect of KH550 dosage on the volume of SiO2 dispersed phase
由图5可知,KH550用量为40%分散效果最佳,KH550继续增加到50%分散相体积略有所下降,这可能是由于纳米SiO2表面包覆的KH550达到了一定的数量,继续增加KH550用量,反而不利于纳米SiO2的改性,因此最佳偶联剂KH550浓度为40%。
图6为纯TPU及SiO2/TPU复合材料的应力应变曲线和力学性能。由图6可知,无论是纯TPU还是SiO2/TPU复合材料,拉伸过程中没有明显的屈服现象。断裂拉伸强度较大,表现出良好的韧性。从图6中可知少量添加SiO2,可以改善TPU材料的断裂伸长率及拉伸强度,SiO2最佳添加量为1%。当SiO2添加量继续增加时,复合材料的拉伸强度呈现下降趋势。这是由于填料含量过多时,填料粒子分散不均,极易发生团聚,从而影响复合材料的力学性能。
图6 SiO2添加量对力学性能的影响Fig.6 Effect of SiO2 addition on mechanical properties
由图7中两个样品的热重对比观察到,纯TPU的热分解温度为323 ℃,并在483 ℃质量损失达到最大值。当SiO2添加量为1wt%时,SiO2/TPU复合材料膜的热分解温度提高,热分解温度为338 ℃,提高了15 ℃,热稳定性明显提高,这说明SiO2的添加可提高TPU的耐热性能。SiO2在TPU基体中的均匀分散及强的SiO2与TPU间的界面作用对TPU热稳定性的改善也会起到重要作用。
图7 TPU、SiO2-TPU热重对比Fig.7 Thermogravimetric comparison of TPU and SiO2-TPU
采用KH550对SiO2进行接枝改性,改性后的SiO2在DMF能较好地分散;采用溶液法制备SiO2/TPU 复合材料,SiO2添加含量为1%时,能够改善 TPU 的拉伸强度,且可以提高SiO2/TPU 复合材料的热稳定性。