本报讯7月9日,KLA公司发布392x和295x光学缺陷检测系统和eDR7380电子柬缺陷检视系统。这些全新的检测系统是该公司旗舰产品系列——图案晶圆平台的进一步拓展,其检测速度和灵敏度均有提升,代表了光学检测的新水准。全新电子束检视系统的创新使其自身价值进一步稳固,并成为缺陷和发现其产生根源之间的必要一环。对于领先的3DNAND、DRAM和逻辑集成电路(IC),该产品组合将缩短整个产品周期,加快其上市时间。
“为了有利润地制造下一代内存和逻辑芯片,对所需的制程控制要求之高也是前所未有的。”KLA国际产品部执行副总裁Ah-mad Khan說,“元件结构变得更小、更窄、更高、更深,并且形状更为复杂,以及材料更为新颖。将缺陷与其他无害的物理变化分开,已成为一个非常棘手的难题。我很高兴地宣布我们的光学和电子束工程团队开发了一系列创新的系统,将缺陷的检测和检视相结合,这将推动我们的行业继续向前发展。”