樊青青,李东宁,李俊红
(1.中国科学院 声学研究所,北京 100190; 2.中国科学院大学,北京 100049)
ZnO是一种具有优良的压电性能的半导体材料。近年来,随着微机电系统(MEMS)技术的发展,ZnO压电膜在相关MEMS器件中得到广泛应用[1-3]。为了提高MEMS器件的性能,研究人员对ZnO压电膜制备方法进行了优化,以期提高其压电性能。掺杂是提高其压电性能的重要途径之一,掺钒(V)ZnO薄膜的压电系数比未掺杂的高1个数量级,在V的原子数分数为2.5%时,其压电系数d33达到110 pC/N[4]。掺钒ZnO膜可通过掺钒ZnO纳米粉体与掺钒ZnO胶体混合,经过旋转涂覆得到,性能良好的掺钒ZnO膜的制备要求掺钒ZnO纳米粉体的结晶性好,且尺寸尽量小(最好100 nm以下)[5]。目前对于掺钒ZnO纳米粉体的研究主要集中在其光学应用,其压电性能方面的研究较少[6-10]。
金属掺杂的ZnO纳米粉体的制备方法有机械球磨法[11]、共沉淀法[12]、火焰喷雾热解法[13]和溶胶-凝胶(Sol-Gel)法[14]等。与其他制备方法相比,Sol-Gel法制备纳米粉体具有掺杂均匀,掺杂成分控制准确,可重复性好及可以在低温条件下成膜等优点,因此,本文采用Sol-Gel法来制备用于压电膜制备的掺钒ZnO纳米粉体。
掺钒ZnO纳米粉体的制备工艺流程如图1所示。采用Sol-Gel法,将二水合醋酸锌[Zn(CH3COO)2·2H2O]与聚乙烯醇混合,溶于去离子水中,80 ℃磁力搅拌回流1~3 h,此时溶液澄清透明、无沉淀。冷却至室温后,得到ZnO胶体。称取一定量一水合柠檬酸溶于少量去离子水中(不影响后续胶体的总容量),再称取一定量偏钒酸铵[NH4VO3]溶于该溶液中,此时溶液呈现浅黄色。将该溶液加入到ZnO胶体中,同时对胶体进行搅拌,直到充分混合,得到掺钒ZnO胶体,其中V原子数分数为2.5%。陈化24 h以上,对掺钒ZnO胶体进行搅拌加热,使溶剂充分挥发得到掺钒ZnO干凝胶。将干凝胶放置于马弗炉中,300 ℃加热,取出充分研磨后进行热处理得到样品。表1为各个样品所对应的热处理工艺。
图1 掺钒ZnO纳米粉体制备流程图
样品1#2#3#4#热处理工艺500 ℃ 3 h600 ℃ 1 h500 ℃ 3 h600 ℃ 3 h500 ℃ 1 h600 ℃ 1 h500 ℃ 1 h600 ℃ 3 h样品5#6#7#热处理工艺600 ℃ 1 h600 ℃ 2 h600 ℃ 3 h
采用X线衍射(XRD)测试样品的晶体结构,采用扫描电子显微镜(SEM)对样品的表面形貌、晶粒尺寸等进行分析,通过能谱仪(EDS)测试来验证纳米粉体中V等元素的含量。
掺钒ZnO纳米粉体制备的热变化过程可分为3步:
1) 前驱体表面物理吸附水的挥发。
2) 体系中有机物的燃烧。
3) 六方纤锌矿结构的掺钒ZnO晶体的生长。
所有样品在用500 ℃烧结后,颜色均为黑色,且样品5#直接用600 ℃热处理1 h后,颜色仍为黑色,说明过低的温度或过短的时间都无法充分去除样品中的有机物。而当样品(除了样品5#)经过600 ℃的热处理后,样品粉末的颜色均变成了灰白色,说明此时样品中的有机物得到了充分的去除,且ZnO晶体得到了很好的生长。可见,在600 ℃下烧结1 h的退火工艺对于制备掺钒ZnO纳米粉来说,时间不够。而其他采用较长退火时间的工艺均能使有机物充分地燃烧,并且使ZnO的晶体得到很好地生长。
样品1#~7#的XRD图谱如图2所示,分别观察到具有六方纤锌矿结构的ZnO晶体的(100), (002), (101),(102), (110), (103), (200), (112), (201)等晶面,此外,还观察到第二相Zn3(VO4)2。表明V全都掺进了ZnO晶格里,并且ZnO的晶格结构变化不大。但因为掺入的V离子半径与ZnO晶体中的Zn离子半径不同,因此,使样品晶胞的大小、形状及原子位置都发生了微小变化,表现在衍射图中衍射峰的位置有所变化。由图2可知,所有样品粉体均为(101)择优,各个样品的(002)择优度相差不大。
图2 掺钒氧化锌粉体的XRD谱
样品1#~7#的SEM图如图3所示。由图可知,各个工艺的粉体都有不同程度的团聚现象。由SEM图得到样品的晶粒尺寸为65~138 nm,如表2所示。结合表1中的热处理工艺可知,在500 ℃热处理时间相同时,600 ℃下热处理时间越长,颗粒尺寸越大。对比样品1#、3#、5#及对比样品2#、4#、7#可知,在600 ℃热处理时间相同的情况下,500 ℃下热处理时间增加时,颗粒尺寸变化不大,但有逐渐增大的趋势。总之,500 ℃热处理对晶粒大小的影响不大。由表2可知,600 ℃对晶体的生长比500 ℃影响大,且热处理时间越长,颗粒尺寸越大。
图3 掺钒氧化锌粉体的SEM图
样品1#2#3#4#D/nm8013876119样品5#6#7#D/nm6595113
样品的能谱图如图4所示。由图可知,样品中除了Zn、V、O 3种元素并无其他杂质元素,根据能谱图,x(V)≈3.5%,这是由于粉体中V含量较少,从而使测量值与设计值有一定的误差。
图4 掺钒ZnO粉体的能谱图
采用溶胶-凝胶法制备的V原子数分数为2.5%的掺钒ZnO纳米粉体,热处理温度过低或时间过短都不能使有机物去除干净,并最终影响晶体的生长;500 ℃热处理对晶粒大小影响小,600 ℃热处理对晶粒的影响较大,且热处理的时间越长,颗粒的尺寸越大。经XRD分析表明,V全都掺进了ZnO晶格里,有少量的第二相Zn3(VO4)2,所有粉体均为(101) 择优。SEM图表明,制备的纳米粉体都有不同程度的团聚,由扫描电镜得到样品的晶粒尺寸为65~138 nm。由粉体的能谱图可看出,样品中除Zn、V、O 3种元素外,无其他杂质的存在,且掺杂均匀,满足了掺钒ZnO压电膜制备对粉体的要求。