化学机械抛光对钛种植体表面性质的影响
钛的生物活性取决于其表面氧化膜的质量和特性。通过改变钛板上的化学机械抛光工艺,在钛基种植体表面形成了一种保护性的二氧化钛膜。本文研究了氧化钛的表面性能作为化学机械抛光工艺条件的函数。从润湿性、纳米表面粗糙度和材料去除率等方面对表面反应进行了评价。通过傅里叶变换红外光谱对表面化学成分进行了评价。
钛样品在H2O2的质量分数为3%的溶液中抛光2分钟,H2O2作为氧化剂来促进化学活性。通过对样品前和后的称量,计算出物料的去除率。对溶液进行5分钟的pH值调整,并在其使用前用氮气干燥。通过基于体积和数量分布的化学机械抛光浆料粒度分布,由于砂浆中存在团聚体,基线浆体呈双峰型分布。体积大小分布的测量,使聚集物更好,因为占主导的微粒体积使数据正常化。然而,基于数量的粒径分布结果表明,在总浆料颗粒总体中,2微米尺寸范围的团聚体的数量百分比分布是可以忽略的。
在化学机械抛光应用前,原始钛板表面有一层厚阳极氧化层。在没有氧化剂的情况下进行的化学机械抛光过程,导致该多孔表层氧化层的去除,暴露出裸露的钛表面,其接触角值为45度,这大约是未经处理的基线样品的接触角值的一半。其余的样品盘是化学机械抛光,在抛光液中存在氧化剂。表面粗糙度的变化对其影响更大,这是通过接触角响应来测量的。接触角值随化学机械抛光表面粗糙度的增加而增加(不包括顶部多孔氧化物的基线样品)。在未处理的基线钛样品中获得了最高的接触角值,这可归因于表面氧化层的孔隙率。采用磨料纸代替原有的抛光垫材料,可以提高材料的去除率和表面粗糙度。在化学机械抛光中使用粗糙固定磨料抛光纸时,表面光学图像也突出了诱导表面微结构。
刊名:Data in Brief(英)
刊期:2017年第10期
作者:Zeynep Ozdemir
编译:杜桂枝