《石门铭》技法探微（四）

□党现强

《石门铭》技法探微（四）

□党现强

第四讲 横画组合

一字之中，多横并用，其组合关系亦是临帖中经常遇到的情况。《石门铭》结字扁方，取右上倾斜之势，所以，横画多左低右高，临习时须注意斜中取正，以草作楷，欹侧飞动、飘逸有致。

横画组合，首先体现在主、副、余笔的关系之中。一般来说，主笔特征是长、大，是字的主体部分，是字中的关键所在；副笔是配合主笔的，其大小要比主笔小一些，处于从属位置；余笔是主副笔的补充，大小又居副笔之次，占位最小。如“其、年、至、无（无）、上”等字（图1），“其”字下横最长，上横次之，中间两横最短，每个笔画的长短，由其所在的位置及在字中承担的角色来决定；“年”字第二横最长，第三横最短，笔画长短参差，排布有序；“无（无）”字第二横、第三横等长，且形态相似，以重复的手法建立秩序，则是主、副、余笔运用的变例。

其次，横画组合练习还需留心笔势的俯仰变化。《石门铭》的横画表现为三种形态：上仰、平直、下俯。一般来说，短横呈上仰或平直形态，长横呈平直或下俯形态，但在具体运用时，会结合字势表现出微妙的变化。如“岸、南、褒、里、泰”等字（图2），“岸”字中，“干”部上横上仰，下横平直；“褒”字的上横下俯，极尽伸展之势，下横取斜势，左低右高，于笔画右端微有变化；“泰”字的横画层垒而下，两短横略有仰势，末横下俯。

图1

图2

第三，多横组合还会形成远近疏密的对比。不同的构字会形成不同的笔画搭配关系，其疏密、远近，一方面受笔画位置的制约，另一方面还会受书手审美倾向和个人结字习惯的影响。《石门铭》中的横画搭配，或疏密有致，或均衡排布，皆舒卷自如，于规矩中寓变化。如“自、葛、皇、献（献）、开（开）”等字（图3），“自、皇”为均衡布局，笔画走向、距离一致，追求秩序井然之美；“献（献）、开（开）”加大疏密对比，于变化中增加字的奇趣。

图3

图4

再者，从笔画形态来讲，多横搭配还需兼顾笔画的藏露、方圆变化。《石门铭》是魏碑中圆笔的典型刻石，以圆笔为主，但书手在书写中为追求变化，以及刻写的刀法掺杂其中，也呈现出一些方笔写法，丰富了其书法表现力。方圆对比，在多横组合运用中尤其重要。如“五、者、羊、车（车）、表”等字（图4），方圆互见、刚柔相济，朴质中有清健，圆劲中见锋芒。

临习过程中，还要注意通篇布白、字势的呼应关系。孙过庭谓：“一点为一字之规，一字乃终篇之准。”要使通篇笔画粗细、笔势角度在某个幅度内变动，既要有丰富的变化，又须兼顾统一性。（图5）

图5