王兴军
摘 要:主要阐述了电镀镍钴合金在结晶器板坯上的应用,具体介绍了电镀镍钴合金镀液、操作条件对电镀镍钴合金性能的影响。
关键词:电镀镍钴合金;镀液;阳极极化;pH值
中图分类号:TQ153.2 文献标识码:A DOI:10.15913/j.cnki.kjycx.2016.21.121
近年来,电镀镍钴合金工艺被广泛应用于电镀板坯结晶器铜板。结晶器板坯是连铸机的重要部件,要求具有耐高温、耐磨损、耐腐蚀性能。镍钴合金具有较高的硬度,组织致密,耐磨性和耐高温性能都比较好。在结晶器板坯上,电镀镍钴合金可以满足性能要求。
1 电镀镍钴合金镀液
1.1 电镀镍钴合金主盐
1.1.1 硫酸镍
对于硫酸镍,需要注意以下3点:①随着硫酸镍质量浓度的增加,最大电流密度不断提高,光亮度也在增加。当质量浓度为350 g/L时,Dk可达9 A/dm2。由此可见,硫酸镍含量高,则光亮度、平整性都好。其范围在300~400 g/L为宜,镍离子含量相对稳定,可使用较高电流密度。②硫酸镍质量浓度增加,阴极极化值下降,低质量浓度的硫酸镍阴极极化较高,镀层结晶细致。综上所述,选择硫酸镍250~350 g/L为宜。③当硫酸镍含量升高时,镀液的分散能力呈线性下降。
1.1.2 硫酸钴
为了保证镀层中的钴含量,在施镀的过程中,需要不断地向镀液中补充硫酸钴。镍与钴的主盐浓度比例的变化直接影响合金镀层镍与钴的比例。在其他条件不变的情况下,钴的质量浓度比例越高,镀层含钴量越高。镍钴合金属于异常共沉积合金,电极电位较负的钴优先于镍在阴极上沉积。
由于钴比镍优先在阴极上沉积,所以镀液中钴盐质量浓度的变化对镀层成分影响明显,镀液中钴离子稍有增加,镀层中钴含量就会增加很多。通常,在镀液中钴含量占镍与钴总含量的5%(质量分数)左右时,镀层中的钴含量就可以接近40%.如果硫酸镍和硫酸钴的质量浓度基本相等,那么合金镀层的钴含量将达80%以上。
镍钴合金镀层中钴含量约为40%以下,有良好的耐磨性。如果递减镀液中钴盐含量,那么合金镀层中的钴含量也应相应地减少。
1.2 氯化物
1.2.1 氯化物对阳极极化的影响
1.2.1.1 氯化物可以明显降低阳极极化值
氯化物有明显降低阳极极化值的作用,例如温度为17 ℃时,硫酸镍150 g/L、硫酸钴5 g/L、硼酸30 g/L的镀液中没有氯离子,阳极极化值为1.78 V;当氯离子为9 g/L时,阳极极化值降至0.43~0.73 V。
1.2.1.2 氯化物可以活化阳极
镍阳极在电镀液中极易钝化,使正常电镀很难进行。镀液中的氯离子能促进阳极溶解,是良好的阳极活化剂,可以有效地防止镍阳极钝化。对于硫酸盐型和氨基磺酸盐型镀液,必须加入氯化物,用以保证阳极上的镍离子不断地正常溶解,使镀液中保持足够的镍离子量。氯化物有氯化钠、氯化钾、氯化镍等。其他卤素离子也对阳极有活化作用,但价格较高,一般不予采用。钠离子会降低阴极电流密度的上限,也会使镀层硬度增高,增加镀层的内应力,所以通常都使用氯化镍作阳极活化剂,既可以对阳极起到活化作用,又可以提供镍离子,一举两得。
1.2.1.3 氯离子可以消除阳极极化
当氯离子在镀液中含量很低时,槽端电压很高,阳极上有大量氧气析出;当增加镀液中氯离子含量后,槽端电压明显降低,阳极上也少有氧气析出。这说明,氯离子可以消除阳极极化,降低能耗,提高镀液的分散能力,保证镍离子正常溶解补充,提高镀液的导电性。
1.2.2 氯离子能提高镀液的阴极电流效率
利用氯化镍和氯化钴配制的镀液,它的阴极电流效率接近100%.氯离子可以提高镀液的分散能力,扩大镀液的电流操作范围。但是,氯离子会增加镍钴合金镀层的拉应力,高氯离子镀液的镍钴合金镀层有较大的拉应力,所以全氯离子镀液很少被采用。
1.3 硼酸
1.3.1 硼酸的缓冲作用
硼酸是一种弱电介质,在水中电离出氢离子,电解式如下:
H3BO3→H++H2BO3-
在阴极区域,氢离子获得电子而析出氢气,导致氢离子减少,pH值上升。当上升到一定值,使电介质碱化。如果没有硼酸存在,则会产生镍与钴的氢氧化物夹杂在镀层中,影响镀层质量。由于硼酸的存在,电解出来的氢离子使阴极区域氢离子稳定,以维持一定的pH值。这就是硼酸的缓冲作用。电镀镍钴合金镀液的pH值应维持在3~6的范围内。pH值过低,H+过多,很容易获得电子而还原成氢气,降低了阴极的电流效率,大量的氢气容易吸附在阴极的工件表面而出现针孔;pH值过高,镀液易浑浊,阴极周围金属离子常会以金属氢氧化物的形式夹在镀层中,使镀层质量变坏。为了保持镀液的pH值在3~6的范围内,用硼酸做缓冲剂是最佳选择。硼酸的加入量对稳定pH值也有很大影响。通常,电镀镍钴合金硼酸量控制在35~40 g/L。近代快速电镀镍钴合金电流密度较高,氢离子消耗快,硼酸含量在40~50 g/L为宜。
1.3.2 硼酸可以扩大阴极电流密度范围
在严格控制足量的硼酸含量并且正确使用的情况下,可以使用较高的电流密度使镀层结晶细致,不易烧焦,延展性好,改善镀层与基体的结合力。这主要是硼酸的缓冲作用,有利于抑制硫酸镍和硫酸钴水解,使电沉积反应顺利进行。硼酸不参与电极反应,但带出消耗要及时补充。将镀液取样冷却至室温时,有硼酸结晶析出,则可认为硼酸已足。
1.4 pH值
1.4.1 pH值范围
对于以硫酸盐为主盐的电镀镍钴合金,其pH值应控制在5.5~6.0之间。pH值小于4.5会猛烈析氢,电流效率下降;pH值大于6.5时,镀层发暗,有明显脱落倾向。
有效地调整镀液的pH值是十分重要的。当pH值较高时,可以加入稀释的硫酸或盐酸来调整;当pH值较低时,可以加入碱来调整。可供选择的碱有稀释的氢氧化钠、碳酸钠、碳酸镍和氢氧化镍等,也可用氨水调整pH值。在镀层含钴量30%左右的镀液中,以硫酸盐为主盐的镀液的pH值应在5.5~5.8的范围内。
1.4.2 pH值对镀液性能的影响
较高pH值的镀液有较好的分散能力和较高的电流效率,但是过高的pH值将使镀液易变浑浊,阴极有镍钴氢氧化物夹杂,造成镀层存在粗糟、起泡、发脆等缺陷;较低的pH值虽然能提高镀液的导电性能,但阴极电流效率下降,镀层易产生针孔。
1.4.3 pH值对合金镀层成分的影响
在工艺规定pH值的范围内,在其他条件相同的情况下,随着pH值的增加,镀层中钴含量降低。这是因为当pH值增大时,阴极周围的Ni2+与Co2+形成Ni(OH)2和Co(OH)2的机会增加,而Co2+与羟基(OH)-的亲和力要大于Ni2+与羟基(OH)-的亲和力,生成Co(OH)2的机会要比生成Ni(OH)2的机会多,所以阴极周围的Co2+相对较少,镀层中的钴含量有所降低也是很自然的事。
润湿剂可降低镀液表面张力。为了降低镀液的表面张力,使镀液与阴极密切结合,使氢气泡不易在阴极表面上停留,应在镀液中加入适量的润湿剂。对于电镀镍钴合金镀液,选择十二烷基硫酸钠(C12H25SO4Na)这种阴离子活性剂作润湿剂是适宜的。加入量:十二烷基硫酸钠的加入量很少,一般在0.08~0.12 g/L范围内。如果再增加含量,也不会降低镀液的表面张力,反而会使镀层内应力增加,硬度和脆性增加。
2 操作条件对合金成分和性能的影响
2.1 温度
在工艺条件允许的范围内,温度升高能使添加剂的作用充分发挥出来,在其他条件相同的情况下,镀层中的钴含量随着温度的升高而增加。当温度升高后,镍离子与钴离子的热运动加剧,其中,钴离子获得的热能要比镍离子多,所以,钴离子到达阴极上的机会要多,从而获得电子还原成金属钴的机会有所增加。
温度升高可以提高电流密度的上限,加快沉积速度,扩大光亮区范围,降低阴极浓度差。
温度对镀层内应力也有影响。提高温度可以增加镀层的延伸率,增加镀层韧性,降低镀层的内应力,但是温度过高,镀层的延伸率反而会缓慢下降。
温度过高使镀液中水分蒸发加剧,镍盐和钴盐都容易水解,镀层容易产生毛刺和针孔;镀液温度过低使合金沉积速度变慢,光亮区范围变窄,从而使硼酸析出。
2.2 阴极电流密度
在工艺条件允许的范围内,在其他条件相同的条件下,阴极电流密度越高,镀层含钴量越低。当电流密度上升时,阴极极化使电极电位向负方向移动。相对镍而言,钴向负方向移动较少,使钴的析出电位提高。所以,当电流密度增加,镀层中的钴含量变低。
2.3 搅拌
凡是需要搅拌的镀液,镀液中金属离子的扩散速度小于电化学反应速度。也就是说,在阴极表面的金属离子已经获得电子而还原成金属,但是阴极附近的金属离子还来不及到达阴极表面,只有借助于搅拌的外力使其尽快到达,以免降低阴极电流效率或使镀层烧焦。在镀铬工艺中,一般不需要搅拌的,一方面是为了避免阴极胶体膜受到破坏,而另一方面CrO42-有很快的扩散速度,因而也不需搅拌。
2.3.1 搅拌可以提高阴极电流效率
搅拌可以使镍与钴离子及时、充分地到达阴极表面,在阴极周围有足够的镍离子与钴离子,使它们及时获得电子而还原成镍钴合金,提高了阴极电流效率。
2.3.2 搅拌可以提高镀层中的钴含量
在搅拌过程中,Co2+相对Ni2+离子而言获得的动能大,Co2+的速度提高要稍微快一些,它到达阴极表面的机会相应较多,所以搅拌可使镀层中钴含量增加。
2.3.3 搅拌可以防止镀层出现针孔
搅拌还可以有效地排出吸附在阴极上的氢气泡,防止镀层出现针孔。
2.3.4 搅拌可以提高电流密度上限
搅拌有利于氢的析出,提高电流密度的上限,还可以提高镀层的光亮度和平整性,提高镀液的均镀能力。
2.3.5 搅拌方式
搅拌方式有镀液流动、阴极移动、阴极旋转、压缩空气搅拌、电磁搅拌等。对于电镀结晶器铜管和组箱式电镀结晶器板坯,只需采用镀液流动;对于常规电镀槽电镀结晶器板坯,建议采用阴极移动和空气联合搅拌方式。阴极移动往返次数25~30次/min,移动行程100~150 mm;空气搅拌不可将空气直接喷到板坯上,根据镀槽大小,喷气管内径选用Φ20~50 mm,分两排放在板坯两侧排气管中心距为250~300 mm安装在距槽底50~100 mm高的位置上,出气孔直径Φ3~5 mm,小气孔中心距为30~50 mm,小孔与槽底呈45°,将空气向下斜喷至槽底,再反射而上,使板坯周围的液体得到均匀搅动。
2.4 过滤
为了清除镀液中的杂质,或为了使镀液起搅拌作用,在电镀镍钴合金过程中要连续过滤,每小时至少使镀槽中镀液流经3个循环。
〔编辑:刘晓芳〕