新型FEB测长仪CD-SEM CG6300发布

新型FEB测长仪CD-SEM CG6300发布

日立高新技术公司发布了FEB（场发射电子束）测长装置的新产品——CD-SEM CG6300测长仪，可满足7nm工艺元件开发和10nm工艺元件量产的工艺控制需求。

与原CG5000机型产品相比，该新型测长仪采用了新的电子光学系统，提高了分辨率，具有良好的测长重复性。其电子显微镜镜体可根据计测对象选择由材料检测出的二次电子或反向散射电子，可针对生产线后道（BEOL）工序中的Via-in-trench、三维NAND（与非）闪存，以及DRAM（动态随机存取存储器）进行深沟槽及孔底的尺寸测量。通过将电子束扫描速度提高1倍，其还可降低晶圆表面的带电影响，获得高分辨率图像，并实现基于高对比度的边缘检测。此外，该新型测长仪还重新设计了载物台，使单位时间的晶圆处理量提高了20%。 (日 经)