富士胶片开发替代ITO透明导电薄膜

2011-10-13 13:02
网印工业 2011年3期
关键词:透射率电阻值富士

富士胶片开发替代ITO透明导电薄膜

富士胶片开发出了具有高透射率和弯曲性的透明导电薄膜。主要用于触摸面板,计划取代ITO薄膜使用。该公司在2011年1月19~21日,东京有明国际会展中心上公开了试制品。

此次开发的透明导电薄膜采用了相机的底片技术,是通过高灵敏度的银盐和数字曝光实现的“富士胶片”,可制成网状和波线状等任意布线形状。

另外,还可在薄膜的两面制作布线图案。使用ITO进行两面布线时需要张贴两张电极,但利用富士胶片的开发品可以省去这一步骤,因此可减少制造工序。另外,表面和背面电极的相对位置没有错开,因此原理上不会出现灵敏度不均。不仅是平面,还支持三维成型加工。在展示会场,展示了设想用于透明键盘和半圆型太阳能电池的试制例。

富士胶片透漏说,“2011年度内可开发出当光透射率约为94%时,将薄膜电阻值降至一位数的薄膜”。光透射率和薄膜电阻值一般为折中(Trade-off)关系,存在提高光透射率,薄膜电阻值也随之增大的课题。

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