磁控溅射
- 磁控溅射技术在纺织领域的应用研究进展
邵建中摘要：磁控溅射技术作为一种生态环保的薄膜沉积技术，在纺织领域得到广泛的关注。本文综述了磁控溅射技术在纺织品功能化、纺织品仿生结构生色以及膜-基结合稳定性方面的研究进展，概述了磁控溅射技术在纺织基材上的沉积原理和特点，靶材分类及常见靶材的应用特点，并指出磁控溅射技术目前存在的不足及相应的改善策略。该技术的应用有利于纺织染整业的可持续发展。关键词：磁控溅射；纺织品；功能整理；结构生色；薄膜干涉；结合牢度中图分类号：TS195.5文献标志码：A文章编号：1
现代纺织技术 2023年2期2023-06-20
- V掺杂对类金刚石薄膜性能的影响
迅摘要：通过磁控溅射的方法，使用石墨靶、V靶复合拼接靶，以氩气作为辅助气体，成功制备了不同原子分数的V掺杂类金刚石薄膜。采用拉曼光谱仪、电子探针X射线显微分析仪、X射线光电子能谱仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜、纳米压痕仪、薄膜应力仪、往复摩擦磨损试验机等设备研究了V掺杂对类金刚石薄膜微观结构、力学性能、摩擦学性能的影响。结果表明，V掺杂提高了类金刚石薄膜的力学性能，当薄膜中V的原子分数为54.28%时，薄膜的硬度和弹性模量分别为14.1 GPa和147.
有色金属材料与工程 2023年1期2023-06-20
- 电磁屏蔽织物的研究现状
用化学镀法和磁控溅射法制备电磁屏蔽织物的相关进展;最后总结了各类电磁屏蔽织物目前存在的一些问题，并对其发展进行了展望。关键词：电磁屏蔽织物;金属纤维;导电高聚物;石墨烯;MXene ;化学镀;磁控溅射中图分类号：TS195.1文献标志码：A文章编号：1009265X（2022）03000112Research status of electromagnetic shielding fabricsJI Yu LIU Yuanjun ZHAO Xiaomi
现代纺织技术 2022年3期2022-05-23
- 沟道长度对IGZO薄膜晶体管性能的影响
件下采用射频磁控溅射的方法在热氧化SiO2衬底上生长IGZO薄膜作为有源层，并将其制备为薄膜晶体管器件.研究不同的沟道长度对IGZO薄膜晶体管电学性能的影响.使用场发射扫描电子显微镜（SEM）表征IGZO薄膜的厚度，使用原子力显微镜（AFM）表征薄膜的表面形貌.实验结果表明，沟道长度对IGZO薄膜晶体管有着重要影响.当沟道长度为10[μm]时，IGZO薄膜晶体管的开关电流比达到1.07×108，载流子迁移率为3.81cm2/V，阈值电压为27V，亚阈值摆幅
电脑知识与技术 2021年26期2021-10-18
- 钛合金件内外双靶材磁控溅射镀铝设备改进研发
析了真空离子磁控溅射镀铝设备原理结构和设计流程，引入闭合磁场非平衡磁控溅射技术思路，对比直流单靶材磁控溅射和内外双靶材磁控溅射中的电磁场分布和等离子体分布，将2个直流内单圆柱靶改制为4个磁极相对的内外双圆柱靶结构，构建内靶磁场和外靶磁场相反的闭合磁场，研发满足涂层综合性能要求且适于批量生产的镀铝设备，助推国内新型装备高质量发展和清洁节能生产。關键词：磁控溅射;双靶材;镀铝设备 中图分类号：TN305
内燃机与配件 2021年11期2021-09-10
- 磁控溅射镀膜技术的发展及应用分析
合分析了当前磁控溅射的镀膜技术发展情况，并对该项镀膜技术实践应用，进行了有效性地研究，以能够全面了解与掌握磁控溅射的镀膜技术，将磁控溅射的镀膜技术各项功能优势充分应用在相应的行业领域当中，为广大镀膜玻璃生产加工企业高质量、高标准、高效率地生产提供坚实地技术保证，促进镀膜玻璃生产加工企业迈向全新的发展征程，实现突破性发展。[关键词]磁控溅射;镀膜;技术;发展;应用;分析;前言：磁控溅射，它属于一种物理的气相沉积技术，通常指处于特定真空环境之下所在辉光放电两级
科技研究·理论版 2021年4期2021-09-10
- 专利名称：一种基于钛片表面磁控溅射二硫化钼生物功能涂层的制备方法
基于钛片表面磁控溅射二硫化钼生物功能涂层的制备方法，包括如下步骤：(1)对钛片表面进行碱热处理；(2)通过磁控溅射系统在钛片表面溅射二硫化钼涂层。其优点是：使用磁控溅射系统可在钛片表面形成均匀的二硫化钼涂层；且磁控系统的工作气压、沉积时间、沉积速率等的设置，可有效控制二硫化钼图层的形貌及厚度；本发明设备投入少、实施难度小，制备方法简单易行，并且对环境并无太大影响。
中国钼业 2021年1期2021-04-04
- 磁控溅射纳米膜与不同纺织基材的结合牢度
[2-3]。磁控溅射镀膜技术是物理气相沉积的一种，具有沉积速率高，对膜层损伤小，制备的薄膜纯度高且致密均匀，可实现大面积镀膜且厚度均匀等突出优点，是目前应用最广泛的薄膜制备技术之一，也是实现纺织品多功能化的重要途径[4]。利用磁控溅射技术在纺织品表面沉积金属纳米膜而获得结构生色纺织品是一种新的纺织品生态着色方法[5-6]。目前利用磁控溅射技术产生结构色方面的研究报道较少，尤其是磁控溅射纺织品结构色牢度方面的研究工作更是鲜有报道。苏喜林等[7]申请了关于利用
纺织学报 2021年2期2021-03-05
- 溅射镀膜技术与运用浅谈
键词：溅射;磁控溅射;靶材;溅射特性;肖特基二极管1基本概念1.1所谓“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶材）、使固体原子（或分子）从表面射出的现象。1.2溅射原子：由固体表面（靶材）射职的粒子，大多呈原子状态，常称为溅射原子。1.3入射离子：用于轰击靶的荷能粒子可以是电子、离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速并获得所需动能，因此大多采用离子作为轰击粒子。该粒子又称入射离子。1.4离子溅射镀膜：由于直接实现溅射的机构是离子，所以这种镀膜技术又称为离子溅
装备维修技术 2020年5期2020-11-20
- 温度对ZnO:Sn薄膜光电性能分析
要：运用射频磁控溅射技术，改变溅射温度（50℃-300℃）在玻璃衬底上生长ZnO：Sn透明导电样品，采用XRD、紫外-可见分光光度计对薄膜进行光电性能表征。结果发现：随着温度的增大，样品XRD曲线由多峰转变为（002）单峰，晶粒尺寸从21.9增大到31.7。紫外可见光光谱在400在760nm波长区间平均透射率均在89%以上，薄膜帶隙宽度随压强变化不明显，基本维持在3.33eV-3.34eV左右。关键词：磁控溅射;ZnO：Sn薄膜;溅射温度;光电特性1 引言
青年生活 2020年20期2020-10-21
- 微型热电制冷器的结构参数设计与制备
℃。最后利用磁控溅射设备沉积薄膜，采用Lift-off剥离工艺成功制备出来，验证了基于该结构参数下微型TEC热电偶臂工艺制备上的可行性。关键词：微型TEC;参数计算;磁控溅射;Lift-off工艺中图分类号：TB65 文献标志码：A文章编号：2095-5383（2020）03-0034-05Abstract：As a safe and reliable cooling method， thermoelectric coolers （TEC） are cur
成都工业学院学报 2020年3期2020-10-14
- 脉冲偏压占空比对磁控溅射制备ITO薄膜光电性能的影响
一。实验利用磁控溅射方法制备了不同脉冲偏压占空比的ITO薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、紫外-可见光分光光度计和霍尔效应测量仪分别对薄膜的微观结构、表面形貌和光电特性进行了测试分析。结果表明：占空比变化对ITO薄膜性能有着显著的影响。薄膜存在（211）（222）和（440）三个衍射峰，择优取向随着占空比的改变而改变，而且不同的占空比导致薄膜的晶粒尺寸发生了明显的变化。另外，随着占空比增加，薄膜的透过率和电阻率呈现非线性
科技智囊 2020年8期2020-09-17
- 磁控溅射镀膜技术的研究及发展趋势*
问题。当前，磁控溅射镀膜技术已经成为应用最为广泛的一种溅射沉积薄膜方法，其主要表现在磁控溅射镀膜技术的沉积速率比其它溅射镀膜方法要高出一个数量级。首先要归功于磁场中电子的电离度较高，这样有效地提高了靶材电流密度和溅射效率，而靶材电压则因气体电离度的提升而大幅度降低。其次还由于在低压下溅射逸出的原子被气体分子散射的概率较小。由于磁场的存在有效地增加了气体分子与运动电子的碰撞概率，因而可以使工作气压降低到二极溅射气压的1/20，即可由10Pa降低至0.5Pa。
合成材料老化与应用 2020年2期2020-05-28
- 铟掺杂对氧化锌薄膜的结构和光致荧光特性的影响
要：采用反应磁控溅射方法，在Si（100）基片上制备了铟掺杂的氧化锌薄膜。利用X射线衍射、电子探针、光致荧光光谱等表征方法，研究了薄膜的结构、铟含量和光致荧光性能。结果表明，薄膜具有六方纤锌矿结构和高c轴择优取向。通过光致荧光光谱的测量，只发现了紫外带边发射峰，未发现明显的深能级缺陷发光，因此In的掺杂改善了薄膜的深能级缺陷。关键词：In掺杂ZnO;磁控溅射;结构;光致荧光DOI：10.16640/j.cnki.37-1222/t.2019.23.031氧
山东工业技术 2019年23期2019-08-26
- 钼(钨)基氮化物硬质及超硬涂层的微观结构及综合性能
利用直流反应磁控溅射技术，在不锈钢和硅衬底上分别制备了三元MoCN、MoSiN、MoAlN、MoWN、WTaN 及四元MoAlSiN、MoSiCN、WSiCN涂层。利用XRD、XPS、TEM、SEM等方法分析了薄膜的微观结构和表面形貌;利用纳米压痕仪、划痕仪、摩擦磨损测试仪、以及热重分析法测试了薄膜的硬度、膜基结合力、摩擦系数、及抗氧化温度。结果表明四元MoSiCN、WSiCN 涂层具有更加优异的综合性能，可望向工业领域转化。关键词：磁控溅射 硬质涂层
科技资讯 2019年31期2019-01-14
- 基于气敏元件的ZnO薄膜的RF制备及表征
要：本文用磁控溅射的方法在片上沉积薄膜，探讨了衬底温度、氧氩比和退火处理和薄膜的结晶速率、结晶质量和电阻率的关系，为沉积符合气敏元件的敏感薄膜提供研究参考。关键词：薄膜；磁控溅射；气敏元件；电阻率DOI：10.16640/j.cnki.37-1222/t.2018.18.0411 引言作为新型宽带半导体材料，具有很好的光电、压电、气敏、压敏特性以及很高的化学稳定性与热稳定性，又因其原材料来源丰富、价格低廉和无毒等特点，被广泛应用在表面波器件、太阳能电池和
山东工业技术 2018年18期2018-10-31
- 关于应用型人才培养背景下大型设备实验教学及考核的思考
院材料类专业磁控溅射镀膜实验教学的经验，提出了充分利用各个实践环节，分阶段多次安排实验，通过合理设置各阶段实验内容并有针对性进行考核，达到在应用型人才培养背景下让学生充分掌握该项技能的目的。这套方案可以借鉴到其他大型设备的实验教学改革上，克服大型设备教学不能充分应用到学生技能培养所面临的问题。关键词：应用型人才；大型设备；磁控溅射；实验教学中图分类号：G642.0 文献标志码：A 文章编号：1674-9324（2018）30-0274-03当前，地方高校面
教育教学论坛 2018年30期2018-09-25
- 氧化钛纳米颗粒薄膜制备技术及制氢应用进展研究
；薄膜制备；磁控溅射；制氢技术中图分类号：O484文献标识码：Adoi：10.14031/j.cnki.njwx.2018.05.001Abstract： As a renewable clean energy， solar energy will greatly ease or improve the energy crisis if the radiation part of the Earth is truly effective and ratio
农机使用与维修 2018年5期2018-07-05
- 耐高压单色QLED器件制备
要】本文通过磁控溅射和有机蒸镀的方法分别制备了量子点LED（QLED）的ZnO电子传输层和NPB空穴传输层，构建了基于CdSe/CdS/ZnS量子点作为发光层的红光QLED。通过优化电子传输层和空穴传输层制备工艺得到了稳定的耐高压单色器件，测试结果表明该器件在10-15V范围均可持续稳定地发出红光。【关键词】量子点；发光二极管；磁控溅射；有机蒸镀中图分类号： O472 文献标识码： A 文章编号： 2095-2457（2018）04-0124-003Man
科技视界 2018年10期2018-04-12
- 银纳米颗粒薄膜表面等离子共振特性研究
域。本文采用磁控溅射技术制备银纳米颗粒薄膜，并通过紫外-可见分光光度计对其表面等离子共振特性进行表征，研究溅射功率、退火温度等条件对薄膜表面等离子共振特性的影响规律。关键词：银纳米颗粒薄膜；磁控溅射；表面等离子共振；光选择中图分类号：TB383.1 文献标识码：A 文章编号：1671-2064（2018）24-0192-03在金属表面的微观尺度上普遍存在自由电子密度起伏，并且通过库仑势的长程作用将整个系统中的电子运动耦合起来，在正離子背景中形成了等离子体振
中国科技纵横 2018年24期2018-02-23
- 磁控溅射在金属表面强化中的应用
王艺霖摘要：磁控溅射是在近似真空的环境下，利用低压气体放电产生的正离子在电场作用下轰击靶材，使溅射出来的原子沉积在基片上的过程。它有低温、高速、低损伤的特点，且镀膜的质量高。该技术用于许多领域，例如光学、电子通讯等。金属表面强化是降低金属损耗，增加金属材料寿命，降低成本的重要技术。本文在描述磁控溅射与金属表面强化的基础上，重点阐述了磁控溅射在金属表面强化中的应用。关键词：磁控溅射 表面强化 铝合金强化 镁合金强化溅射技术从1852年格洛夫（Grove）发现
祖国 2018年23期2018-01-22
- 石墨靶功率对BCN薄膜质量的研究
积方法（射频磁控溅射）来制备一种硬质薄膜（BCN），通过选择合适的靶材（碳靶）和通入理想的气体（甲烷和氮气）进行实验，通过XRD衍射，台阶仪以及原子力显微镜对薄膜进行表征分析其薄膜的质量。【关键词】磁控溅射；BCN薄膜；靶材0 引言BCN薄膜是很多研究者长期研究的课题，因为其结构与金刚石结构很相似，所以研究者们认为它应该具备金刚石的特点，硬度极高，抗摩擦特性很好，而且具备优良的电学光学性能。众多科研人员首先建立模型，通过模拟其结构进行理论分析，发现其硬度可
科技视界 2017年21期2017-11-21
- 磁控溅射氮化钽工艺的等离子体发射光谱分析
段。关键词：磁控溅射 等离子发射光谱 氮化钽中图分类号：TB383 文献标识码：A 文章编号：1674-098X（2017）09（a）-0011-08Abstract： The possibility and potential of utilizing the Plasma Optical Emission Spectroscopy （Plasma OES）， as a Device-Independent characteristic， in the
科技创新导报 2017年25期2017-11-07
- Fe3N薄膜研究进展、制备及基本结构
铁氮化合物；磁控溅射；MOCVD中图分类号：O612 文献标识码：A 文章编号：1671-2064（2017）16-0251-021 引言在传统的电子学中，人们只关心电子的质量、电荷这两种属性，完全忽略了自旋这一内禀属性，而自旋电子学正是利用了电子自旋这一属性，从而产生了一门新的学科。1988年，Fert和Grunberg两个科研小组分别独立地在人工纳米结构（铁/铬多层膜）中发现了高达50%的磁电阻效应，相较之前的各向异性磁电阻效应（Anisotropic
中国科技纵横 2017年16期2017-09-13
- AZO薄膜理想表面形貌的制备与加工工艺优化
通过优化前段磁控溅射镀膜工艺和后段湿化学蚀刻工艺，用以平衡AZO薄膜的光电性能和雾度，从而获得具有理想表面形貌的AZO导电玻璃，使其成为理想的非晶硅薄膜太阳能电池的基板材料。实验表明，经工艺优化后制作的AZO导电玻璃可提升光电转换效率。关键词： AZO薄膜； 磁控溅射； 湿法刻蚀； 表面形貌； 非晶硅薄膜太阳能电池中图分类号： TU 73 文献标志码： A doi： 10.3969/j.issn.1005-5630.2017.03.015Preparati
光学仪器 2017年3期2017-07-08
- 磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响
0049)磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响孙钢杰,伊福廷,王焕华,贾全杰，张天冲(中国科学院 高能物理研究所 多学科中心，北京100049)摘要：利用磁控溅射技术，在不同偏压条件下在Si(001)基底上沉积了金属Cr薄膜样品。用同步辐射装置对样品进行了X-射线反射率测试，采用X-射线反射率分析法研究了不同偏压下Cr薄膜密度的变化。发现当偏压小于300V时，偏压对所沉积的薄膜起到紧致的效果，偏压为300V时薄膜密度最大；当偏压大于300V时，薄
电镀与精饰 2016年7期2016-08-12
- 磁控溅射CrAlCN涂层的结构与性能研究*
0065)磁控溅射CrAlCN涂层的结构与性能研究*郭盛1，熊计1，赵海波2，杜昊1，鲜广1(1. 四川大学 制造科学与工程学院， 成都 610065; 2. 四川大学 分析测试中心， 成都 610065)摘要：采用离子化增强磁控溅射设备在硬质合金(YG8)基体表面沉积CrAlCN涂层，通过控制碳靶电流的大小，从而改变涂层中的碳含量。沉积后的涂层进行了纳米硬度、扫描电镜、X射线衍射、电子能谱和洛氏硬度结合力检测。随着碳靶电流的升高，涂层中的碳含量呈线性上
功能材料 2016年7期2016-08-11
- 氩气流量对(a-C：Fe)/Al2O3/Si异质结太阳能电池光伏效应的影响研究
要：采用射频磁控溅射法在n-Si(100)衬底上依次沉积氧化铝膜(Al2O3)和铁掺杂非晶碳薄膜(a-C：Fe)，制成(a-C：Fe)/Al2O3/Si异质结太阳能电池，研究了氩气流量对光伏性能的影响．在20 sccm到40 sccm范围内调节氩气流量，结果表明，氩气流量的大小对异质结太阳能电池的光伏性能有显著的影响，合适的氩气流量能显著增大(a-C：Fe)/Al2O3/Si异质结太阳能电池的开路电压和短路电流密度，进而增大异质结太阳能电池的光电转换效率．
三峡大学学报(自然科学版) 2016年2期2016-08-01
- 浅议汽车车窗玻璃膜中的金属膜
——真空蒸镀膜和磁控溅射膜的优劣
真空蒸镀膜和磁控溅射膜的优劣文：初庆宇走进汽车美容装潢店或4S店，汽车车窗贴膜是不可或缺的汽车美容项目。在琳琅满目的产品、演示及介绍中，很多品牌产品会强调自己的产品是磁控溅射金属膜，属于高端膜，不同于真空蒸镀膜。那么什么是真空蒸镀金属膜，什么是磁控溅射金属膜，他们有什么共同点，各自有何优缺点？这正是本文要向读者朋友介绍的内容。所谓的金属膜，即在聚酯（PET）基材上涂覆金属涂层而实现隔热的汽车车窗膜。其中使用磁控溅射工艺的即可称之为磁控溅射金属膜，相应的使用
汽车与驾驶维修(维修版) 2016年8期2016-07-31
- 射频磁控溅射MgZnO合金薄膜结构和光学性能研究*1
00)射频磁控溅射MgZnO合金薄膜结构和光学性能研究*1张继德，马宏源，于卓，董振江，辛春雨(白城师范学院 物理学院，吉林 白城 137000)摘要:采用射频磁控溅射技术在SiO2衬底上制备了MgZnO合金薄膜，分别用X-射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、荧光光谱仪分析了薄膜的结构、吸收特性和光致发光特性随Mg组分改变的影响.研究结果显示：所有MgZnO合金薄膜均表现为六角钎锌矿结构，(002)衍射峰峰位随Mg组分的增加向大角度方向移动；所有薄膜在可见
通化师范学院学报 2016年4期2016-07-21
- 退火温度对Ni51.33Mn33.23In15.43薄膜微观结构和磁性能的影响*
要：采用射频磁控溅射方法在Si(100)衬底沉积Ni-Mn-In磁性形状记忆合金薄膜。系统研究了退火温度对Ni51.33Mn33.23In15.43薄膜显微组织结构和磁性能的影响。研究表明，退火温度为873K时薄膜已完全结晶，随退火温度增加，薄膜表层颗粒细化。退火后薄膜的X射线衍射图表明，Ni51.33Mn33.23In15.43薄膜均由立方L21奥氏体母相和14M调制马氏体相组成。Ni51.33Mn33.23In15.43薄膜母相晶格常数、马氏体相的晶胞
功能材料 2016年6期2016-07-16
- 金属电阻率Cu/Cu2O半导体弥散复合薄膜的制备及其偏压效应
采用平衡直流磁控溅射技术，通过改变衬底偏压在玻璃衬底上制备了Cu/Cu2O弥散复合薄膜，并利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、四探针测试仪和紫外-可见分光光度计等进行表征与分析。研究发现，Cu/Cu2O弥散复合薄膜表现出金属和半导体双特性，其电阻率范围为(5.23～9.98)×10-5Ω·cm，禁带宽度范围为2.23～2.47 eV。同时，研究还发现衬底偏压对Cu/Cu2O弥散复合薄膜的形貌、结构、电学和光学性能都产生了较大的影响，特别是当衬底偏压为-100
功能材料 2016年3期2016-05-25
- 溅射制备CdS薄膜及其在CdTe电池中的应用
要：采用射频磁控溅射方法分别在石英玻璃和TCO玻璃上制备了不同厚度的CdS薄膜，研究了CdS薄膜厚度对薄膜结构和光学性质的影响。在不同厚度的CdS/TCO衬底上， 进一步制备成CdTe薄膜太阳电池。结果表明，CdS薄膜厚度的增加有利于薄膜的生长与结晶；110 nm的薄膜具有禁带宽度为2.41 eV的最大值；测试电池性能，得到CdS厚度为110 nm的电池具有11.42%的最高转换效率。关键词：磁控溅射；CdS薄膜；CdS/CdTe电池0引言由于CdTe 电
功能材料 2016年3期2016-05-25
- 氩氧比对常温磁控溅射制备HfO2薄膜性能的影响*
氩氧比对常温磁控溅射制备HfO2薄膜性能的影响*王钊1，2，惠迎雪1，贺爱锋2，吴慎将1 （1.西安工业大学光电工程学院，西安710021；2.陕西应用物理化学研究所应用物理化学国家级重点实验室，西安710061）摘 要：为了得到HfO2薄膜性能与工艺参数之间的关系，采用直流反应磁控溅射法在室温下沉积HfO2薄膜.通过正交实验分析了靶功率、靶基距和氩氧比对薄膜性能的影响程度，分析了影响最大的因素氩氧比对薄膜组分、力学性能及光学性能的影响规律.研究结果表明：
西安工业大学学报 2016年2期2016-05-25
- 硼掺杂氧化锌透明导电薄膜性能的研究*
摘要：用射频磁控溅射技术改变工作压强(0.1～9 Pa)在玻璃衬底上制备B掺杂ZnO薄膜，用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、四探针测试仪及粗糙度测试仪分别对薄膜进行微结构及其光电性能表征。结果发现，所有薄膜样品在420～900 nm区间内的平均透光率>91%；ZnO∶B晶粒尺寸随工作压强增大有先增大后减小，而电阻率先减小后增大的趋势。工作压强为0.5 Pa时电阻率达到最低1.53×10(-3) Ω·cm，所有薄膜样品禁带宽度相对于本征ZnO出现蓝移现象
功能材料 2016年2期2016-05-17
- 掺钛氧化锌纳米薄膜微结构及其光电性能研究*
要：采用射频磁控溅射法，以不同保温时间的掺钛氧化锌为靶材在普通玻璃衬底上制备了TZO(掺钛氧化锌)薄膜样品，测试其微结构和光电性能，从而获得制备性能优越的TZO薄膜所需靶材的最佳条件。测试结果表明，所有样品均为具有c轴择优取向的六角铅锌矿多晶纳米薄膜；靶材烧结温度和保温时间对薄膜微结构和光电性能有较大影响；以经1 500 ℃烧结并保温6 h的靶材所制备的薄膜光电性能较好，具有较大晶粒尺寸，在可见光区(400～760 nm)有较高的平均透过率91.16%，较
功能材料 2016年1期2016-05-17
- 镓锌氧化物半导体薄膜的晶粒生长特性及其微结构研究
料，利用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了镓锌氧化物(GaZnO)半导体薄膜.基于X射线衍射仪的测试表征，研究了薄膜厚度对GaZnO样品晶粒生长特性和微结构性能的影响.研究结果表明：所制备的GaZnO样品为多晶薄膜，并且都具有六角纤锌矿型结构和(002)晶向的择优取向生长特性；其(002)取向程度、结晶性能和微结构参数等均与薄膜厚度密切相关.随着薄膜厚度的增大，GaZnO样品的(002)择优取向程度和晶粒尺寸表现为先增大后减小，而位错密度和晶格应变则表现为
中南民族大学学报（自然科学版） 2016年1期2016-04-21
- 界面改性对SiCp/Cu复合材料导热性能的影响*
)摘要：采用磁控溅射法结合结晶化热处理工艺在SiC颗粒表面成功制备了金属Mo涂层，分析Mo涂层的成分和形貌；采用热压烧结工艺制备SiCp/Cu复合材料，重点对比分析Mo界面阻挡层厚度对复合材料导热性能的影响。结果表明：磁控溅射法能够在SiC颗粒表面沉积得到Mo 涂层，随溅射时间的延长，Mo涂层的厚度增加、粗糙度增大，且磁控溅射后SiC颗粒表面直接得到的Mo涂层为非晶态，结晶化热处理后，变为致密平整的晶态Mo涂层。磁控溅射时间对Mo涂层厚度和复合材料导热性能
国防科技大学学报 2016年1期2016-04-08
- 微流控芯片的制备及其对糖类物质的检测
-湿法刻蚀和磁控溅射镀膜技术制备出了集成有金属膜电极的玻璃基片，将二者经过等离子体处理，进行键合后获得了集成有电化学检测器的PDMS-玻璃微流控芯片.以市售蜂蜜为待测物质，研究了该芯片对蜂蜜中糖类物质的分离检测性能.结果表明：在分离电压为850 V，电解液为50 mmol/L氢氧化钠条件下，使用该PDMS玻璃微流控芯片成功地在3 min内实现了对葡萄糖、蔗糖和果糖的有效分离和检测.关键词：微流控芯片；磁控溅射；电泳分离；电化学检测；糖1 引 言微流控芯片通
武汉工程大学学报 2016年1期2016-04-07
- 二氧化硅微球制备及银膜等离子体共振特性研究
值.关键词：磁控溅射;二氧化硅;核壳;表面等离子共振表面等离子共振是金属纳米颗粒一项很重要的光学特性，这使得该类材料受到了众多科研人员的重视与青睐，并被广泛用于微电子、光电子、能源、化工、医药等诸多领域.虽然金属纳米颗粒材料有着这样突出的特性，但其实际应用中受到了特殊的限制，那就是其表面等离子共振效应受到自身结构的过分制约，难以调谐，从而使共振产生的吸收峰被限制在一个相对狭小的波长范围内[1-2].而以电介质为核、金属为壳的帽状纳米粒子其表面等离子共振频率
西安文理学院学报（自然科学版） 2016年1期2016-03-18
- 调制中频高功率脉冲磁控溅射电源的设计
制脉冲高功率磁控溅射MPP（Modulated pulsed power），普通高功率磁控溅射系统中的直流部分可以用低频脉冲来代替，尽可能减少低频脉冲占空比并且可以确保充分预处理，使高功率脉冲占空比尽可能最大，提高系统的溅射效率。关键词：调制脉冲；磁控溅射；HPPMS；MPP近年来，国外发展了HPPMS（高功率脉冲磁控溅射）技术，并且这种技术具备一定高的离化率和很好的薄膜性能，因此在技术领域有一定的影响力。HPPMS的峰值功率高出普通磁控溅射达2个数量级；
无线互联科技 2015年18期2016-03-07
- 磁控溅射沉积气致变色WO3薄膜研究进展
0044)磁控溅射沉积气致变色WO3薄膜研究进展温佳星，王美涵，彭洋，王新宇，侯朝霞，王少洪，胡小丹(沈阳大学机械工程学院，辽宁 沈阳 110044)摘要：氧化钨薄膜因其特殊的物理化学性质，在智能窗、传感器等诸多新领域具有广泛的应用前景。为使WO3薄膜气致变色特性得到良好的应用，需要制备新型纳米结构氧化钨薄膜。磁控溅射是工业制备WO3薄膜的有效方法之一。掠射角磁控溅射是在传统磁控溅射基础上发展的新型薄膜制备技术，通过将衬底倾斜一定角度，可制备出具有高结晶
中国材料进展 2016年1期2016-03-04
- 磁控溅射法制备ZnO:Ga薄膜的结晶质量及其应力研究
磁控溅射法制备ZnO:Ga薄膜的结晶质量及其应力研究钟志有1,2，兰椿1，龙路1，陆轴1(1 中南民族大学 电子信息工程学院，武汉 430074; 2 中南民族大学 智能无线通信湖北省重点实验室, 武汉 430074)摘要以氧化锌(ZnO)掺杂氧化镓(Ga2O3)的陶瓷靶作为溅射靶材，采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了透明导电的掺镓氧化锌(ZnO:Ga)薄膜.通过X射线衍射仪测试研究了衬底温度对薄膜结晶性能及其残余应力的影响.研究结果表明：所有ZnO:
中南民族大学学报（自然科学版） 2015年1期2015-12-31
- 纳米银局域表面等离激元共振———环境传感、分子识别及光物质相互作用增强
要:基于利用磁控溅射方法制备的纳米银颗粒，研究了纳米银颗粒局域表面等离激元对介质环境的敏感程度，作为媒介提高光与物质相互作用的可能性．研究结果表明:传感灵敏度最大可达到约931 nm/RIU，石墨烯拉曼信号可提高约40倍，可见光吸收提高约10倍．该研究表明制备简单、光学响应灵敏的纳米银颗粒在传感、光电探测及分子识别等领域具有潜在的应用价值．关键词:表面光学;表面等离激元共振;可见及拉曼光谱测量;纳米银颗粒;磁控溅射;石墨烯0引言金属材料中处于费米能级附近的
上海师范大学学报·自然科学版 2015年4期2015-12-21
- 共溅射制备WxSi1—x/Si多层膜应力的实验研究
： 采用直流磁控溅射技术制备了周期厚度为27.5 nm的W/Si多层膜，使用实时应力测量装置对其应力特性进行了研究。为降低膜层应力，采用W、Si共溅射技术制备WxSi1-x膜层替换W膜层，制备出WxSi1-x/Si多层膜，与W/Si多层膜的应力特性进行了比较研究。结果表明，W/Si多层膜为较大的压应力，测量值为-476.86 MPa，WxSi1-x/Si周期多层膜为较小的压应力，测量值为-102.84 MPa。因此采用共溅射制备WxSi1-x代替W可以显著
光学仪器 2015年4期2015-09-24
- 溅射时间对Ni/SiO2玻璃光衰减片衰减性能的影响
果，采用真空磁控溅射法，利用真空磁控溅射仪制备纳米级厚度的Ni/SiO2玻璃光衰减片.利用X-射线衍射（XRD）、原子能谱、扫描电镜和722分光光度计等表征手段，研究溅射时间（5、10、15、20、25 min）对透光率、微观结构的影响.实验结果表明：当溅射工作压力为0.4Pa，溅射时间为25 min时，金属Ni在siO，玻璃基片上形成（111）和（200）晶面取向的镀Ni薄膜；SiO2玻璃基片上沉积的薄膜平整，颗粒分布均匀、排列紧密；试样的透光率达到0.
哈尔滨理工大学学报 2015年1期2015-06-23
- 薄膜厚度对AZO薄膜光电性能的影响
要：通过射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备AZO薄膜，研究膜层厚度对AZO薄膜光电特性的影响。发现随着膜层厚度的增加，AZO薄膜在可见光区的平均透射率略微增长，而方块电阻和电阻率却显著递减，导致其品质因子随厚度增加而增加。在薄膜厚度为395 nm时，获得电阻率为3.24×10-3Ωcm，可见光区平均透射率为85.52%，品质因子为25.52×10-4Ω-1的光电性能良好的透明导电薄膜。本文制备的薄膜具有较优的透明导电性，可以广泛应用于太阳能电池、平板显示器等
陶瓷学报 2015年1期2015-05-28
- 磁控溅射LaB6薄膜光学性能研究
0054)磁控溅射LaB6薄膜光学性能研究吴华杰，林祖伦*，王小菊，邓江(电子科技大学光电信息学院，成都610054)摘要:采用磁控溅射法在玻璃基片上沉积LaB6薄膜。通过改变溅射功率参数，获得最佳制备工艺条件。采用XPS、X射线衍射仪和分光光度计研究薄膜的成分、结构、晶向以及透过率。当溅射功率为44 W，氩气气压为1.5 Pa，氩气流量为27 sccm时制备的LaB6薄膜表面相对平整，结构致密。XRD数据也表明，此时LaB6薄膜结晶度最高且(110)晶
电子器件 2015年3期2015-02-26
- 氧分压对直流磁控溅射氧化钨薄膜结构和组成的影响
氧分压对直流磁控溅射氧化钨薄膜结构和组成的影响王美涵, 温佳星, 龙海波, 侯朝霞(沈阳大学 机械工程学院, 辽宁 沈阳110044)摘要:采用直流反应磁控溅射,在不同氧分压条件下制备了氧化钨薄膜,并对薄膜进行了热处理.通过X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、能谱(EDS)、X射线光电子能谱(XPS)和紫外-可见光谱(UV-VIS)等手段表征了氧化钨薄膜的晶体结构、表面形貌、化学组成以及透射率.结果表明:沉积所得氧化钨薄膜均为无定形
沈阳大学学报(自然科学版) 2015年2期2015-02-25
- 固定化MexOy-TiO2/活性炭催化剂的应用研究
要：利用射频磁控溅射工艺在AZ31镁合金表面溅射了TiO2薄膜，并对薄膜的特性进行了研究。扫描电镜观察显示制备态的TiO2薄膜结构致密，表面无缺陷。对薄膜经过200 ℃保温30分钟、常温冷却或者85 ℃保持一小时后放到常温保持15分钟，连续实施4次该操作的两种热处理工艺后，观察到薄膜表面致密结构没有发生变化，表面也没有缺陷生成。这表明了薄膜具有热稳定性。薄膜表面硬度特性研究表明薄膜表面的显微硬度为1.51 GPa。最后，研究了表面镀有TiO2薄膜的AZ31
上海第二工业大学学报 2012年1期2012-08-17
- 平面圆形磁控溅射靶枪的磁场分析
张喜凤摘要：磁控溅射靶枪中磁通量密度的横向分布情况对靶材的利用率、沉积薄膜的质量及磁控溅射过程的稳定性等都有重大的影响。利用有限元理论对靶表面磁通量密度的横向分量进行了模拟分析。同时，也使用高斯计对靶表面磁场强度的横向分布进行了实际测量。比较得知，模拟结果和实际测量结果在很高的精度上是一致的。这个结果对于优化磁控溅射靶枪的设计及提高膜层的特性等方面都具有很高的实用价值。关键词：磁控溅射；有限元；横向分量；磁通量密度中图分类号：TB43文献标识码：A文章编号
现代电子技术 2009年13期2009-08-31