不同抛光方法对前牙邻面去釉后邻接触点及龈方牙釉质抛光效果的影响*

肖俐娟 黄朝阳 杨湘伶

广西医科大学口腔医学院/附属口腔医院,广西南宁市 530021

邻面去釉是通过磨削牙齿邻面釉质,获得间隙或调整牙齿外形的方法,在正畸治疗中应用广泛。为了恢复良好的牙齿外形,在磨除邻接触点区域的牙釉质之后,还需要对邻接触点及周围的牙釉质进行外形修整,以获得理想的邻面外形[1]。但邻面去釉工具会在牙釉质表面留下划痕及沟槽[2],所以在邻面去釉后需要配合抛光,减小牙釉质表面的粗糙度[1]。然而,目前对邻面去釉后抛光效果的研究,多是针对邻接触点区域进行的,对邻接触点下方龈外展隙处的抛光不够重视[3]。但是修整牙体外形的时候,也会涉及该区域的釉质,且该部位邻近牙龈,粗糙的釉质表面会促进细菌的黏附[4],增加菌斑的堆积以及牙龈炎症的风险。目前最常用的抛光系统是机用抛光盘,具有操作方便、省时省力的优点,但是由于机用抛光盘本身的结构特点所限,很难贴合牙齿外形进行抛光,特别是位于邻接触点下方倒凹区,机用抛光盘很难到达这个区域。而且,临床中对于这部分牙釉质的抛光没有足够重视,甚至在很多研究中,即使采用的抛光系统本身配备了利于抛光倒凹区的手用抛光条,在实际操作中也没有使用[1,3,5]。因此有必要对该区域的牙釉质抛光效果进行研究。本研究通过离体牙实验,比较不同抛光方法对邻面去釉后邻接触点及龈外展隙区域的牙釉质表面粗糙度的影响,为临床工作提供参考。

1 材料与方法

1.1 一般资料 收集2022年3—6月在我院因正畸或牙周病原因拔除的前牙40颗,前磨牙12颗。纳入标准:患者年龄在12～45岁之间,离体牙形态正常,牙釉质发育良好。排除标准:氟斑牙、四环素牙,以及存在龋齿、釉质缺损或充填物的离体牙。使用软毛牙刷及不含氟牙膏将离体牙表面的软垢及软组织清理干净后,放入人工唾液,储存在4℃的冰箱中备用[6]。根据随机数字表法将离体前牙分为三个实验组和一个对照组,每组10颗牙,20个邻面。本实验通过医院伦理委员会批准(伦理批号:2021012),患者及家属签署知情同意书。

1.2 方法

1.2.1 实验方法:将各实验组和对照组的离体前牙,每5颗一组,排列到石膏模型中,同时在双侧最末一颗前牙的远中,各排列1颗离体前磨牙,模拟天然牙的邻接触关系。在NISSIN仿真头模上,使用机用金刚砂条(正畸邻面去釉套装,佛山山月医疗器械有限公司)对每个前牙邻面进行邻面去釉,并利用伞形金刚砂车针(FG3203E 道邦,中国)和手用邻面去釉砂条(GAC 登士柏,美国)修整邻面外形,使用厚度塞尺进行测量,确保每个牙釉质表面的去釉量为0.2mm[7-8]。完成邻面去釉后,对不同实验组采用不同的方法抛光:Ⅰ组:使用3M Sof-lex抛光盘(Sof-lex 3M,美国)进行抛光。采用制造商推荐的方法,按照粗糙(10 000r/min)、中等(10 000r/min)、精细(30 000r/min)、超精细(30 000r/min)的顺序依次进行抛光,每种粒度的抛光盘在每个面抛光20s。Ⅱ组:使用3M Sof-lex抛光盘配合3M Sof-lex抛光条抛光。在使用3M Sof-lex抛光盘抛光后,使用3M Sof-lex抛光条对邻接触点周围及下方龈外展隙区域进行抛光,共两种粒度的抛光条带,每种粒度在每个面抛光20s。Ⅲ组:使用3M Sof-lex抛光盘配合而至Epitex抛光条(Epitex 而至,日本)进行抛光。在使用3M Sof-lex抛光盘抛光后,使用而至Epitex抛光条按照由粗到细的顺序依次进行抛光。五种粒度的抛光条,每一条在每面抛光20s。

抛光完成后,将离体前牙从石膏模型中取出,根据牙冠表面的标记点,把邻面的釉质制备成邻接触点下缘标记线上下各2mm×2mm的牙釉质试样。所有试样分别放入100ml蒸馏水中,用超声波清洗机(GB0203,深圳市冠博科技实业有限公司)清洗2min[2]。Ⅳ组:对照组,不进行任何邻面去釉和抛光的处理,只在样本制作完成后进行超声波清洗。

1.2.2 样本测定:利用激光共聚焦显微镜(OLS5100 奥林巴斯,日本)对样本表面的面粗糙度Sa进行测量。每组20个样本,每个样本表面随机选取三个点进行测量,同时拍摄牙釉质表面的三维形貌图。

1.3 统计学方法 采用SPSS25.0 软件包对数据依次进行方差齐性检验和 Kruskal-Wallis秩和检验,P<0.05为数据差异有统计学意义。

2 结果

2.1 表面粗糙度比较 邻面去釉并抛光后,所有实验组邻接触点区域的釉质表面粗糙度都低于对照组,差异均具有统计学意义(P<0.05)。各实验组中,Ⅰ组的粗糙度最大,其次为Ⅱ组和Ⅲ组。其中Ⅰ组和Ⅱ组之间的粗糙度无统计学差异(P=0.229),Ⅲ组与Ⅰ组和Ⅱ组的结果相比,均具有统计学差异(P<0.05),见表1。

表1 邻面去釉后邻接触点区域牙釉质表面粗糙度比较

邻接触点下方区域的表面粗糙度最大的是Ⅰ组,其次为Ⅳ组、Ⅱ组和Ⅲ组。Ⅰ组的表面粗糙度大于对照组,差异有统计学意义(P<0.05),Ⅱ组和Ⅲ组的表面粗糙度小于对照组,差异有统计学意义(P<0.05),且各实验组之间的差异均具有统计学意义(P<0.05),见表2。

表2 邻面去釉后邻接触点下方区域牙釉质表面粗糙度比较

2.2 激光共聚焦显微镜观察

2.2.1 各组离体牙邻面去釉后邻接触点区域的釉质表面形貌:各组离体牙邻接触区釉质表面形貌如图1所示,Ⅳ组未行邻面去釉,牙釉质表面可见釉质末端呈小圆形凸起,部分釉柱结构呈轻度脱矿,见图1A4、B4。各实验组经过邻面去釉后,釉质表面有划痕,经不同抛光处理后,釉质表面的光滑程度不同,Ⅰ组的釉质表面划痕明显,而Ⅱ组表面的划痕变浅,Ⅲ组的表面划痕最少,釉质表面平整光滑。

图1 邻面去釉后邻接触点区域牙釉质表面形貌的3D(A)和2D(B)形貌

2.2.2 各组离体牙邻接触区下方釉质表面形貌:如图2所示,Ⅳ组牙釉质表面釉质末端呈小圆形凸起,部分釉柱结构呈轻度脱矿,见图2 C4、D4。Ⅰ组釉质表面釉质结构不规则,凹凸不平。Ⅱ组釉质表面虽然仍可见密集的沟壑纹理,但表面形貌已相对平滑。而Ⅲ组呈现出平整光洁的表面。

图2 邻面去釉后邻接触点下方区域牙釉质表面形貌的3D(C)和2D(D)形貌

3 讨论

邻面去釉作为正畸治疗中常用的辅助治疗手段,<0.25mm的釉质去除量被认为是安全的[8]。但是,无论使用何种仪器,邻面去釉都会增加釉质表面的粗糙度[2],粗糙的釉质表面可能会引发脱矿和促进牙菌斑和牙石的堆积[9]。有研究表明,邻面去釉后的釉质表面在10年后仍有深的沟槽,因此邻面去釉后有必要进行完善的抛光[1]。在进行邻面去釉时,去除邻接触点区域的釉质之后,接触点会变得平坦,甚至会在去釉区域的周围出现台阶[10],在这种情况下,需要对边缘进行平滑处理,并对接触点周围的牙体外形进行修整,将牙齿重塑成理想的形状[1]。

在临床中常常使用伞形车针和手用金刚砂条进行外形修整[5,11]。但是目前的研究大多都只关注了邻接触区的抛光,忽略了对邻接触点近龈方外展隙处的釉质抛光[2,5,12]。此处位于邻接触区域外的倒凹区,目前常用的机用抛光盘由于本身结构的限制,很难贴合倒凹区的牙体表面进行完善的抛光。一项临床研究发现,邻面去釉后靠近牙颈部的位置粗糙度最高,且不易抛光[13],而另一项体内研究表明,在邻面去釉12周后,邻接触区的牙釉质就开始变得平整,而靠近颈部的非接触区牙釉质在1年以后仍显示出与邻面去釉刚结束时相似的沟纹,因此推测这样的情况可能会增加牙周疾病和龋齿的风险[14]。本研究也发现,对于邻接触区域的釉质表面,单纯使用机用抛光盘或者结合使用手用抛光条均能获得良好的抛光效果,抛光后的釉质表面粗糙度小于未行邻面去釉的对照组。但是,对于邻接触区下方的倒凹区域,单纯使用机用抛光盘不能取得良好的抛光效果,釉质表面在抛光后仍存在大量明显的沟壑凹槽。因此,对于这个区域采用适合有效的抛光方法非常重要。

临床中常使用机用金刚砂条配合机用抛光系统进行邻面去釉[15],手用抛光条由于操作费时费力,应用较少,甚至在很多研究中,即使选用的抛光系统本身配有手用的抛光条,也只使用了机用抛光盘进行抛光[1,3,5]。但是手用抛光条可以贴合牙体外形深入倒凹区进行抛光,且不易损伤牙龈,在对前牙、扭转牙和修整后的牙齿进行抛光的时候,手用抛光条尤其适用[11,16]。3M Sof-lex是临床中常用的邻面去釉后的抛光工具,有学者报道其抛光过的釉质表面比天然牙面还光滑[2],它总共配备了四种表面粒度的抛光盘,分别是100μm、29μm、14μm、5μm,但其配套的抛光条只有100μm、29μm两种粒度。而至Epitex抛光条系统是一个手用抛光条系统,总共有五种粒度的抛光条,分别是51μm、25μm、18μm、11μm、0μm。为了模拟临床中的实际操作环境,本研究采用邻面去釉最常涉及的前牙作为研究对象[17],将离体前牙仿照牙弓的形态排列到石膏模型中,在仿头模系统中进行操作。研究发现,单纯使用机用抛光盘不能对邻接触区下方的釉质表面进行完善的抛光,而配合使用3M Sof-lex抛光条和而至Epitex抛光条的实验组均获得了比对照组更光滑的表面,使用而至Epitex抛光条的实验组获得了最光滑的釉质表面。既往的研究指出,影响最终釉质表面粗糙度的,是最后一步抛光工具的表面粒度[3,18]。这与本研究的结果一致,在Ⅲ组中,使用3M机用抛光盘配合而至Epitex抛光条进行抛光,在兼顾抛光效率的同时,获得了良好的抛光效果。而至Epitex抛光条粒度从51μm过渡到最后一条粒度为0的聚酯薄膜抛光条,总共有五种粒度的抛光条,每种粒度的抛光条抛光20s,客观上也延长了抛光时间,最终获得了最为光滑的表面。

综上所述,邻面去釉会导致牙釉质表面的粗糙度增加,规范的抛光可以使粗糙度下降,抛光后的表面甚至比天然釉质表面还光滑。邻接触点下方的龈外展隙是抛光过程中容易忽略的地方,且单纯采用常规抛光盘进行抛光效果不佳,在临床中应该重视该区域的抛光。采用机用抛光盘结合手用抛光条对邻面去釉后的邻接触区和龈外展隙处的牙釉质进行抛光,可以在兼顾效率的前提下获得理想的抛光效果。抛光条粒度过渡越好,终末抛光条粒度越小时,抛光效果更好。