Aston半导体计量平台Atonarp公司

Atonarp宣布推出Aston，这是一个创新的原位半导体计量平台，集成了等离子体离子源。Ascon可实现原位分子过程控制，并有助于现有晶圆厂更高效地运行，从而推动产量的提高。Ascon是一个用于半导体生产的强大平台，从头开始构建，可替代多种传统工具，并在一整套应用中提供前所未有的控制水平，包括光刻、电介质及导体蚀刻和沉积、腔室清洁、腔室匹配和气体减排。Aston通过在流程完成时进行准确检测（包括腔室清洁）来优化生产，从而将所需的清洁时间缩短高达80%。Aston耐受腐蚀性气体和气化污染物冷凝液，比现有解决方案更稳健，采用独立双离子源（包括一个常规电子轰击离子源和一个无灯丝等离子体发生器），能够在半导体生产遇到的恶劣条件下可靠运行。这使得Aston能够以原位状态在苛刻环境中使用。与传统质量分析仪相比，使用Aston的维修间隔长达100倍。它包括自清洁功能，可消除由于某些工艺中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积累。由于Aston会生成自己的等离子体，因此在它工作时，过程等离子体可有可无，这使Aston成为原子层沉积（ALD）和某些可能使用弱等离子体、脉冲等离子体或不使用等离子体进行处理的金属沉积工艺的理想选择。Ascon还通过提供量化、可操作的实时数据来改进工艺一致性，通过人工智能（AI）促进强大的机器学习功能，以符合要求最苛刻的工艺应用。此外，由于实时数据统计分析和工艺腔室管理的高精度、高灵敏度和可重复性，这进一步改进了生产线并提高了产品产量。Ascon主要用于化学气相沉积（CVD）和蚀刻应用，这两种应用的年增长率均超过13%。此款光谱仪可以在新工艺腔室的组装过程中进行安装，也可将其加装到已运行的现有腔室。