沈兆国, 郝培育, 翟仲军, 李程程, 张晓杰, 张凤霞, 羊 毅
(1.光电控制技术重点实验室,河南 洛阳 471000;2.中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所,河南 洛阳 471000; 3.山东华特知新材料有限公司,济南 250101)
高功率高重频激光器在激光探测、中红外激光照明、激光对抗等领域有较高应用价值,尤其在光电对抗领域,高功率高重频中红外激光器是光电对抗系统的重要部件,其输出的性能及稳定性直接决定了应用效果。随着中波光电探测器的发展和应用,其性能得到了业界肯定,中波探测逐渐被用于光电探测系统,目前在1000~3000 nm和3000~5000 nm波段探测器应用较为广泛,为了实现对该波段的有效干扰,需要研制在该波段之间的激光器[1-6]。获得中波段输出的激光器主要有化学激光器、半导体激光器以及采用频率变换输出的激光器。化学激光器体积较大,并伴随较多污染气体,因此不宜采用;半导体激光器,尤其是量子级联激光器发展较迅速,功率在逐渐提高,但是国内单管输出功率较低,集成后的体积较大,不利于现阶段工程化应用;采用频率变换输出的激光器主要利用1000 nm波段附近的激光器直接泵浦频率变换晶体产生,或者采用2000 nm波段附近的激光器泵浦频率变换晶体产生[7-10]。为了获得高峰值功率输出,本文采用了高峰值功率的1064 nm的激光器泵浦频率变换晶体KTP产生2100 nm激光,抽运ZGP晶体产生4200 nm的激光输出,利用光参量输出镜透过率设计实现了2100 nm和4200 nm激光双波段激光输出。采用了高平均功率的1064 nm的激光器泵浦频率变换晶体PPLN产生高功率2100 nm激光输出,泵浦PPLT产生了高功率3900 nm激光输出。
实验装置如图1 所示。
图1 4200 nm光参量振荡器实验装置图Fig.1 The 4200 nm OPO experiment setup
激光器采用了传统平平腔结构,有利于调节和高能量激光输出,M1(反射率R=85%,有利于降低腔内功率密度,避免对激光增益介质和非线性晶体的损伤)和 M2(S1面:T=80%@1064 nm;S2面:R=99.8%@2 μm,T=80%@1064 nm)1064 nm激光输出镜构成1064 nm激光谐振腔,腔长L=165 mm。M2和M3的2100 nm激光输出镜对1064 nm 部分透过(T=15%,防止OPO调整时对器件的损伤)对2 μm部分反射(R=50%)。M3和M4(S1面:T=80%@4200 nm;S2面:R=99.8%@2100 nm,R=80%@1064 nm)中红外激光输出镜构成第二级OPO光参量振荡器谐振腔,腔长L=10 mm。激光增益介质为Nd,Ce:YAG螺纹棒,有利于降低激光振荡阈值和提高泵浦光吸收效率,Nd,Ce:YAG螺纹棒直径为φ6 mm,长度为85 mm ,两端面镀有对1064 nm高透的介质膜以减少激光振荡损耗。实验中采用脉冲LD作为泵浦源,脉冲LD阵列呈环形包在激光棒周围,通过循环水强制冷却。为了得到窄脉宽纳秒级脉冲,利用了侧面泵浦技术与电光调Q技术,采用高的电光系数及损伤阈值的LN作为电光调Q开关的晶体。其中,Q开关控制电路产生约为4000~5000 V 可调电压,加在Q开关上,脉冲LD电源产生的触发信号输入Q开关控制电路,经Q开关控制电路内部延时后,能有效控制电光Q开关。LN晶体作为调Q开关主要有加压式、退压式、预偏置等几种方式。加压式一般需要四分之一波片,增加插入损耗;退压式需要正负互补驱动电压,增加电路设计复杂难度;预偏置式不需要四分之一波片,也不需要互补电压,因此本文采用预偏置调Q方式。预偏置技术就是利用铌酸锂晶体的自然双折射效应,将初射入光提前偏离一定角度,使得e光和o光的光程差等于四分之一波长,等同于四分之一波片,利用折射率椭球可以计算出e光和o光的光程差。
(1)
(2)
式中:lz为铌酸锂晶体长度;ne和no分别为e光和o光折射率;γ22为LN晶体的电光系数;α为入射光主平面与晶体感应主轴X′和Z′组成平面的夹角。
当没有加电场情况(E=0)时,光程差为
(3)
(4)
LN晶体的ne和no分别为2.233和2.154,所以可以得到
(5)
式中:m=0,1,2,3,…,选用m=0,实际用的晶体长度为20 mm,因此θ≈0.36°。
OPO频率变换采用II类相位匹配方式的KTP 晶体,相位匹配角度为51.5°,另一角度为90°,晶体尺寸为8 mm×8 mm×14 mm,两个端面均镀有2100 nm和1064 nm 增透膜;Ⅱ类相位匹配的KTP 晶体作为非线性晶体放置在Nd,Ce:YAG激光器的谐振腔内,KTP晶体在150~2180 nm 波段有十分高的透射率,其有效非线性系数和抗损伤阈值也很大,适合作为产生2100 nm激光的晶体。实验中,OPO 工作在KTP 晶体的简并点(信号光和闲置光频率相等),既可以获得高能量的2100 nm激光输出,又可以降低镀膜的难度。KTP 和ZGP晶体分别用铟箔包裹侧面后放入水冷铝块中进行冷却,水冷铝块通过循环水强制冷却,温度控制在23 ℃。
在电源输入电流100 A、工作频率50 Hz的条件下,1064 nm输出能量为260.8 mJ。经过KTP-OPO频率变换技术实现2100 nm激光输出,采用内腔频率变换,在电源输入电流100 A、工作频率50 Hz的条件下,2100 nm激光能量输出为106.2 mJ, 1.06 μm到2 μm转换效率达到38.9%。在电源输入电流80 A、工作频率50 Hz的条件下,采用内腔频率变换,获得4200 nm最高能量12 mJ激光输出,脉宽8 ns,峰值功率高达12.8 MW,2100 nm到4200 nm转换效率达到31.2%,剩余的2100 nm波段激光输出45 mJ。4200 nm激光器注入电流与输出激光能量关系如图2所示。
图2 4200 nm输出能量与注入电流关系Fig.2 The 4200 nm output energy vs input current
实验装置如图3 所示。
图3 3900 nm光参量振荡器实验装置图Fig.3 The 3900 nm OPO experiment setup
图3中,序号1为1064 nm激光器全反镜,曲率为1 m;2为808 nm泵浦阵列;3为激光增益介质Nd:GdVO4,在810 nm与880 nm附近具有两个吸收峰,吸收峰值是808.5 nm,半宽是Nd:YAG的近二倍,较适合LD泵浦;4为1064 nm偏振片;5为声光调Q,通过高重频驱动电源实现高重频控制及驱动;6为输出镜,透过率为20%;7为1064 nm校正镜;8为2100 nm全反镜,镀膜为2100 nm全反,1064 nm增透;9为周期极化晶体PPLT,用于产生2100 nm波段激光;10为2100 nm输出镜,对2100 nm透过40%,对1064 nm全透;11为1064 nm折转镜,对1064 nm为45°反射,对2100 nm波段45°增透;12为3900 nm,45°折转镜,对1064 nm为45°全反,对3900 nm为增透;13为1064 nm聚焦镜,对1064 nm聚焦,对3900 nm增透;14为四分之一波片;15为3900 nm输出镜;16为周期极化晶体PPLT;17为3900 nm全反镜,对1064 nm增透,对3900 nm全反,对1463 nm波段全反;18为1064 nm四分之一波片;19为对1064 nm的56.5°折转镜。激光器接收到工作指令后,激光电源对半导体阵列供电,产生在激光增益介质吸收带内的光谱辐射,这些光被耦合到激光增益介质上,储存在激光增益介质激发态能级。为了提高激光脉冲峰值功率,Q开关关闭,阻止在腔镜的反馈下产生的受激辐射,激光增益介质激发态能级储存的粒子数最大时,Q开关打开,腔内迅速产生激光振荡,产生波长为1.064 μm的激光脉冲输出,经过差频晶体PPLT,实现2100 nm激光输出;剩余的1064 nm激光进入3900 nm光参量振荡器,实现3900 nm激光输出,剩余的1064 nm激光进入原始的激光器内部,再次实现注入放大。当激光电源以一定频率工作时,激光器便产生一定频率的激光脉冲,这个过程中产生的热通过冷却系统耦合到外界。
利用PPLT-OPO频率变换技术,通过外腔频率变换方式,实现3900 nm和2100 nm双波段激光输出。在电源输入电流40 A、调Q驱动频率10 kHz的条件下,获得3900 nm激光的最高输出功率为5.6 W,2100 nm激光的最高输出功率为8.3 W。双波段输出功率与注入电流关系如图4所示。由图4可以看出,随着注入电流的增大,激光的输出功率线性增加。
图4 输出功率与注入电流关系Fig.4 The output power vs input current
通过1064 nm泵浦KTP产生高峰值功率2100 nm激光输出,并抽运ZGP晶体,在电源输入电流80 A、工作频率50 Hz的条件下,采用内腔频率变换,获得4.2 μm最高能量12 mJ的激光输出,2100 nm波段激光输出45 mJ。通过1064 nm分别泵浦PPLT和PPLN获得2100 nm激光输出和3900 nm激光输出,在电源输入电流40 A、调Q驱动频率10 kHz的条件下,获得3900 nm激光的最高输出功率为5.6 W,2100 nm激光的最高输出功率为8.3 W,均满足了某系统应用要求。