退火自动化上下料设备提升良品率的措施

2018-07-02 07:30卫晓冲
山西电子技术 2018年3期
关键词:硅片印记石英

卫晓冲

(中国电子科技集团公司第二研究所,山西 太原 030024)

PERC:发射极及背表面钝化的太阳能电池,是一种高效的先进晶硅光伏电池结构,可实现单晶电池转换效率提高0.8%~1.2%,多晶电池转换效率提高0.5%~0.8%[1]。随着PERC电池技术的成熟及市场对高效组件需求的激增,一线厂商均在积极扩产,高效PERC电池正引领光伏市场。

1 单晶PERC电池片生产工艺简介

单晶PERC电池片的主要工艺流程有:制绒—扩散—刻蚀—退火—背钝化—PECVD—激光消融—丝网印刷—烧结—测试分选,退火,是高效晶体硅电池的必备工艺[2]。其主要作用是进行热氧化,在硅片表面形成较薄的钝化层。作为退火工艺的上下料设备,作为整个工艺不可缺少的一环,尽可能的降低该步骤的硅片的不良率,是追求效益最大化的生产厂家的一致愿景。

2 设备的功能介绍

退火工艺时,硅片的承载舟具是石英舟,其前后道工艺的硅片承载花篮是容量为100片硅片的篮具,间距为4.76 mm,本文讨论的设备使用的石英舟,是容量1 200片,间距2.38 mm,平舟。

退火自动化上下料设备的功能就是,将石英舟内两两背靠背退火后的硅片取出,放入100片篮具,再吸取100片篮具中未退火的硅片,将其两两背靠背装入石英舟内进行退火工艺。

其工作过程包括以下几步:

装片步骤:1)一正一反两个篮具分别传送到位并定位,将篮具内硅片托起并校正。

2)两组真空吸盘移动到篮具上方,吸取硅片。

3)再移动到石英舟上方,将硅片两两紧贴,插入石英舟。

卸片步骤:1)吸盘吸取石英舟内硅片,并实现硅片两两分离。

2)吸盘移动到篮具上方,放置硅片到托齿上,校正硅片。

3)硅片落入篮具,传送篮具到下料区。

3 不良片产生原因分析及改善措施

在EL(电致发光)测试中,出现的不良硅片,在此上下料过程中产生的,主要表现有硅片表面出现吸盘印、划伤等痕迹,如图1~图4所示。

3.1 产生的原因分析

◆ 如图1所示,印记为边缘清晰的圆圈,与吸盘的吸孔形状大小相吻合,如果吸盘产生的真空度太高,吸力过大,而PERC电池片源厚度较薄,在吸盘吸孔处使硅片产生了形变,损坏了硅片表面的膜,从而留下印记。

◆ 如图2所示,这样的印记,说明在硅片插取片过程中,吸盘与硅片产生了摩擦,发生了相对运动,才会产生这样的吸盘印。

◆ 如图3所示,长条直线型、大面积划伤,说明硅片有大面积的接触型摩擦,分析插片机的装卸流程,只有卸片时,背靠背的两张硅片,在分开的过程中,两张硅片之间会产生这样的摩擦,要消除这种划伤,必须改善分片流程。

◆ 如图4所示,划伤在硅片两侧,对比痕迹与硅片的相对位置,分析该划伤可能产生于硅片与石英舟齿槽的摩擦,及硅片与篮具上方校正齿的摩擦。

图1 吸盘印1 图2 吸盘印2

3.2 采取的改善措施

1) 首先将吸盘真空发生器的进气气源进行调整,原来为0.5 MPa,调小到0.35 MPa;将吸盘吸孔大小改为Φ5 mm,这样,同样的真空度,由于施加到硅片的面积变小了,硅片上吸孔处的受力就变小了,硅片也就不会产生形变了。

2) 硅片与吸盘可能产生相对运动的地方,有两处:a)吸盘吸着硅片往石英舟托齿上插的时候;b)吸盘吸着硅片往篮具托齿上插的时候,将这两处吸盘下降的距离调高0.5 mm,防止有的硅片变形或硅片不齐,顶到托齿上,产生相对运动,而产生印记。

3)要消除大面积划伤,就要让硅片与硅片之间少接触,改善分片流程,先X方向移动2 mm,使两张紧贴的硅片完全分开,然后再横移分片,往篮具处移动。

4)消除两侧划伤,首先要保证硅片的变形在合理范围内,硅片翘曲度小于1 mm,其次,石英舟齿槽的尺寸误差要小于0.2 mm,然后改变硅片与校正齿的接触角度,硅片与校正齿成点接触,不会产生线性划伤。

3.3 改善效果

针对同一台退火炉和固定的一台上下料设备,炉内使用固定的5个石英舟,经过连续10 d,每天24 h的生产,跟踪每天的生产数据,经过统计,在该工序,硅片不良率由0.5%降低到0.05%以下。

4 总结

通过对设备吸盘的结构,动作流程和各种参数的优化,改善了设备的运行状态,提高了产品良率,对于之后的同类设备更深入的探索研究,带来新的思路和参考。

[1] 蔡先武,周子游,刘文峰.单晶硅PERC高效太阳电池量产工艺研究[D].北京:中国可再生能源学会,2017.

[2] 陈璐,吴翔,魏凯峰.PERC太阳能电池生产工艺研究[D].北京:中国电子学会, 2017.

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