研发投资对企业技术进步影响的异质门槛效应

赵传仁，韩先锋，宋文飞

(1.西北大学经济管理学院，陕西　西安　710127；2.陕西师范大学西北历史环境与经济社会发展研究院，陕西　西安　710062)



研发投资对企业技术进步影响的异质门槛效应

赵传仁1，韩先锋1，宋文飞2

(1.西北大学经济管理学院，陕西西安710127；2.陕西师范大学西北历史环境与经济社会发展研究院，陕西西安710062)

基于中国战略性新兴产业2011—2014年上市企业的面板数据，运用门槛回归技术，考察了所有制差异视角下R&D对企业技术进步的异质门槛效应。结果表明：R&D强度只有超过一定门槛水平时，才能对企业技术进步产生促进作用，R&D强度对企业技术进步影响的门槛效应存在显著的所有制差异；存在最优异质R&D强度区间，国有企业为0.09%～2.27%，民营企业为0.96%～12.74%，公众企业为0.13%～6.34%，在该区间内R&D强度对企业技术进步促进效应最明显；当跨越最优R&D强度区间时，R&D投资对国有企业技术进步具有负向效应，而对民营企业和公众企业技术进步均依然有促进效应，但这种促进作用呈现边际效应递减规律。

R&D强度；所有制差异；技术进步；门槛效应

1　引言

在经济全球化背景下，自主研发对中国这样的后发国家虽并不是唯一的技术进步方式，技术进步还取决于从外部获取的R&D技术溢出，但通过外商直接投资和进口渠道获得的技术存在滞后性，甚至在某种条件下R&D技术溢出非常有限[1-2]。毫无疑问，自主R&D对战略性新兴产业技术进步起着举足轻重的作用。

虽然中国创新能力逐年高速增长，企业也非常注重技术创新，投入了大量研发资金，但效果并不十分理想。与此相对应的是，很多企业并不进行研发和创新活动，也能够顺利经营，这也充分表明研发投入与企业绩效之间的关系并不仅仅是简单的线性关系。然而，相关研究主要聚集于对R&D投入与企业生产率之间线性关系的探讨，对非线性关系的研究尚不多见。现有研究可归纳为以下四方面：一是促进论[3-4]；二是抑制论[5-6]；三是不确定性论[7-8]；四是非线性论[9-10]。另外，关于R&D与战略性新兴产业或企业绩效的相关研究还比较少见，且主要集中于对其线性关系的考察，鲜有研究涉及R&D投资与战略性新兴企业技术进步的关系，尤其是对二者之间非线性关联的探讨就更为少见。鉴于此，本文采用战略性新兴产业上市企业的面板数据，基于所有制差异视角揭示R&D投入对企业技术进步的影响是否存在异质非线性效应，以期为促进战略性新兴产业R&D活动与产业增长的协调发展提供一定的理论参考。

2　研究设计

2.1计量模型设计

本文通过Hansen[11]提出的面板门槛回归模型,来研究所有制差异视角下R&D投资对战略性新兴企业技术进步影响的异质门槛效应。结合中国战略性新兴企业的发展实际，这里构建的面板门槛模型如下：

lnTECHit=μi+α1RDit·I(RDit≤γ1)+α2RDit·I(RDit>γ1)+...+αnRDit·I(RDit≤γn)+αn+1RDit·I(RDit>γn)+θXit+εit

(1)

其中，TECHit表示第i个战略性新兴企业在t年和基年相比的技术进步水平，RDit既为核心解释变量，又为门槛变量。xit表示企业规模、资本结构等其他控制变量。

2.2数据来源与变量说明

本文以战略性新兴产业155家上市企业(其他企业由于未公开披露年度报告或研发数据存在严重缺失予以剔除)为研究样本，选取2011—2014年为研究时段，所涉及数据主要从Wind数据库提取，部分数据来自上市企业的年度报告等资料。这里将研究样本划分为国有、民营和公众企业三组(外资企业由于样本过少，予以剔除)。相关变量设定如下：

(1)被解释变量，企业技术进步。本文拟采用Malmquist生产率指数方法来测度战略性新兴企业的技术进步指标。在假定每一个企业作为一个决策单元的前提下，以(xt,yt)和(xt+1,yt+1)分别表示某一个企业在时期t和时期t+1的投入产出量，基于产出角度的全要素生产率(TFPCH)的Malmquist生产率指数可分解为技术进步变化(TECH)、规模效率变化(SECH)和纯技术效率变化(PECH)，即：

TFPCH=TECH(xt,yt,xt+1,yt+1)×PECH(xt,yt,xt+1,yt+1)×SECH(xt,yt,xt+1,yt+1)

(2)

式(2)中的技术进步(TECH)就是本文所构造的被解释变量。在测度指标的选取上，这里选取企业主营业务收入作为产出指标，选取从业人数和固定资产分别作为劳动要素和资本要素的投入指标。

(2)核心解释变量，R&D强度。与总量指标相比，R&D强度在不同企业之间更具有可比性，更能反映与企业规模、市场地位等相适应的R&D投入情况。这里采用R&D投入与主营业务收入的比值来反映R&D强度。

(3)控制变量。这里对可能影响战略性新兴企业技术进步的其他变量进行了控制。包括：①企业规模(FS)，采用总资产的对数来衡量；②资本结构(CAPS)，采用总负债与总资产的比值来衡量；③盈利能力(PRO)，选取(净利润+利息费用+所得税)/平均资产总额作为盈利能力的衡量指标；④营运能力(OPC)选取总资产周转率来体现；⑤金融支持(FIN)选取流通股占总股本比例来反映；⑥股权集中度(OWN)选取大股东持股比例来体现。

3　实证结果及解释

这里首先对是否存在门槛效应进行检验，以便识别方法使用的合理性，以及确定门槛模型的具体形式以及门槛的个数。利用Hansen提出的“自举法”，通过重叠模拟似然比检验统计量2000次，估计出bootstrapP值。由不同分组检验结果可知，R&D强度门槛变量都在1%、5%或10%的显著性水平下通过了单门槛、双门槛和三门槛检验。其中，国有企业R&D强度的三个门槛值分别是0.0006、0.0009和0.0227，民营企业R&D强度的三个门槛值分别是0.0086、0.0096和0.1274，公众企业R&D强度的三个门槛值分别是0.0013、0.0634和0.1787。为了消除异方差的影响，这里对研究样本进行了稳健标准差检验，结果如表1所示。

表1　所有制差异视角下的门槛效应检验

注：括号内为修正异方差后的t统计量，***、**、*分别表示系数通过1%、5%、10%的显著水平。RD_1到RD_4为不同门槛区间研发强度(rd)变量的系数。

(1)对于国有企业，当R&D强度水平低于0.0006时，即当R&D投入占主营业务收入的比值低于0.06%时，R&D强度对企业技术进步的影响不显著；当R&D强度介于0.06%～0.09%之间时，R&D强度对国有企业技术进步水平具有明显的抑制作用；当R&D强度位于0.09%～2.27%之间时，R&D强度对国有企业技术进步水平的影响开始转变为显著的正向效应。而当R&D强度水平高于2.27%时，R&D投入则会对国有企业技术进步产生一定的抑制作用。可见，国有战略性新兴企业存在最优R&D强度0.09%～2.27%，即只有保持适度的R&D强度水平才有利于国有企业技术进步。

之所以会出现上述影响规律，本文认为原因可能在于：第一，研发投资具有阶段性特征，当处于创新前期时，研发对企业商业化能力的贡献有限，但随着研发投入强度的进一步提高，较多技术被转化成新产品，进而会有利于企业绩效提升；第二，企业绩效是由对资源的投资能力和对资源的管理能力共同决定的，而在研发活动前期，企业可能难以实现研发资源与其他各种资源的协同效应，甚至在资源管理能力比较薄弱时，由于可能会出现各种资源调度和使用相互干扰的情况，反而会损害企业绩效水平提升。但随着企业协调和整合资源的管理能力的不断提升，使得其研发投入强度提高至一定水平则会促进企业绩效；第三，当研发投入强度超过一定范围时，会挤占企业其他方面的资源投入，带来较高的机会成本，加之国有企业相对于非国有企业资源管理水平不足，以及要素边际效率递减规律等的共同作用，反而导致了过高的研发投入强度不利于其绩效水平提升。进而使得R&D投资会对国有企业技术进步产生倒“N”型影响规律。

(2)对于民营企业，当R&D强度水平低于第一门槛值0.0086时，即当R&D投入占主营业务收入的比值低于0.86%时，R&D投入对民营企业技术进步的影响不明显；当R&D强度水平跨过第一门槛且小于第二门槛值时，R&D投入对民营企业技术进步具有显著的抑制作用；当R&D强度水平跨过第二门槛且小于第三门槛值时，其对民营企业技术进步的作用显著为正，影响系数减小为0.3598，此时促进作用最为明显；当R&D强度水平跨过第三门槛时，其对民营企业技术进步仍具有显著的促进效用，但影响力度进一步减小为0.0597。可见，R&D强度只有超过一定门槛值时，才会促进民营企业技术进步，且存在最优R&D强度区间0.96%～12.74%。

(3)对于公众企业，当R&D强度水平低于第一门槛值0.0013时，即当R&D投入占主营业务收入的比值低于0.13%时，R&D强度对公众企业技术进步的影响作用显著为负，这不同于国有企业和民营企业的情况；当R&D强度跨过第一门槛值且小于第二门槛值时，R&D投入对公众企业技术进步产生显著的促进效应，此时促进作用最强；当R&D强度跨过第二门槛值且小于第三门槛值时，R&D投入对公众企业技术进步的促进效应的强度明显减小。当R&D强度跨过第三门槛值时，R&D投入对公众企业技术进步的影响仍表现为显著的促进效应，其影响强度进一步减小。不难发现，R&D强度对公众企业技术进步的影响表现出显著的“先负后正”的非线性效应，且存在最优R&D强度区间0.13%～6.34%。

上述研究表明，R&D投资会对不同所有制企业技术进步的非线性影响存在一定差异。即民营企业和公众企业的R&D投资强度只要超过一定门槛水平后，会持续促进其绩效水平提升，而国有企业过高的R&D投资强度则会导致其陷入“R&D增长悖论”的困境。本文认为可能原因在于：一是相比非国有企业，国有企业拥有政策和制度上的优势，其既能获得某些行业的垄断势力，也更容易获得数额相对较大的政府补贴，挤出效应和高额利润的获取往往会导致其降低通过自主创新提升企业绩效的动力；二是非国有企业在产权制度、激励机制等方面具有先前优势，在经营中拥有更大的灵活性和治理效率，比国有企业拥有更强的研发动力，这也是为什么非国有企业平均R&D投资强度高于国有企业的原因，加之其拥有相对国有企业较高的资源管理水平，使得其仍表现为正向影响效应，但在要素边际效率递减规律作用下，其影响力度有所降低。

通过不同样本组的比较不难发现：第一，R&D强度只有超过一定水平才能促进企业技术进步，但不同性质企业存在明显的R&D强度门槛差异，此时国有企业的R&D强度门槛值为0.09%，民营企业的R&D强度门槛值为0.96%，公众企业的R&D强度门槛值为0.13%；第二，当R&D强度跨越最优门槛区间时，R&D投入对战略性新兴企业技术进步的影响存在明显的所有制差异，具体表现在，R&D投入对国有企业技术进步具有负向效应，而对民营企业和公众企业技术进步均具有边际效应递减的正向效应。

表2为不同门槛区间下的不同类型企业分布规律，可以发现：对于国有企业，在R&D强度门槛条件下，企业集中分布在第三、四门槛区间内，各门槛区间分别占比为55.769%、26.923%，即R&D投资对国有企业技术进步的影响力度集中在1.8518到-0.2397水平，而具有正向影响的企业占比为55.769%；对于民营企业，在R&D强度门槛条件下，企业集中分布在第三门槛区间，企业集中度为68.966%，R&D对民营企业技术进步的影响力度集中在0.3598水平，而具有正向影响的企业占比达77.012%；对于公众企业，在R&D强度门槛条件下，企业集中分布在第二门槛区间，企业集中度为68.750%，R&D对公众企业技术进步的影响力度集中在3.2408水平，而具有正向影响的企业占比高达93.75%。

表2　样本门槛分布规律　单位：%

由控制变量可知，企业规模对国有企业和公众企业技术进步影响不显著，而显著促进了民营企业技术进步；资本结构对国有企业和民营企业技术进步的影响不明显，但有利于公众企业技术进步；盈利能力和股权集中度均对国有企业技术进步产生了抑制效应，但均显著促进了公众企业技术进步，而对民营企业技术进步的作用并不显著；营运能力对国有企业和公众企业技术进步的影响均不显著，而对民营企业技术进步产生了明显的负面作用；金融支持显著有利于民营企业技术进步，而对国有企业和公众企业技术进步的作用不明显。

4　结论与建议

研究发现，第一，R&D强度只有超过一定限度时才能促进战略性新兴企业技术进步，存在异质最优R&D强度区间，其中，国有企业为0.09%～2.27%，民营企业为0.96%～12.74%，公众企业为0.13%～6.34%；第二，当R&D强度跨越最优区间时，R&D对战略性新兴企业技术进步的影响所有制差异明显，R&D投入对国有企业技术进步具有负向效应，而对民营企业和公众企业技术进步均具有边际效应递减的正向效应。另外，企业规模、盈利能力、股权集中度等因素均对战略性新兴企业技术进步产生了显著的异质影响。

本文研究政策意蕴明显：首先，由于不同所有制企业的R&D活动均多集中于最优门槛区间内，因此政府应充分考虑到不同所有制企业自身R&D活动的实际及R&D活动的异质规律，一方面要不断鼓励企业适时调整自身R&D强度，提升最优R&D强度区间内的企业集中度，另一方面要不断引导企业优化R&D资源配置，注重发挥R&D资源与企业其他资源的协同，持续提高自身对R&D资源管理能力，进而不断提升R&D资源的利用效率。其次，政府应根据所有制差异视角下战略性新兴企业R&D强度的异质门槛水平，制定差异化的研发补贴政策和税收优惠政策，科学合理地支持企业开展科技创新活动，要避免原有的产业发展政策、技术创新政策单一、固定的静态标准，应注重根据不同所有制企业发展情况适时滚动修订，及时调整至合理水平。最后，要从投入产出的系统角度来看待R&D与企业技术进步的协调发展，要充分考虑企业规模、盈利能力、金融支持、股权集中度等诸多因素的共同影响，只有当R&D与这些因素有效结合，才能更有效地促进企业技术进步。

[1]刘小鲁.知识产权保护、自主研发比重与后发国家的技术进步[J].管理世界,2011(10):10-19.

[2]马天毅,马野青,张二震.外商直接投资与我国技术创新能力[J].世界经济研究，2006(7):4-8.

[3]HALL B H，MAIRESSE J.Exploring the relationship between R&D and productivity in french manufacturing firms[J].Journal of econometrics,1995,65(1):263-293.

[4]周亚虹,贺小丹,沈瑶.中国工业企业自主创新的影响因素和产出绩效研究[J].经济研究,2012(5):107-119.

[5]陈刚.R&D溢出、制度和生产率增长[J].数量经济技术经济研究,2010(10):64-77.

[6]汤二子,刘海洋,孔祥贞,孙振.中国制造业企业研发投入与效果的经验研究[J].经济与管理,2012(8):57-61.

[7]FERNANDES A M.Firm productivity in bangladesh manufacturing industries[J].World development，2008,36(10):1725-1744.

[8]张海洋.R&D两面性、外资活动与中国工业生产率增长[J].经济研究,2005(5):107-117.

[9]戴小勇,成力为.研发投入强度对企业绩效影响的门槛效应研究[J].科学学研究,2013,31(11):1708-1716.

[10]孙晓华,王昀.R&D投资与企业生产率—基于中国工业企业微观数据的PSM分析[J].科研管理，2014(11):92-99.

[11]HANSEN B E.Sample splitting and threshold estimation[J].Econometrica,2000,68(3):575-603.

(责任编辑刘传忠)

R&D Input’s Heterogeneous Effect on Technological Progress of the Enterprises

Zhao Chuanren1,Han Xianfeng1,Song Wenfei2

(1.School of Economics and Management，Northwest University,Xi’an 710127,China；2.Northwest Institute of Historical Environment and Socio-Economic Development，Shaanxi Normal University，Xi’an 710062,China)

Based on 2011—2014 panel data of listed companies in strategic emerging industries in China，by using Threshold Regression Model，this paper examines R&D input’s heterogeneous effect on the technological progress of the enterprises under the perspective of the ownership difference.The study shows that the R&D input would promote the enterprises’ technological advance，only when the intensity touches a certain threshold level，and there is the ownership difference upon R&D’s threshold effect on the enterprises’ technological advance.There is the most excellent heterogeneous R&D intensity range，state-owned enterprise 0.09%～2.27%，private enterprise 0.96%～12.74%，public enterprise 0.13%～6.34%.Within these intensity scope，R&D intensity has the most promotion effect on the enterprises’ technological progress.When it goes far beyond the above range，R&D would have the inhibiting effect on the technological progress of the state-owned enterprise，while still promote the private and public enterprises with the diminishing marginal trend.

R&D intensity；Ownership differences；Technology progress；Threshold effect

国家自然科学基金面上项目(71273209)，国家自然科学基金青年项目(71302143)。

F426

A