衬底温度对TiOPc光敏有机场效应管的影响

2016-09-10 01:32郑亚开彭应全
发光学报 2016年6期
关键词:酞菁场效应管迁移率

郑亚开,韦 一,孙 磊,陈 真,彭应全,,唐 莹*

(1.中国计量学院光学与电子科技学院,浙江杭州 310018; 2.兰州大学物理科学与技术学院,甘肃兰州 730000)

衬底温度对TiOPc光敏有机场效应管的影响

郑亚开1,韦一1,孙磊2,陈真1,彭应全1,2,唐莹1*

(1.中国计量学院光学与电子科技学院,浙江杭州 310018; 2.兰州大学物理科学与技术学院,甘肃兰州 730000)

制备了基于酞菁氧钛(TiOPc)的有机光敏场效应管,对氧化铟锡(ITO)衬底器件进行温度优化。实验结果表明,随着衬底温度(Tsub)的增加,器件载流子迁移率(滋)、光暗电流比(P)和光响应度(R)先增加后减小,在Tsub=140℃时达到最大。Tsub=140℃的ITO衬底器件,在波长808 nm、光功率密度190 mW·cm-2的近红外光照下,最大载流子迁移率达到1.35×10-2cm2·V-1·s-1,最大光暗电流比为250,栅压为-50 V时的最大光响应度为1.51 mA/W。

有机光敏场效应管;酞菁氧钛;衬底温度

1 引 言

有机场效应管(Organic field-effect transistors,OFETs)在柔性电子领域引起了众多关注,例如主动矩阵显示[1]、生物医学[2]、无线射频识别标签[3]和传感器[4]等。在各种OFETs中,光敏有机场效应管(Photoresponsive organic field-effect transistors,PhOFETs)被认为是光探测器中的关键组成部分[5]。PhOFETs的性能与有源层薄膜的特性有关,如结晶性、晶粒大小、分子取向以及晶粒间的相互作用等[6]。真空蒸镀有源层薄膜的特性与制备工艺直接相关,比如蒸发速率、衬底温度[7]以及退火处理[8]。用有机单晶作有源层的PhOFETs表现出最佳性能,但是迄今为止,大面积制备有机单晶在工艺上仍然面临很多困难[9]。

由于酞菁类化合物无毒且具有优异的化学和热稳定性、较好的场效应特性[10],所以其在PhOFETs中的应用引起了很多研究者的兴趣[11]。酞菁氧钛(TiOPc)是最有效的有机光电导体材料之一[12-16],目前已经应用在超过90%的激光印刷机中。相比于其他有机材料,TiOPc是一种非平面、极性分子,它的钛氧基团位于酞菁大环的垂线上,即TiOPc分子是一个小金字塔结构[14]。TiOPc具有3种晶体结构:单斜晶向的β-TiOPc、三斜晶向的α-TiOPc和另外一种三斜晶向的γ-TiOPc。已经有研究者通过量子力学计算和结构分析预测:当共轭分子与邻近分子有强烈的相互间作用力,即π分子轨道交叠程度最大时,可以获得高载流子迁移率。因此,理论上来说,π堆叠结构能够提供更有效的轨道交叠,以有利于载流子传输。所以,三斜晶相的TiOPc均具有较好的载流子迁移率,尤其α-TiOPc的载流子迁移率最高。现阶段,衬底加热仍然是一种有效改善热蒸发有机薄膜特性的方法,该方法可以减少薄膜的微观张力且提高薄膜结晶度。Tada等[15]首先将TiOPc应用到OFETs中,但是所得器件的迁移率很低(10-5cm2·V-1·s-1)。2007年,胡文平等[14]已经在Si衬底上制备出空穴迁移率高达3.31 cm2·V-1·s-1的TiOPc OFETs。然而,目前还少有关于衬底为ITO玻璃的衬底温度对近红外TiOPc PhOFETs性能影响的报道。本文研究了ITO玻璃衬底近红外TiOPc PhOFETs的性能与衬底温度的关系,结果显示,当Tsub=140℃时,滋dark、滋ill、P和R均达到最大值,分别为1.28× 10-2cm2·V-1·s-1、1.35×10-2cm2·V-1· s-1、250和1.51 mA/W。

2 实 验

2.1材料与方法

有源层采用TiOPc,购于Sigma-Aldrich公司。栅介质层采用聚乙烯醇(poly(vinyl alcohol),PVA),购于Alfa Aesar公司。器件采用底栅顶接触结构,其剖面图如图1所示,采用ITO玻璃作为衬底(兼栅极),PVA作栅介质。

首先,在盐酸中将ITO腐蚀形成条状,再经丙酮、乙醇、去离子水超声清洗,高纯度N2吹干,在烘箱中60℃下烘烤20 min彻底去除表面水汽。之后,将质量分数为20%的PVA溶液旋涂在ITO衬底上,转速为3 000 r/min,PVA薄膜完全覆盖衬底,厚度为1 100 nm,单位面积电容为4.24 nF· cm-2。为了改善PVA栅介质的性能[17-19],将旋涂好PVA薄膜的ITO衬底放在200℃的真空干燥箱中交联2 h,并在60℃下退火30 min。然后,在一个高真空装置中,于PVA上部沉积40 nm厚的TiOPc,该高真空装置中有一个可加热的衬底固定装置。衬底温度分别为100,120,140,160,180℃,蒸发时真空度保持在3×10-3Pa,且蒸发速率为0.25 nm/s,通过一个石英晶体微天平监测蒸发速率。紧接着,通过掩膜版蒸发金源漏电极,以保证器件的沟道宽度为2 mm、沟道长度为50 μm。

图1 TiOPc PhOFETs的剖面结构图Fig.1 Cross-section drawn of TiOPc PhOEFTs

2.2表征

采用TU-1901光谱仪测量TiOPc薄膜的吸收光谱。TiOPc薄膜的结构通过X射线衍射(X-ray diffraction,XRD)测定。TiOPc薄膜的形貌利用原子力显微镜(Atomic force microscopy,AFM)测定。室温条件下,在暗箱中通过有机半导体测量系统测试TiOPc PhOFETs的电学特性。测量时,顶部入射光采用波长为808 nm近红外激光,用中性密度滤波片调整入射光强,入射光功率密度为190 mW·cm-2。

3 结果与讨论

图2(a)为TiOPc薄膜的吸收图谱,图2(b)为不同衬底温度下的TiOPc薄膜的XRD图谱。当Tsub=100℃时,2兹=6.8°处有尖锐的衍射峰,该衍射峰代表TiOPc薄膜为无定型相。在温度逐渐升高到140℃的过程中,2兹=6.8°处的衍射峰消失,而2兹=7.5°处的衍射峰逐渐增强,该衍射峰代表TiOPc薄膜为α相。当温度升高到160℃时,2兹=6.8°和7.5°处的衍射峰消失,表明此时TiOPc薄膜为非晶相。2兹=21.5°处的衍射峰对应的是ITO的(211)晶面,因为ITO的成分包括9.42%的SnO2和89.75%的In2O3[20]。

通过XRD图谱分析可知:当100℃≤Tsub≤140℃时,随着Tsub的逐渐升高,TiOPc薄膜中无定型相TiOPc的比例逐渐减少,α-TiOPc的比例逐渐增多;当Tsub≥160℃时,TiOPc薄膜转变为非晶态。

图2 (a)40 nm TiOPc薄膜的吸收图谱,衬底为ITO玻璃;(b)衬底温度为100,120,140,160℃时,40 nm TiOPc的XRD图谱。Fig.2 (a)Absorption spectrum of 40 nm TiOPc on ITO glass.(b)XRD patterns of 40 nm TiOPc with Tsub= 100,120,140,160℃.

AFM图更清楚地表明了表面粗糙度与Tsub之间的关系(图3)。Tsub=100℃时,颗粒均方根(Root mean square,RMS)较大(10.537 nm),颗粒分散在薄膜表面,导致薄膜均匀性不好,进而导致载流子传输能力较差,即载流子迁移率较低。当Tsub≤140℃时,随着Tsub的逐渐升高,RMS逐渐减小(Tsub=120℃时,RMS为6.684 nm;Tsub= 140℃时,RMS为6.045 nm),导致薄膜均匀性变好,载流子传输能力增强。当Tsub=160℃时,薄膜RMS又增大(7.888 nm),导致其载流子传输能力变差。

图3 不同衬底温度下制备的40 nm TiOPc薄膜的AFM图像。(a)Tsub=100℃;(b)Tsub=120℃;(c)Tsub=140℃;(b)Tsub=160℃。Fig.3 AFM images of 40 nm TiOPc films fabricated at different substrates temperature.(a)Tsub=100℃.(b)Tsub=120℃.(c)Tsub=140℃.(b)Tsub=160℃.

根据饱和区域的电流公式:

可以得出饱和区的载流子迁移率:

式中,W为沟道宽度,L为沟道长度,Cox为介电层单位面积上电容,VG为栅电压,VT为阈值电压。

PhOFETs中有一个很重要的参数:光暗电流比(P),定义为:

式中,Iph为光生漏电流,Id,dark为黑暗情况下漏电流,Id,ill为光照下漏电流。

PhOFETs中另外一个重要的参数是光响应度,定义为:

式中,Pinc为器件沟道上的入射能量,Popt为入射光的能量密度,A为器件的沟道面积。

Dev.1~4分别为不同衬底温度下制备所得器件,如表1所示。器件在负漏压(Vd)、负栅压(Vg)条件下表现出典型的p型场效应特性,其在黑暗和光照条件下的输出特性和转移特性曲线如图4所示。从输出特性曲线可以发现,Dev.3的|Id,dark|和Iph比其他器件大。Dev.1~4的性能参数在表1列出,其中包括黑暗/光照下的阈值电压(VT,dark、VT,ill)、饱和区载流子迁移率(滋dark、滋ill)、光暗电流比(P)和光响应度(R)。从图5中可以发现:当Tsub≤140℃时,随着Tsub的逐渐增大,滋、Pmax和R逐渐变大,在Tsub=140℃时达到最大。这是因为:当Tsub≤140℃时,TiOPc薄膜中无定型相逐渐减少,α-TiOPc逐渐增多;同时RMS逐渐减小,导致薄膜均匀性变好,载流子传输能力增强。正是这两个因素导致R随Tsub的升高而增大。当Tsub=140℃时,滋dark、滋ill、P和R达到最大值,分别为1.28×10-2cm2·V-1·s-1、1.35× 10-2cm2·V-1·s-1、250和1.51 mA/W。当Tsub>140℃时,观察到滋、P和R随Tsub的升高变小。这是因为此时TiOPc薄膜转变为非晶态,且其RMS变大,导致其载流子传输能力变差。

表1 器件性能参数Tab.1 Dvice performance details

图4 黑暗(填充)和光照(未填充)情况下,Dev.1(a,b)、Dev.2(c,d)、Dev.3(e,f)以及Dev.4(g,h)的输出和转移特性曲线。Fig.4 Output and transfer characteristics of Dev.1(a,b),Dev.2(c,d),Dev.3(e,f),and Dev.4(g,h)in dark(filled symbol)and under illumination(empty symbol),respectively.

图5 (a)不同衬底温度下制备的器件的Pmax与R值;(b)不同衬底温度下制备的器件在黑暗与光照条件下的滋值,Vg=-40 V,Vd=-50 V。Fig.5 (a)Plots of Tsubvs.Pmaxand R.(b)滋of the devices obtained under Vg=-40 V and Vd=-50 V.

4 结 论

制备了不同衬底温度的TiOPc PhOFETs。结果显示,随着衬底温度的升高,载流子迁移率(滋)、光暗电流比(P)和光响应度(R)先增大再减小。滋是OFETs中很重要的参数,同时P和R是PhOFETs中很重要的两个参数,它们均在Tsub=140℃时达到最大,分别为1.35×10-2cm2·V-1·s-1、250和1.51 mA/W。这是因为随着衬底温度的升高,TiOPc薄膜中α-TiOPc逐渐增多,同时TiOPc薄膜均匀性逐渐变好,从而增加了TiOPc PhOFETs的近红外吸收和载流子迁移率。但是在更高的衬底温度时,TiOPc薄膜转变为非晶态,且其RMS变大,导致其近红外吸收和载流子传输能力变差。

[1]周茂清,李尧,姚博,等.基于并五苯/酞菁铅异质结的近红外光敏有机场效应管[J].发光学报,2014,35(3):342-348. ZHOU M Q,LI Y,YAO B,et al..Near infrared photoresponsive organic field-effect transistors by utilizing pentacene/ lead phthalocyanine heterojunction[J].Chin.J.Lumin.,2014,35(3):342-348.(in Chinese)

[2]BHARATH D,CHITHIRAVEL S,SASIKUMAR M,et al..A detailed study on the thermal,photo-physical and electrochemical properties and OFET applications of D-π-A-π-D structured unsymmetrical diketopyrrolopyrrole materials[J]. RSC Adv.,2015,5(115):94859-94865.

[3]SMITS E C P,MATHIJSSEN S G J,VAN HAL P A,et al..Bottom-up organic integrated circuits[J].Nature,2008,455(7215):956-959.

[4]MARTÍNEZ M T,TSENG Y C,ORMATEGUI N,et al..Label-free DNA biosensors based on functionalized carbon nanotube field effect transistors[J].Nano Lett.,2009,9(2):530-536.

[5]PENG W L,LIU Y C,WANG C X,et al..A highly sensitive near-infrared organic photodetector based on oxotitanium phthalocyanine nanocrystals and light-induced enhancement of electron tunneling[J].J.Mater.Chem.C,2015,3(19):5073-5077.

[6]LI Y,ZHANG J P,LV W L,et al..Substrate temperature dependent performance of near infrared photoresponsive organic field effect transistors based on lead phthalocyanine[J].Synth.Met.,2015,205:190-194.

[7]SINHA S,WANG C H,MUKHERJEE M,et al..The effect of gate dielectric modification and film deposition temperature on the field effect mobility of copper(Ⅱ)phthalocyanine thin-film transistors[J].J.Phys.D:Appl.Phys.,2014,47(24):245103.

[8]DUALEH A,TÉTREAULT N,MOEHL T,et al..Effect of annealing temperature on film morphology of organic-inorganic hybrid pervoskite solid-state solar cells[J].Adv.Funct.Mater.,2014,24(21):3250-3258.

[9]LI Y Z,JI D Y,LIU J,et al..Quick fabrication of large-area organic semiconductor single crystal arrays with a rapid annealing self-solution-shearing method[J].Sci.Rep.,2015,5:13195-1-9.

[10]SUN L,LI Y,REN Q,et al..Toward ultrahigh red light responsive organic FETs utilizing neodymium phthalocyanine as light sensitive material[J].IEEE Trans.Electron Devices,2016,63(1):452-458.

[11]MELVILLE O A,LESSARD B H,BENDER T P.Phthalocyanine-based organic thin-film transistors:a review of recent advances[J].ACS Appl.Mater.Interf.,2015,7(24):13105-13118.

[12]NIU T C,ZHANG J L,CHEN W.Molecular ordering and dipole alignment of vanadyl phthalocyanine monolayer on metals:the effects of interfacial interactions[J].J.Phys.Chem.C,2014,118(8):4151-4159.

[13]RAMAR M,TYAGI P,SUMAN C K,et al..Enhanced carrier transport in tris(8-hydroxyquinolinate)aluminum by titanyl phthalocyanine doping[J].RSC Adv.,2014,4(93):51256-51261.

[14]LI L,TANG Q,LI H,et al..An ultra closely π-stacked organic semiconductor for high performance field-effect transistors[J].Adv.Mater.,2007,19(18):2613-2617.

[15]TADA H,TOUDA H,TAKADA M,et al..Quasi-intrinsic semiconducting state of titanyl-phthalocyanine films obtained under ultrahigh vacuum conditions[J].Appl.Phys.Lett.,2000,76(7):873-875.

[16]HONG F,GUO X N,ZHANG H,et al..Preparation of highly oriented copper phthalocyanine film by molecular templating effects for organic field-effect transistor[J].Org.Electron.,2009,10(6):1097-1101.

[17]CHOU Y H,CHIU Y C,CHEN W C.High-k polymer-graphene oxide dielectrics for low-voltage flexible nonvolatile transistor memory devices[J].Chem.Commun.,2014,50(24):3217-3219.

[18]GUO T F,TSAI Z J,CHEN S Y,et al..Influence of polymer gate dielectrics on n-channel conduction of pentacene-based organic field-effect transistors[J].J.Appl.Phys.,2007,101(12):124505.

[19]SAKAI H,CHEONG H J,KODZASA T,et al..Effect of dielectric behavior of gate dielectric polymers on memory characteristics of organic field-effect transistors[J].J.Photopolym.Sci.Technol.,2014,27(3):333-337.

[20]FALLAH H R,GHASEMI M,HASSANZADEH A,et al..The effect of deposition rate on electrical,optical and structural properties of tin-doped indium oxide(ITO)films on glass at low substrate temperature[J].Phys.B:Condens.Matter,2006,373(2):274-279.

郑亚开(1991-),男,河北辛集人,硕士研究生,2014年于中国计量学院获得学士学位,主要从事有机半导体器件的研究。

E-mail:18580047521@163.com

唐莹(1981-),女,浙江杭州人,博士,副教授,2007年于兰州大学获得博士学位,主要从事有机半导体器件的研究。

E-mail:tangy@cjlu.edu.cn

Substrate Temperature Dependent Performance of Photoresponsive Organic Field Effect Transistors Based on Titanyl-phthalocyanine

ZHENG Ya-kai1,WEI Yi1,SUN Lei2,CHEN Zhen1,PENG Ying-quan1,2,TANG Ying1*
(1.Institute of Optical and Electronic Science and Technology,China Jiliang University,Hangzhou 310018,China 2.School of Physics Science and Technology,Lanzhou University,Lanzhou 730000,China)
*Corresponding Author,E-mail:tangy@cjlu.edu.cn

Organic field-effect transistors(OFETs)based on titanyl-phthalocyanine(TiOPc)were fabricated,and the temperature of ITO substrate(Tsub)was optimized.The results show that the carrier mobility(滋),photosensitivity(P),and photoresponsivity(R)increase firstly,and then decrease with the increasing of Tsub.When Tsub=140℃,OFETs exhibit a maximum carrier mobility of 1.35×10-2cm2·V-1·s-1,a maximum photosensitivity of 250,and a maximum photoresponsivity of 1.51 mA/W under the illumination by a laser diode with a wavelength of 808 nm and power density of 190 mW·cm-2.

photoresponsive organic field-effect transistors;titanyl-phthalocyanine;temperature of substrate

TN386

A

10.3788/fgxb20163706.0725

1000-7032(2016)06-0725-06

2016-01-07;

2016-03-21

教育部博士点基金(20110211110005);浙江省大学生科研创新团队(2015R409042)资助项目

猜你喜欢
酞菁场效应管迁移率
缘栅耗尽型场效应管沟道类型和工作区类型的判别研究
N沟道结型场效应管应用电路设计
2-硝基酞菁铝的合成及其催化活性研究
SiC/SiO2界面形貌对SiC MOS器件沟道迁移率的影响
滤棒吸阻和滤嘴长度对卷烟烟气中6种元素迁移率的影响
纤维素纤维负载钴酞菁对活性染料X-3B的降解
高迁移率族蛋白B1对16HBE细胞血管内皮生长因子表达和分泌的影响
四羧基酞菁锌键合MCM=41的合成及其对Li/SOCl2电池催化活性的影响
基于六普数据的年龄—迁移率模型研究
场效应管实验电路设计与测试