邹贤军
摘 要:LED是一种新型绿色节能光源,具有广阔的市场和潜在的照明应用前景。随着LED各类产品的普及和应用,市场对LED产品的各项技术指标都提出了更高的要求,特别是对LED产品亮度的要求。从LED精抛时间长短与亮度的关系入手,阐述如何提高LED芯片的亮度。
关键词:LED芯片;抛光时间;半导体晶片;P-N结
中图分类号:TM312+.8 文献标识码:A DOI:10.15913/j.cnki.kjycx.2016.05.104
在当前全球能源短缺的忧虑再度升高的背景下,以低能耗、低污染和低排放为基础的“低碳经济”成为全球热点。低碳经济的实质之一是通过发展新技术提高能源利用效率。欧美发达国家大力推进以高能效、低排放为核心的“低碳革命”,着力发展“低碳技术”,并对产业、能源、技术、贸易等政策进行重大调整。LED是一种新型固态照明光源,与传统光源相比,具有低电压、低能耗、长寿命、高可靠性以及耐震动和抗冲击等特点。这使得LED在照明市场的前景备受瞩目。
目前,LED已经被应用于台灯、手电筒、广告屏幕、电视屏、指示灯和汽车车灯等局部照明领域。一些城市的光伏照明样板工程也已采用LED灯,但实际照明效果并不太理想,主要原因在于LED灯的亮度不够、发光效率不高。为继续提升LED产品的普及度,则必须在“如何提高LED芯片亮度”上下功夫。
1 LED技术概述
1.1 LED概念
LED,即发光二极管,是一种固态的半导体器件,它可以直接将电转化为光。LED的“心脏”是一个半导体晶片,附着在LED灯株支架上,它的一端是负极,另一端连接电源的正极,使整个晶片被环氧树脂封装起来。半导体晶片由两部分组成,一部分是“P”形半导体,在它里面空穴占主导地位;另一部分是“N”形半导体,其内部主要是电子。当这两种半导体连接起来时,它们之间就形成一个“P-N”结。当电流通过导线作用于半导体晶片时,电子就会被推向P区。在P区内,电子跟空穴复合,以光子的形式发出能量。光的颜色由光的波长决定,而光的波长是由形成P-N结的材料决定的。
1.2 LED的发光原理
发光二极管是由Ⅲ-Ⅳ族化合物,比如GaAs、GaP、GaAsP等半导体制成的,其核心是P-N结。因此,它具有一般P-N结的I-N特性,即正向导通,反向截止、击穿特性。此外,在一定条件下,还具有发光特性。在正向电压下,电子由N区注入P区,空穴由P区注入N区。进入对方区域的少数载流子一部分与多数载流子复合而发光。假设发光是在P区发生的,那么注入的电子与价带空穴直接复合而发光,或者先被发光中心捕获后,再与空穴复合发光。除了这种复合发光方式外,还有些电子被非发光中心捕获,而后再与空穴复合,每次释放的能量不大,不能形成可见光。发光的复合量与非发光复合量的比例越大,光量子效率越高。由于复合是在少子扩散区内发光的,因此光仅在靠近P-N结面数微米以内产生。理论和实践证明,光的峰值波长λ与发光区域半导体材料的禁带宽度Eg有关,即
λ≈1 240/Eg(nm). (1)
式(1)中:Eg的单位为电子伏特(eV)。
如果能产生可见光,半导体材料的Eg应在1.63~3.26 eV之间。比红光波长长的光为红外光。
2 LED芯片亮度的提高方法
提高LED芯片亮度的方法主要有以下几种:①通过控制半导体材料的生产工艺,可获得高质量的P-N结,达到获得较高的发光效率的目的,以此提高芯片亮度。②提高荧光粉的发光效率。通过研发新工艺和新材料,可获得稳定性好、发光效率高的荧光粉,达到提高芯片亮度的目的。③在芯片背面增加一层光学薄膜层,可增强芯片背面的光源反射,提高芯片正面出光效率,从而提高芯片亮度。④降低芯片背面的粗糙度,也可增强芯片背面的光源反射,提高芯片正面出光效率,从而提高芯片亮度。
化学抛光是降低芯片背面粗糙度方法之一。所谓“化学抛光”,是指利用统一粒径的SIO2抛光液在一定的工艺条件下对芯片背面进行精细打磨,以降低芯片背面的粗糙度。图1所示为化学抛光工艺。
为验证芯片精抛时间长短与亮度的关系,笔者特进行了如下实验。
实验步骤如下:①选取同一外延机台同炉、同圈、同尺寸芯片共40片。要求该批芯片点测亮度接近,相差不超过5 mW,且品级全为A品。②将这40片芯片按序号10片一盘打散分到4个盘进行研磨抛光作业。每盘的精抛时间依次增加10 min。③研磨抛光作业时,要控制研磨和抛光厚度,要求每盘至少抛光25 μm。所有片子抛光后,盘内厚度平均值与其他盘平均厚度差值应小于3 μm,且同一盘内片子的厚度偏差应小于4 μm。精抛前,要记录各盘的研磨厚度。另外,精抛作业必须在相同精抛机、相同手臂下进行,并在清洗后测量每片的翘曲度。④背镀作业要求同一盘片子在同一RUN、同一圈背镀,切割作业要求在同一台切割机下进行。⑤切裂后,要求用同一点测机点测。⑥整理数据,统计点分点测结果,并撰写实验报告。
实验数据记录结果如表1所示。
根据图2可知,随着精抛时间的延长,薄片的翘曲度逐渐增大。
在实验过程中,由于实验片量较少,出现了误差,精抛30 min
的K值小于20 min。但从精抛时间与K值变化的对应关系图可知,随着精抛时间的延长,点分的亮度K值总体呈上升趋势。图3所示为精抛时间与K值变化的对应关系。
综上可知,随着精抛时间的延长,芯片背面的粗糙度逐渐降低。
3 结论
通过实验得出,延长精抛时间、降低芯片背面的粗糙度均可在一定程度上提高芯片的亮度。
参考文献
[1]陈振官.光电子电路及制作实例[M].北京:国防工业出版社,2006.
[2]肖宏志.半导体照明的基础——白光LED[J].中国照明电器,2009(3).
〔编辑:刘晓芳〕