国产IC光刻系统精密紫外反光镜研制成功
2015-01-10 15:19:30机经
军民两用技术与产品 2015年15期
国产IC光刻系统精密紫外反光镜研制成功
沈阳仪表科学研究院经过2年多的技术攻关，成功研制出了拥有自主知识产权的集成电路（IC）光刻系统精密紫外反光镜产品，其关键技术指标达到国际先进水平。
该IC光刻系统精密紫外反光镜产品可耐450℃高温，利用自主研发的新工艺实现了非球面成形。其反射波长范围为300nm～440nm，反射率大于95%，达到了反射紫外光并滤除其它可见光的目的。据悉，该产品的成功开发，填补了该项技术的国内空白，标志着沈阳仪表院在精密非球面加工和检测技术、非球面耐高温薄膜镀制等方面取得了技术突破，将有力推动我国光学薄膜行业的技术进步。目前，该院已形成口径55mm～362mm系列精密紫外反光镜产品，还将推出645mm大口径产品。 (机 经)
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