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(中原工学院,郑州 450007)
氮化铝(AlN)是一种重要的陶瓷材料[1-3],具有高的热导率、优良的电绝缘性能和耐腐蚀、耐磨损性能,是优良的电路基板材料和电子封装材料,可以作为高温和腐蚀等条件下的结构和坩埚材料.
通常AlN材料可采用铝粉直接氮化法[4-5]、碳热还原法[6]、自蔓延高温合成法[7-9]来合成,其中,自蔓延高温合成或燃烧合成技术是一种新型技术,相比前两种制备AlN的技术,该技术具有合成温度高、反应时间极短和能耗极低等突出优点,从而引起人们的广泛关注.采用自蔓延高温合成技术制备AlN材料已有一些报道[7-9],主要是利用铝粉氮化生成AlN反应具有强放热反应的特点,将铝粉于氮气中点燃,利用Al与N2之间的高化学反应热,使反应自行维持下去,从而合成AlN.但是这些研究均采用氮气作为氮源,这容易导致产物内部反应不完全,产物中易存在未反应完全的原料,同时由于反应产物易结块,反应不完全,难以制备高质量的粉末.因此有必要改进氮源,以克服以上缺点.
本研究采用Al粉、B粉和固态氮源CNx固体前驱体为原料,采用自蔓延高温合成技术合成AlN材料,研究其反应合成机理.
原料为市购Al粉(纯度>99.36 %,平均粒度为53 μm)、B粉(纯度>96%,平均粒度为30 μm).CNx前驱体是以三聚氢胺(C3N6H6)为原料经过低温热解工艺获得,详细的制备工艺见文献[10].混合粉末按Al∶B∶CNx=2∶1∶1和1∶1∶1的物质的量比进行称量,连同直径为10 mm的氧化锆球装入不锈钢球磨罐中,球料比为10∶1,充满氩气保护,在行星式球磨机上进行球磨,转速150 rpm,混料1 h,使其充分混合.把混合粉体倒入直径为10 mm的钢模具中,在压片机上加压100 MPa, 获得高度为5 mm的坯体.采用等离子体焊机产生高温等离子体点燃坯体.用D/MAX2500PC转靶X射线多晶衍射仪对合成的粉末进行物相分析(采用Cukα 辐射).用VEGAJ-TESCAN型扫描电子显微镜结合能谱仪研究和分析材料的显微结构.
采用Al粉和CNx为原料进行自蔓延烧结,得到的是AlN、Al5C3N和Al6C3N2,无法获得单相的AlN.因此本文添加适量的B,抑制三元铝碳氮生成,促进单相AlN材料的合成.
图1为Al∶B∶CNx=2∶1∶1时制备试样的XRD图.试样由Al和AlN两相组成,Al峰较强,而AlN峰较微弱,产物中观察不到含硼物相,表明原料反应主要生成了AlN,而且产物中Al为主相.从产物中难以探测出B元素,这可能是因为B元素固溶进Al和AlN两相中.
图1 当Al∶B∶CNx=2∶1∶1时制备试样的XRD图
图2为Al∶B∶CNx=2∶1∶1时制备试样的断口扫描图片.试样主要由团聚物相和少量晶须相组成.团聚物相经EDS确认为Al,而晶须为AlN.由于Al熔点较低,易于熔化,因此通过高温反应再冷却后产物中呈现团聚状形貌.AlN呈现晶须形貌,这可能是由于发生了固-液-气反应,Al与N2反应生成AlN晶须[10].
图2 当Al∶B∶CNx=2∶1∶1时制备试样的断口形貌
从图1、图2可知,Al含量较高,不利于合成单相AlN材料,故应降低原料中Al的比例,以促进AlN的合成.图3为Al∶B∶CNx=1∶1∶1时制备试样的XRD图.试样主要为AlN相,产物中观察不到含B物相,B很可能固溶进Al和AlN两相中.进一步对该衍射谱图中33°~40°范围内的峰形与标准AlN进行比对,发现相对于AlN标准谱图,本试样中的AlN峰向左偏移了约0.3°,谱图中也观察不到B的存在.这些结果都充分表明B元素固溶进了AlN中.
图3 Al∶B∶CNx=1∶1∶1时制备试样的XRD图和AlN标准谱图
图4为当Al∶B∶CNx=1∶1∶1时制备试样的断口扫描图片.从图4(a)可以看到,试样有大量孔洞,这是因为自蔓延高温反应剧烈,持续时间又极短,从而残留大量的气孔.此外,样品中有许多须状物质.进一步放大图4(a)中的“A”和“B”两区域,可观察到,试样是由大量AlN晶须(图4(b))和AlN片状晶粒(图4(c))组成.片状晶粒长约10~20 μm,晶须直径约2 μm、长约10 μm.对AlN相进行能谱分析,发现其中含有B元素,这一结果与XRD结果相吻合,表明原料中添加适量B促进了单相AlN材料的合成,生成的AlN相固溶了B元素.
(a)宏观形貌
(b)A区放大形貌(AlN晶须)
(c)B区放大形貌(AlN片状晶粒)
由于自蔓延反应过程剧烈而迅速,以目前技术条件无法实现实时观察.反应产物中出现不同的AlN晶体形貌,如片状晶粒与晶须,表明自蔓延高温烧结合成AlN过程比较复杂,AlN片状晶粒在自蔓延高温烧结合成研究中较为常见,而晶须的合成较为少见,因此有必要探讨反应合成AlN晶须的机制.根据实验现象来看,自蔓延高温烧结合成AlN出现晶须状,可能是气-固和气-液-固生长机制所致.
(1)气-固生长机制.该生长机制的必要条件是晶体顶端的螺位错,同时该生长机制与气相中原子的过饱和度有关,当过饱和度比较低时容易形成晶须,杂质对气-固生长机制形成的晶须影响不大.本实验获得的AlN 材料固溶了B元素,因此气-固生长机制不适于本实验合成材料.
(2)气-液-固生长机制.在该长生机制形成晶须的过程中,杂质起了很重要的作用.在该生长机制中,杂质与反应原料形成低共熔的液-固界面,气相中的反应物通过这个界面传递到液-固界面沉积,并形成晶须.由于液相具有高的容纳系数,提供了在气相和固相之间结晶的中间阶段, 因此气-液-固生长机制所需活化能比气-固生长机制要低好多倍,气-液-固生长机制生成晶须只需几十秒,而气-固生长机制需很长时间,即气-液-固生长机制更易形成晶须.此外,液相冷却后,形成小圆珠凝结在晶须头部(从图4(c)中可观察到许多晶须的尖端呈液滴状),这也是气-液-固生长机制的重要特征.
综合以上分析可知,本文采用CNx前驱物粉体,结合适量的B助剂,通过气-液-固生长机制制成了AlN晶须材料.
本文采用Al粉、B粉和CNx前驱物粉体为原料,以自蔓延高温烧结技术制备了AlN材料.原料中添加适量的B,可促进AlN材料的合成,同时B元素固溶进AlN材料中.当原料配比Al∶B∶CNx=1∶1∶1时,生成B固溶的AlN材料.AlN相有两种形貌:一种是片状AlN晶粒,另一种为AlN晶须.
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