ITO在电容式触摸屏中的应用

三和国际触控屏事业部

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ITO导电膜是指采用磁控溅射的方法（ITO薄膜的制备方法有蒸发、溅射、反应离子镀、化学气相沉积、热解喷涂等，但使用最多的是反应磁控溅射法），在透明有机薄膜材料上溅射透明氧化铟锡（ITO）导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。

日本积水（铃寅）ITO有着尖端品质，高透光性、电阻值稳定、蚀刻痕效果处理优异。

三层结构

普通三层特性

高透三层特性

两层结构

普通两层特性

单层结构

单层结构特性

性能对比

成本透光率抗干扰组合难度功能精度普通三层较高＞87%强较难点击、手写辨识高高透三层高＞89%强较难点击、手写辨识高普通两层较低＞90% 较弱较容易点击、手写辨识高普通单层低＞92%较弱容易点击、手写辨识低