鲍爱达,徐香菊,龚 珊
(中北大学 仪器科学与动态测试教育部重点实验室 电子测试技术重点实验室,山西 太原030051)
随着MEMS技术的发展,各种类型的MEMS传感器在航天、军事、商业、民用等领域发挥着越来越重要的作用[1]。国内各研究机构对各种用途的新型传感器的研究热度更是越来越浓。在某些复杂的物理过程中,既有小到几个gn的加速度作用,又有成千上万个gn的加速度,用单一量程的加速度计很难精确测量到实际的加速度值,若用不同量程的加速度计,因灵敏度和安装位置的不同,也会对测量结果造成很大误差。为了适应这种情况而研制了复合量程加速度计。它采用传感器阵列的形式在同一硅片上制作量程分别为0~50,0~100,0~500,0~10 000 gn的4个单元,这样对低gn值与高gn值加速度都敏感,达到精确测量的目的。
在芯片级封装中采用了阳极键合技术,但键合过程是在比较高的环境下进行的,产生的残余应力会对加速度计的零位输出产生偏移,甚至在高温下会对微结构产生破坏[2~4],以致对复合量程加速度计的使用状况和大量发展受到了限制,因此,对其残余热应力的研究是必要的。本文对复合量程加速度计的阳极键合过程进行了建模与仿真,分析了键合温度、玻璃基底的厚度和框架的键合宽度对梁上残余热应力的影响。
本文中研究的复合量程加速度计是利用硅的压阻效应制作的,其结构图如图1所示。将4个量程不同的加速度计单元制作在同一硅片上,每一个单元都采用了双端四梁结构。在4个悬臂梁上分别制作了2只力敏电阻器,当有外力作用于加速度计时,质量块上下振动,引起梁上的应力变化,从而电阻器的阻值变化,通过惠斯通电桥可以将这种变化以电压的形式表现出来。
图1 复合量程加速度计结构图Fig 1 Structure diagram of multi-ranged accelerometer
复合量程加速度计的4个单元的结构相似,分析方法也相同,这里仅以0~50 gn为例分析其零位偏移的影响因素。图2是键合后的芯片剖面图,主要由玻璃基底、质量块、弹性梁和外围框架组成。采用阳极键合的方法将整个结构键合在一起。键合过程是在比较高的环境下进行的,由于材料的热膨胀系数等因素会产生残余应力,以致影响传感器的零位输出[5]。
用Ansys软件对复合量程加速度计的阳极键合过程进行建模与仿真:对如图2所示的模型施加一定的初始温度载荷,一定时间后,将其缓慢冷却到室温下,仿真求解得到梁端部应力的变化[6]。之后再分别改变键合温度、玻璃基底的厚度和框架键合的宽度,以确定梁上应力与这些因素的关系。
图2 键合后的芯片剖面图Fig 2 Sectional view of chip after bonding
先保持其他条件不变,使键合温度分别从200~500℃变化,通过Ansys软件仿真可以得到梁上残余应力的变化值,如表1所示。
表1 不同温度下的应力值Tab 1 Stress at different temperature
可以看出:梁端部的应力随键合温度的增加而增加。为了减小这种残余热应力的影响,应改善键合工艺,在尽可能低的温度下完成硅与玻璃的键合过程。
改变玻璃基底的厚度,使其他条件保持不变,分别取玻璃基底的厚度为200~800μm,对加速度结构进行仿真,得到如表2所示的数据。
表2 基底厚度不同时的应力值Tab 2 Stress with different thickness of glass substrate
可以看到,残余应力随玻璃基底厚度的增加而增加。当玻璃基底厚度超过450μm后,应力增大的趋势逐渐减缓。
因此,应选择比较薄的玻璃基底,可以降低加速度芯片性能和稳定性受应力的影响。
经过以上的分析,选取玻璃基底厚度为450μm,键合温度为380℃,分别改变键合宽度,使其从140~640μm变化,仿真得到应力随键合宽度的变化,数值如表3所示。
表3 不同键合宽度时的应力值Tab 3 Stress with different bonding width
可以看出:随着键合宽度的增加,梁上残余应力先增大后减小,在键合宽度为350μm左右,应力值达到最大;当键合宽度大于350μm后,应力值迅速减小,因此,键合宽度应大于350μm。
通过以上分析可以看出:阳极键合过程中产生的残余应力不能忽略,它会引起加速度计的零位失调,还会造成结构的损伤[7]。梁上残余应力的大小与键合温度、玻璃基底的厚度和框架键合宽度有关,且应力随键合温度的升高成线性增加,随玻璃基底厚度的增加而增加,随键合宽度的增加先增大后减小。在键合过程中,在改善键合工艺的基础上,使键合温度尽可能的低,选取合适的键合宽度和薄的玻璃基底以减小梁上的残余应力。
[1]关荣锋,汪学方,甘志银,等.MEMS封装技术及标准工艺研究[J].封装测试技术,2005,30(1):50-54.
[2]陈斌,王兴妍,黄辉,等.Ⅲ-Ⅴ族半导体晶片键合热应力分析[J].半导体光电,2005,26(5):421-427.
[3]许东华,张兆华,林惠旺,等.硅玻璃阳极键合绝压压阻式压力传感器中的残余应力[J].功能材料与器件学报,2008,14(2):452-456.
[4]游侠飞.MEMS加速度计温度场及残余应力模型研究[D].杭州:浙江大学,2012.
[5]He Guorong,Yang Guohua,Zheng Wanhua,et al.Analysis of Si/GaAs bonding stresses with the finite element method[J].Chinese Journal of Semiconductors,2006,27(11):1906-1909.
[6]Huang Meijia,Chou Pokuai,Lin Mingchuan.Thermal and thermal stress analysis of a thin-film thermo-electric cooler under the influence of the thomson Effect[J].Sensors and Actuators A,2006,126:122-128.
[7]赵翔,梁明富.MEMS封装中阳极键合技术的影响因素研究和设计因素分析[J].新技术新工艺,2009(12):104-107.