第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议征稿通知
2011-02-14 20:27:49
中国有色金属学报 2011年3期
第十一届等离子基离子注入与沉积国际会议(The 11th International Workshop on Plasma-based Ion Implantation & Deposition, PBII&D 2011)将于2011年9月8～12日在黑龙江省哈尔滨市举行，同时举行产品展览。欢迎大家积极投稿，同时欢迎各参展单位联系展览。会议组织单位为哈尔滨工业大学和先进焊接与连接国家重点实验室等。
会议的主要内容包括：等离子基离子注入与沉积（PBII&D）；高功率脉冲磁控溅射（HPPMS）；等离子基离子注入与沉积系统；等离子基离子注入与沉积工业应用；等离子基离子注入与沉积相关等离子体诊断；半导体处理；建模和理论研究；等离子基离子注入与沉积制备纳米结构；生物材料；等离子基离子注入与沉积材料表面加工与分析；DLC和聚合物处理；等离子体和离子源；与PBII相关的IBAD、离子注入和等离子体氮化等。
会议所收论文及摘要均需以英文撰写，会议所收录的论文将以专刊的形式发表在SCI收录的国际期刊（SCT和NIMB）中，具体要求见会议网站或联系秘书处。
电话: 0451-86418784； 传真: 0451-86418784
E-mail: PBIID2011@163.com；wuzhongzhen2003@163.com
Web: www.pbiid2011.org
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