一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺

本发明公开了一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺， 一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖的制备工艺，包括以下步骤：制坯；打印颜色墨水；打印下陷墨水；打印精雕墨水；淋涂耐磨干粒抛釉：将抛釉、悬浮剂和耐磨干粒混合均匀得到耐磨干粒抛釉， 在精雕墨水层的表面淋涂耐磨干粒抛釉，形成凹陷纹理层；且所述耐磨干粒的始融温度高于所述抛釉的始融温度；烧成。 本技术方案提出的一种具有粗细凹陷纹理的全抛光釉面砖及其制备工艺，在釉面砖可满足全抛光要求的前提下，有利于使产品的装饰效果更加丰富和立体， 还能使产品具有良好的发色效果和耐磨性能， 解决现有全抛光釉面砖的凹陷效果和发色、耐磨性能难以有机结合的技术问题。

申请号：2021115088388