ASML全新光刻机准备中：冲击2nm工艺

對于芯片厂商而言，光刻机显得至关重要，而ASML也在积极布局新的技术。截至 2022 年第一季度，ASML已出货136个EUV系统，约7000万个晶圆已曝光。

按照官方的说法，新型号的EUV光刻机系统 NXE：3600D将能达到93%的可用性，这将让其进一步接近DUV光刻机（95%的可用性）。数据显示，NXE：3600D系统每小时可生产160个晶圆 （wph），速度为30mJ/cm，这比 NXE：3400C高18%。正在开发的 NXE：3800E系统最初将以30mJ/cm的速度提供超过195wph的产能，并在吞吐量升级后达到220wph。

根据ASML 在第一季度财务会议上披露的数据，公司的目标是在2022年出货55台EUV系统，并到2025年实现（最多）90台工具的计划。ASML同时还承认，90台可能超过2025年的实际需求，不过他们将其描述为为满足2030年1万亿美元半导体行业需求所做出的巨大努力。

按照之前的说法，ASML正在研发新款光刻机，价值高达4亿美元（约合26亿元人民币），双层巴士大、重量超过200吨。原型机预计2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年作为主力出货。这款机器应该指的就是High-NA EXE：5200（0.55NA），Intel是全球第一个下单的公司。所谓High-NA也就是高数值孔径，2nm之后的节点都得依赖它实现。