江达飞,江孝伟,2,方晓敏*
(1.衢州职业技术学院 信息工程学院, 衢州 324000;2.北京工业大学 光电子技术教育部重点实验室,北京 100124)
由于石墨烯对大部分波段的光都具有超高透射率,且具有极高的电子迁移率和较好的导热性[1-3],因此其一直是替代铟锡氧化物(indium tin oxide,ITO)作为发光二极管(light-emitting diode,LED)透明导电层的热门选择[4]。2011年,SEO等人将单层石墨烯直接转移到蓝光LED P-GaN层上作为透明导电层,经过实验分析可知,虽然将石墨烯直接作为透明导电层可显著提高LED发光效率,但是由于石墨烯与P-GaN层功函数不匹配,无法形成良好的欧姆接触,从而导致石墨烯LED会有较高的开启电压[5]。
为了克服石墨烯与P-GaN层因功函数差无法形成良好欧姆接触的问题,许多科研工作者提出在石墨烯与P-GaN层之间插入一层同时能够和石墨烯、P-GaN形成良好欧姆接触的材料,其中ITO薄层是较多人的选择[6-8]。研究发现,通过插入ITO层不仅显著降低了LED的开启电压,还保持了石墨烯LED高光功率输出。但是上述研究只适用于蓝光LED,因为如果将ITO薄层作为紫外LED的缓冲层,则不得不面对ITO对紫外光的高吸收率[9],高吸收效率势必会影响紫外LED光提取效率(light extraction efficiency,LEE),从而降低LED光功率。而现今紫外LED在照明、消毒、通信当中都具有重要的应用价值,因此提高石墨烯紫外LED的LEE,对于将来紫外LED的应用具有重要意义[10-13]。
为了改变因为ITO的高吸收率导致石墨烯紫外LED低发光效率的问题,作者提出利用不同ITO微纳结构(矩形和等腰三角形)作为石墨烯和P-GaN层之间的插入层,分析不同的ITO微纳结构对紫外石墨LED光提取效率的影响,从而找出最优的ITO微纳结构[14]。
本文中首先分析了ITO薄层厚度对紫外LED 的LEE的影响,其次分析ITO不同微纳结构参量对紫外LED 的LEE的影响。经过对比发现,利用ITO矩形微纳结构作为石墨烯紫外LED插入层相比于ITO薄层作为插入层,其LEE提高了45.06%,但是三角微纳结构在亚波长范围内并不能提高石墨烯紫外LED 的LEE,反而低于ITO薄层石墨烯紫外LED的LEE。
本文中的ITO薄层石墨烯紫外LED基本结构主要源自参考文献[15],它由蓝宝石衬底、无掺杂u-GaN层(2μm)、N型掺杂N-GaN层(1.5μm)、5对Al0.08Ga0.92N/In0.04Ga0.96N构成的多量子阱(multiple quantum wells,MQWs),其中心波长λ=380nm、P型掺杂P-GaN层(0.1μm)、ITO薄层(厚度为hi)、石墨烯和金属电极构成,具体如图1所示。GaN材料对不同波长的折射率由参考文献[16]中获得,其在波长380nm时的折射率为2.74+0.18i,ITO对不同波长的折射率参量可由参考文献[17]中获得。
Fig.1 ITO thin layer graphene UV LED
为了研究ITO薄层对紫外石墨烯LED 的LEE的影响,利用时域有限差分法[17]计算了当石墨烯层数为1时,不同ITO厚度hi下紫外LED的 LEE的变化趋势,具体如图2所示。从图中可以看到,随着hi的增加,存在一个使紫外LED 的LEE达到最佳的hi。此外,从图中可知有无石墨烯层对紫外LED的LEE也会产生影响,具有石墨烯层的紫外LED的LEE会略小于无石墨烯层的紫外LED。这主要是因为当石墨烯铺在ITO薄层上,会使整体透射率下降,从而降低了紫外LED的光提取效率,具体如图3所示。图3是计算了包含P-GaN层、ITO薄层(40nm)、石墨烯(0层或者1层)的透射率,从图中可知,P-GaN层和ITO薄层组合的透射率要略高于P-GaN层、ITO薄层和石墨烯组合,故此会使有石墨烯层的紫外LED的LEE略低于无石墨烯层对紫外LED。虽然有石墨烯层的紫外LED的LEE会略降低,但是由于石墨烯有高电子迁移率特点,因此它相比仅有ITO作为透明导电层的紫外LED电流会分布更均匀,不会出现电流拥挤效应。因此,最终石墨烯紫外LED的光功率会比无石墨烯的紫外LED高[4-5]。
Fig.2 LEE of UV LED at different hi
Fig.3 The influence of graphene layer on the transmittance of UV LED
与蓝光LED相比紫外LED的光提取效率要小得多[18-19],石墨烯紫外LED的最大LEE才7.354%(hi=40nm),这主要有3个原因。首先,当波长在蓝光波段,GaN材料消光系数为0,因此GaN材料对蓝光就没有吸收;其次,对于蓝光,GaN材料折射率为2.5,而对于紫外光,GaN材料折射率实部为2.74, 因此GaN材料对于紫外光的临界角要比对蓝光小,这也不利于紫外光从器件中被提取出来;最后,相比于蓝光,ITO对紫外光具有更高的吸收效率[13]。
为了将石墨烯紫外光LED内部更多高阶模提取出来,以此提高石墨烯紫外光LED的LEE,本文中首先将ITO矩形微纳结构替换ITO薄层作为石墨烯与P-GaN层之间的插入层,具体如图4所示。在图4中,p为微纳结构周期,s为单个微纳结构宽度,h为微纳结构厚度。
Fig.4 ITO rectangular micro nano graphene UV LED
为了能够让ITO微纳结构更好地提高石墨烯紫外LED的LEE,首先对ITO微纳结构进行优化。经过优化可得:当h=160nm、占空比f=s/p=0.7,p=220nm时,紫外LED(无石墨烯层)的LEE可以达到最优,最大值为10.912%,相比于无石墨烯的ITO薄层紫外LED提高了45.87%,具体如图5所示。根据目前的光刻技术工艺,上述的微纳结构完全可以利用电子束光刻和干法刻蚀获得。之所以利用ITO微纳结构能显著提高紫外LED的LEE,主要是因为ITO微纳结构能够将束缚在LED器件内的高阶模提取出来,而对于ITO薄层紫外LED,其提取出的只有低阶模和一小部分高阶模[20-21]。
本文中的LED结构可近似看成3层平面波导,该平面波导由衬底、GaN材料构成的LED、ITO微纳结构组成,它们的折射率分别为n1,n2,n3,其中n2>n1和n3。GaN LED的衬底是蓝宝石,因此n1=1.7。ITO微纳结构是一个2维光栅,其折射率n3可由等效介质原理计算得到。因为知道光栅参量和ITO材料折射率,通过计算可知,n3=1.7846。GaN LED整体折射率n2可由GaN材料折射率近似。知道平板波导结构参量后,就可根据参考文献[21]中给出的模式计算公式计算GaN LED内的模式分布。图6是GaN LED内部某一个高阶模的模式分布。从图6中可以看到,利用ITO微纳结构作为过渡层的LED,其高阶模有更多的在出光面区域中,这说明相比于利用ITO薄膜作为过渡层,利用ITO微纳结构作为过渡层更能将高阶模提取到出光面。所以利用ITO微纳结构的光提取效率可以达到10.912%,而利用薄膜ITO作为过渡层仅有7.354%。
Fig.5 The effect of rectangular micro nano structure on LED LEE
Fig.6 High order mode distribution of GaN LED
因为ITO微纳结构制备在P-GaN层上,因此有必要分析P-GaN层厚度对石墨烯紫外LED的LEE的影响。通过模拟计算发现,P-GaN层对于LEE存在最优厚度,具体如图7所示。从图7中可知,当P-GaN层厚度为100nm时,石墨烯紫外LED的LEE最大,而当P-GaN层厚度增加或者减小,其LEE均会下降。因此在制备LED时,应该精确控制P-GaN层厚度,以保证LED高效率工作。
Fig.7 The influence of P-GaN layer thickness on LEE
图8是三角ITO微纳结构石墨烯紫外LED,它利用三角ITO微纳结构作为石墨烯紫外LED缓冲,pt,st,ht分别是ITO三角微纳结构的周期、条宽、厚度。通过对ITO三角微纳结构的优化,发现当pt=300nm,ft=0.8,ht=250nm时,石墨烯紫外LED光提取效率最高,最高可达6.64%,具体如图9所示。通过图9可以发现,ITO三角微纳结构并不能显著提高石墨烯紫外LED 的LEE,其LEE明显低于利用ITO薄层作为缓冲层的石墨烯紫外LED。之所以ITO三角微纳结构不能显著提高石墨烯紫外LED的LEE,是因为光经过三角微纳结构后全部被内反射进LED器件内部,无法从出光面逸出,这就导致ITO三角微纳石墨烯紫外LED的LEE反而低于ITO薄层石墨烯紫外LED的LEE。
Fig.8 ITO triangle micro nano graphene UV LED
Fig.9 The effect of triangle micro nano structure on LED LEE
在获得最佳ITO微纳结构参量后,本文中分析了石墨烯层数对紫外LED 的LEE影响(以矩形ITO微纳结构为例)。经过数值计算后发现,随着石墨烯层数的增加,石墨烯紫外LED的LEE会逐渐下降,但是幅度不大,具有3层石墨烯的紫外LED 的LEE相比于仅有ITO微纳结构的紫外LED仅下降了5.22%,具体如图10所示。从图中可知,当只有一层石墨烯的紫外LED 的LEE可以达到10.668%,相比于只有一层石墨烯使用ITO薄层作为插入层的紫外LED提高了45.06%。之所以具有多层石墨烯紫外LED的LEE相比于无石墨烯层的紫外LED要小,但是相差又不大,这是因为石墨烯层数的增加会使P-GaN与ITO微纳结构组合结构的透射率逐渐下降,但是随着石墨烯层数的增加,组合结构的透射率下降幅度较小,具体如图11所示。
Fig.10 The effect of graphene layer number on LED LEE
Fig.11 The effect of graphene layers on the transmittance of light output surface
为了能够提高ITO材料作为插入层的石墨烯紫外LED的LEE,本文中提出利用不同ITO微纳结构作为石墨烯和P-GaN层之间的插入层。经过对微纳结构的优化,当h=160nm,f=0.7,p=220nm时,ITO矩形微纳结构插入石墨烯(单层)紫外LED的LEE可达10.668%,相比于最优的薄层ITO石墨烯(单层)紫外LED提高了45.06%。对于ITO矩形微纳结构,当pt=300nm,ft=0.8,ht=250nm时,石墨烯(单层)紫外LED的LEE仅有6.64%。另外,经过分析发现,随着石墨烯层数的增加,ITO微纳结构石墨烯紫外LED的LEE会逐渐下降,但是幅度不大,当石墨烯层数为3层时,其LEE相比于无石墨烯层的紫外LED仅下降了5.22%。