抛光砖生产缺陷分析与工艺改进

张火鑫

广东天弼陶瓷有限公司 广东清远 511500

抛光砖在生产中主要环节包括刨平、磨光和切边倒角等，需要针对各生产环节出现的质量问题，找准缺陷原因，有针对性改进生产工艺，才能提高产品质量。同时，也要引起先进生产技术，最大限度降低废品率，保证在抛光砖生产中取得最大经济效益。

一、抛光砖生产缺陷分析

抛光砖生产中主要缺陷如下：第一，粉料制备时未控制好水分，细度不均匀，或者是浆池储存量大小不适宜，将引起压制夹层、尺寸变化等问题；第二，成形控制不当，将引起夹层、渗花不良和缩腰等问题；第三，干燥控制不当，将引起开裂问题；第四，烧成中将面临色差、风裂和产品回变等问题。

二、抛光砖生产工艺改进措施

（一）刨平

通过刨平，让玻化砖表面维持相同平整度，生产中借助高速旋转的金刚砂轮，让玻化砖表面刨平，刨平痕迹与玻化砖运行方向相同，吃刀量将决定痕迹深度，通常要控制吃刀量在0.5mm～1mm范围内。吃刀量在生产中避免过深和过浅，刨平痕迹必须保持均匀，防止出现局面过深的现象。周围未刨到尺寸也不应太窄，一般在5mm～20mm之间，为后续处理打牢基础。

（二）粗磨

粗磨的目的是将刨平后留下的痕迹消除，并产生自己的磨痕。用5组相互连接的磨盘构成，且各磨盘均有5个型号一样的磨具，生产中磨盘保持高速旋转状态，受到星形轮的作用而不停摆动，摆角保持60°。这样磨具对玻化砖进行线性磨削，既节省了磨具，也保证了磨削效率。接下来加以适量的气压，能够让产品表面得到粗加工。5组磨盘耐磨材料非常粗糙，称之为磨粗块，生产中应要合理排列模块，控制好压力。

（三）精磨

精磨是抛光砖生产的一个重要环节，关系着最终产品质量。精磨可以将粗磨的痕迹消除，将产品表面磨光，在化学上光后，让砖表面保持一定光泽，形成镜面效果。用20组磨盘进行连接，工作原理与粗磨差不多，但要控制好磨机磨盘旋转速度、压力、传递速度、冷却水供应量与纯净度、待抛砖硬度与平整度等[1]。尤其是要注意磨具中磨料的特性，一般以碳化硅粉为主，240目前的磨料基本上是不规则多面体，润性较好，有利于将粗磨时产生的痕迹消除，让砖表面维持相同的平整度。400目后磨料是球体，加工余量不大，将产生磨光效果。此外，还要使用上光磨具，以化学上光的方式让产品表面维持一定光亮度，生产中要合理排列磨具，控制好施加的压力。

（四）切边倒角

切边倒角属于抛光砖生产的最后一环，对产品尺寸、生产合格率影响很大，通常使用切边机等设备，且设置3组切边砂轮与1组倒角砂轮。要想让抛光砖尺寸合格，在生产时要关注以下几点：第一，主机传送带应该保持同步性，在传递产品时，产品和传送带不能产生相对位移，这样得到的产品尺寸才更加准确；第二，在第2组切削过程中，产品之间需要有适当的间隔，相互之间不能构成影响；第三，切边金刚砂轮的切削能力要强，且必须让两边切削量维持一致。

三、结语

总之，在抛光砖生产中最常见的是色差缺陷，需要保证各生产环节的稳定性，在配方设计中适当提升烧成温度，扩大烧成范围，可以有效改善色彩问题。此外，在调整生产中出现的问题时，应该综合考虑各环节的影响因素，以生产稳定为基础，力求简化操作，提高抛光砖生产工艺水平。