结合案例浅谈发明专利审查过程中针对权利要求保护范围的检索

徐玉

摘 要：发明专利审查过程中，审查的重点是权利要求。而审查过程中最重要的部分—检索往往也需要建立在准确解读权利要求保护范围的基础上。当权利要求的保护范围过大时，需要有针对性的进行检索，若能获得相关的现有技术，就可以新颖性或者创造性的评述来缩小权利要求的保护范围。

关键词：权利要求；范围；检索

1引言

在专利审查过程中，有针对性的检索前应对申请文件进行充分的阅读和理解，对申请文件的理解重点之一是对权利要求保护范围的理解[1]，尤其是当权利要求未能准确限定出发明构思时，例如权利要求概括过于上位，保护范围过大，或者权利要求保护范围与发明构思不相符合时，需要准确理解权利要求的保护范围，在明确保护范围的基础上，针对权利要求进行检索。后文中结合案例对此进行阐述。

2案例分析

案例涉及一种搬运用车辆，本申请为一有日本优先权的申请，经过核实，优先权均已经授权。独立权利1请求保护一种搬运用车辆，结构类似一种平板推车，其提供一种能够呈扇形旋转展开的推车面板，即包括两块可动展开板95能够在向外拉出的同时，向两侧扩张，从而同时在两个方向上扩展推车的承载面积。

而独立权利要求1的限定如下：

一种搬运用车辆，其具有台阶机构（90），该台阶机构（90）从具有用于载置装载物的装载面的车体框架（20）的端部被拉出，扩张放置装载物的装载面的面积，上述台阶机构（90）具有：多个可动展开板（95），其叠放在上述车体框架（20）上而配置；以及引导机构（100），其对该可动展开板（95）进行引导，以通过使该可动展开板（95）在与上述车体框架（20）平行的第1方向上滑动，并且使该可动展开板（95）在与上述第1方向相交的第2方向上滑动，从而使上述可动展开板（95）收容或展开，上述引导机构（100）构成为，在收容上述多个可动展开板（95）时，使该可动展开板（95）彼此的距离变小，在展开上述多个可动展开板（95）时，使该可动展开板（95）彼此的距离变大。其中划线部分即为与发明构思相关的限定。

在理解发明构思和权利要求保护范围的基础上，审查员经过思考，发现上述权利要求的保护范围中除包含申请人想要保护的技术方案，还包含如多块展板分开设置，可以逐块、向不同方向展开的技术方案。

在针对发明构思进行检索后，未能获得影响本申请发明构思的现有技术文件，认为本申请有授权前景，因此，着重针对权利要求的保护范围进行检索。

结合上文中的理解，对包含多块展板分开设置，可以逐块、向不同方向展开的技术方案进行了针对性的检索。因此给出检索中获得的两篇对比文件JP2007008393A和CN2205340Y，其中对比文件2（CN2205340Y）一种用于搬运的便携式旅行车公开的附图，其具有六块活动底盘2（即多块可动展开板），可以从车体固定底盘1端部拉出，向固定底盘四周（即包括第1方向和与第1方向相交的第2方向）滑动展开，且在收容活动底盘2时，其彼此之间的距离变小，展开活动底盘2时，其彼此之間的距离变大。即公开了“多块展板分开设置，可以逐块、向不同方向展开”的技术方案。因此，在对比文件1结合对比文件2和公知常识的基础上，评述了独立权利要求的创造性。

一通后，申请人修改后的独立权利要求如下：

一种搬运用车辆，其具有台阶机构（90），该台阶机构（90）从具有用于载置装载物的装载面的车体框架（20）的端部被拉出，扩张放置装载物的装载面的面积，上述台阶机构（90）具有：多个可动展开板（95），其叠放在上述车体框架（20）上而配置；以及引导机构（100），其对该可动展开板（95）进行引导，以通过使该可动展开板（95）在与上述车体框架（20）平行的第1方向上滑动，并且使该可动展开板（95）在与上述第1方向相交的第2方向上滑动，从而使上述可动展开板（95）收容或展开，上述引导机构（100）在收容沿上述第1方向可滑动的上述多个可动展开板（95）时，使上述多个可动展开板（95）的上述第2方向的间隔缩小。

经过上述修改，权利要求的保护范围中排除了相对于现有技术不具有创造性的技术方案“多块展板分开设置，可以逐块、向不同方向展开”的技术方案。针对修改的权利要求授权，此时权利要求的保护范围更加适当，也能保证申请人的专利权更加稳定。

3小结

上述案例属于比较有代表性的国外申请，其特点在于权利要求的保护范围往往较大；虽然此案中权利要求的上位概括并不十分明显，但经过对较为深入的理解和分析，能够发现发明构思与权利要求保护范围之间存在的区别。对于此类申请，尤其是在未能检索到发明构思时，不应轻易终止检索，而应该将权利要求保护范围作为检索重点。

值得一提的是，对于一些较为简单的发明申请，若权利要求对实际发明构思的技术方案进行了上位概括，但基于一定的检索或对现有技术的了解，认为无授权前景，检索时还是应该以发明构思为重点，有利于程序节约。

参考文献：

[1]中华人民共和国国家知识产权局.专利审查指南2010[M].北京：知识产权出版社.