王学鹏
摘 要:随着我国各行业研发技术水平的不断提升,以及企业与个人对知识产权保护意识的不断增强,一方面,我国发明申请受理的数量逐年增加,在实际专利审查的过程中,审查员需要参考的专利文献和相关论文等越来越多;另一方面,发明人的研发水平与代理人的代理水平也在不断提高,发明申请的水平有了显著的提升。本文提出将TRIZ理论应用于审查过程中,通过TRIZ理论中发明等级、矛盾、发明原理等概念工具来丰富审查技能,以期提升审查工作的质量与效率。
关键词:TRIZ理论;发明实质审查;应用
DOI:10.16640/j.cnki.37-1222/t.2017.10.179
1 TRIZ概述
TRIZ是俄文中发明问题解决理论的词头,该理论是前苏联科学家Altshuller及其领导的一批研究人员,自1946年开始,在分析研究世界各国250多万件专利的基础上提出的发明问题解决理论。经过多年的发展,TRIZ已成为技术问题或发明问题解决的强有力方法学和一种较完善的创新设计理论。TRIZ的来源及主要技术工具如下图1所示。
2 发明等级
TRIZ将世界上各个技术领域的发明创新划分出了五个等级,各等级描述如表1所示[1]。TRIZ理论认为,绝大多数专利属于第1-3级,而真正推动技术文明进步的发明是属于目前国外有少数学者提出将TRIZ理论中的发明等级理论应用于创造性的判断,如Steve Hickman直接将TRIZ发明等级理论与现有的KSR、USPTO、EPO和JPO的审查标准进行了对比,认为USPTO和JPO的审查标准大体承认第3-5级发明的创造性,而第1-2级的发明则被认为无创造性[2]。
国内有专利代理人提出利用发明等级理论来指导专利申请的策略。王秀奎[3]认为,TRIZ理论对发明创新的等级划分实际上反映了该发明创新的难易程度,该等级划分体现在专利的新颖性和创造性的高低区别,随着发明等级的上升,专利的新颖性和创造性由较低层次逐步上升为最高层次。具体地,在大概确发明等级之后,代理人可以根据其等级采取不同的撰写策略,如当等级为第4级或第5级时,可选择“功能性限定”的方式来限定较宽的保护范围,并尽量多地列举实施例来支持;若为第1级时,该文认为此类创新难以获得发明专利授权,可采用主动放弃申请或者防御型公开技术内容方式;而对于第2级,考虑对核心技术进行外围专利部署,第3级则重点部署核心专利,同时根据需要向其他产品/领域扩展。笔者认为,从审查员的角度来看,发明等级在实质审查过程中可以起到以下作用。(1)指导检索。针对等级较低的发明,预期能够检索到比较合适的对比文件来评述该发明的三性问题,但如果经过一段时间的检索仍未检索到合适的对比文件,则此时需要仔细考虑分类号的扩展及采用其他关键词,及时调整检索策略。(2)针对等级较高的发明,由于该发明的技术方案本身复杂,运用了多个领域或学科的知识,若是采用两篇或者两篇以上的文献来评述该技术方案的创造性,此时应当仔细考虑该多篇文献是否存在跨领域、跨学科的问题,并进一步考虑该结合启示的问题;如果没能检索到合适的对比文件,此时则需要重点考虑该权利要求,尤其是独立权利要求的技术方案是否符合较高等级发明的内涵,判断该授权范围是否恰当。
3 技术矛盾与发明原理
唯物辩证法中,矛盾是对立统一的。TRIZ理论认为,矛盾是指内在要素、作用或主张彼此不一致或相反的情境。TRIZ将工程问题中常见的矛盾分为两种:技术矛盾和物理矛盾。当想要改善系统中某一特性、参数时,常常会引起系统中另一特征参数或特性的恶化,此时技术矛盾出现。如下图所示,当研发人员面对特定的技术问题时,通过39个工程参数来表征该技术问题里需要改善的因素与被恶化的因素,进而将特定的问题转化为一般性问题,然后针对这一般性问题中的工程参数查找矛盾矩阵,找到推荐的发明原理来指导研发创新工作。
上文介绍了利用技术矛盾与发明原理来解决特定技术问题的一般思路,这属于发明的正向思维模式。在发明的实质审查过程中,由于審查员是在了解了发明内容之后才做出判断,因而容易对发明的创造性估计偏低,从而犯“事后诸葛亮”的错误[4]。当采用评判创造性最基本的方法——三步法时,为了保证创造性评判的客观性,应当需要不断的还原发明创造,不仅要考虑研发人员从研发原点是如何做出改进来解决该技术问题,也要考虑与衡量该技术手段对现有技术做出的贡献,即应当同时从“正向思维模式”和“逆向思维模式”来反复实践。
参考文献:
[1]创新方法研究会.创新方法教程[M].北京:高等教育出版社,2012.
[2]周胜生等.TRIZ理论在专利创造性判断中的应用研究[J].电子知识产权,2012(01):68-72.
[3]王秀奎.谈谈TRIZ理论在专利代理服务中的作用[A].北京.实施国家知识产权战略,促进专利代理行业发展-2010年中华全国专利代理人协会年会暨首届知识产权论坛论文集[C].2010.
[4]中华人民共和国国家知识产权局.专利审查指南[M].北京:知识产权出版社,2009.