两种修复材料修复龈上及龈下V类洞的疗效观察

徐蓉蓉　董倩　王文梅

[摘要]目的 比较3M纳米复合树脂和富士Ⅱ玻璃离子在修复龈上及龈下V类洞的临床效果差别。方法 选择2010年10月～2012年12月本院就诊患者患牙280颗，分龈上，龈下两组，使用两种修复材料修复，比较2年后的治疗效果。结果窝洞位于龈上时，两种材料的修复成功率均较高，达到88%以上；窝洞位于龈下时，用富士II玻璃离子组修复的成功率（78.1%）明显高于3M纳米树脂组（60.0%），差异有统计学意义（P<0.05）。修复成功的病例中，3M纳米复合树脂组磨耗程度远低于富士II玻璃离子组。结论 当V类洞位于龈下时，选用富士Ⅱ玻璃离子充填效果优于3M纳米树脂，当V类洞位于龈上时，选用3M纳米树脂优于富士Ⅱ玻璃离子充填效果。

[关键词]v类洞；3M纳米复合树脂；富士II玻璃离子；龈下龋坏

根据G.V.Black分类方法，以龋损发生的部位为基础，V类洞是指所有牙齿唇（颊）或舌面颈1/3处的龋损所备成的窝洞。v类洞大多发生在牙齿的唇颊侧，发生的原因主要有楔状缺损引起的继发龋坏和釉质发育不全造成的继发龋坏。在临床上因不同原因制备的v类洞很常见。牙颈部为应力集中区，可至牙体组织发生疲劳，修复后也使充填材料产生疲劳，且窝洞位于龈缘或部分位于龈下，难以长时间控制血液、龈沟液渗出，这些都是造成充填物与牙面不密合，修复体边缘继发龋，脱落而造成治疗失败率高的原因。很多学者通过使用不同充填材料，或不同修复方法，来研究如何提高楔状缺损的修复效果。本研究将通过探讨3M纳米复合树脂材料与富士II玻璃离子材料对牙龈不同位置下v类洞的修复效果来分析治疗失败的原因。

1.资料与方法

1.1一般资料

选择2010年10月～2012年12月本院就诊的年龄在20～50岁之间，颈部龋坏患者70例，280颗牙，其中男31例（116颗牙），女39例（164颗牙）。与患者知情同意后分组，其中龈上组150颗，树脂组和玻璃离子组各75颗，纳入标准为：洞型位于龈缘以上（包括平龈缘洞型），窝洞深度>0.5mm，直径2～5mm之间。龈下组130颗，树脂组和玻璃离子组各65颗，纳入标准为：洞型部分位于龈下，窝洞深度>0.5mm，直径2～5mm之间。

1.2实验器械与设备

玻璃离子水门汀（而至富士II，苏州），纳米树脂（3MFihekZ350XT，美国），Adper Easy One自酸蚀粘结剂（3M，美国），光敏氢氧化钙（VOCO，德国），光固灯（3M，美国）。

1.3操作方法

玻璃离子水门汀修复组：清除患牙周围色素与牙石，去龋，制备v类洞，如需要可制备固位沟，如窝洞至牙本质深层需氢氧化钙垫底。对于龈下较深窝洞，牙龈出血多者使用肾上腺素棉球按压，暂时止血。调制玻璃离子水门汀，充填于窝洞内，固化后修整拋光。

3M纳米复合树脂修复组：清洁备洞隔湿如前，Adper Easy One自酸蚀粘结剂处理窝洞20s，吹去多余粘结剂，光固化20s，再充填3M纳米树脂塑形后光照40s，修整抛光。如窝洞至牙本质深层需氢氧化钙，玻璃离子垫底。对于牙龈出血较多者处理方法同上。

1.4疗效评价标准

根据洞型修复两年后效果进行评价，成功标准为修复体无脱落，边缘密合无继发龋，无明显冷热不适、自发痛等牙髓刺激症状。治疗失败标准为充填物脱落，边缘继发龋，出现明显冷热不适自发痛等牙髓症状。部分充填体表面出现深度不超过0.5mm的点状或沟状或整体表面磨耗，不作为失败评价标准，而作为充填物表面磨耗纳入统计范围。

1.5统计学分析

本研究共采集280颗患牙，两年后回访率为83.6%，未按时复诊检查或未复诊检查者视为回访遗失病例，不纳入最终统计，在两年内因牙髓炎或脱落前来就诊患牙纳入统计范围。结果采用SIX3S15.0统计软件包进行x2检验统计学分析，P<0.05时差异具有统计学意义。

2.结果

2.1两种修复材料治疗失败原因及比较

两种修复材料治疗失败原因及例数见表1，在修复成功的病例中，3M纳米复合树脂组磨耗病例百分比远低于富士Ⅱ玻璃离子组。

2.2两种材料修复成功比较

两年修复成功数据见表2，如表所示窝洞部分位于龈下时，离子组和树脂组修复成功率均低于龈上组，具有统计学意义（离子组x2=7.6，P<0.05，树脂组X2=53.8，P<0.05），当窝洞部分位于龈下时，富士II玻璃离子组成功率高于3M纳米复合树脂组，具有统计学意义（x2=8.69，P<0.05）。见表2。

3.讨论

在v类洞临床常见病因中楔状缺损占大多数，它是一种牙齿唇颊侧颈部牙体硬组织缓慢磨耗造成的缺损，中老年人发病率高达90%，且随年龄增长而严重。楔状缺损使牙齿自洁能力降低，暴露的牙本质抗腐蚀性差，容易发生继发龋坏，造成破坏面积增加。而另一个常见临床病因是釉质发育不全，它是一组影响釉质发育的遗传性疾病，由于釉质形成时造釉器的某些功能障碍，导致釉质在厚度、结构和组织上的改变，环境因素也可能造成病损。因为釉质缺陷，往往在青少年时期就可能造成龋坏，有些青少年偏好碳酸饮料，早期可以造成牙颈部严重龋坏。由此可见v类洞修复在临床治疗中意义重大。本实验通过如何选择充填材料来提高v类洞修复成功率进行初步研究。

从研究结果来看，窝洞位于龈下使修复体成功率显著降低。分析其原因，当窝洞部分位于龈下时，在预备固位形和去龋过程中易伤及牙龈组织。由于龋坏组织长期存在于牙龈下方，食物、软垢和龋损组织边缘常刺激牙龈，会造成牙龈炎症，从而使牙龈出血、龈沟液增加，这些都将影响修复的成功率。

当修复体部分位于龈下时，用富士Ⅱ玻璃离子组成功率明显高于3M纳米复合树脂组。无论玻璃离子还是树脂充填都需要窝洞隔湿，但血液、龈沟液的渗出常污染窝洞，不利于充填，玻璃离子的优势在于操作时间短，能尽可能地减少影响。本研究在有明显出血渗液时，使用肾上腺素小棉球按压，暂时止血，迅速隔湿充填。本研究者个人操作统计，玻璃离子从充填到塑形结束在15～45秒，因充填前除备洞、干燥无需其他处理，且受玻璃离子硬固时间限制，充填时间通常不会太长。而树脂组，虽然已使用最省时的Adper Easv 0ne自酸蚀粘结剂，但从开始使用粘结剂到塑型结束，按材料操作说明至少要45秒以上，最长的因为需要分层固化，用时超过一分半钟。在涂布粘结剂步骤中，需要轻吹粘结剂，去除多余粘结剂，且使其分布均匀，在实际操作中，气枪吹动常会促发有炎症的牙龈出血。

对于龈下楔状缺损，多名研究者通过排龈线排龈的方法增加充填的成功率，也有使用排龈膏作为止血排龈有效手段值得借鉴。但对于因龋坏或继发龋坏而备成的v类洞，使用排龈线，排龈膏再充填的研究较少，可能是因为龋坏边缘不平整，凹陷于龈下，有时位置较深，使用排龈线，排龈膏操作困难。常规排龈线可使牙龈下降0.5～1mm，对位于龈下较深的病例排龈线也不能达到理想的修复环境。所以合理使用玻璃离子可以提高龈下v类洞修复的成功率。复合树脂存在聚合性收缩，可造成修复材料与牙体硬组织之间裂隙继而引起微渗漏，继发龋，及充填物脱落，这也可能是发生治疗失败的原因之一。

另外，从表1中可以看出，富士II玻璃离子修复体在两年后很多出现了磨耗坑沟或整体表面磨耗，这对隔离外环境保护牙体是不利的。而3M纳米复合树脂组出现磨耗相对不多，说明玻璃离子在耐磨耗方面逊于树脂。玻璃离子色泽较暗，颜色不佳，而纳米复合树脂常用于前牙美容修复，美观性让人满意。龈上组两种充填材料治疗成功率差别不明显，所以充填物位龈上的窝洞，树脂修复效果更佳。也由此可见v类洞合适用什么材料充填并非一定，需要根据窝洞位置，患者牙周情况，操作时的出血状况和操作者止血能力等具体情况做出正确的选择。医师也应该在条件允许情况下多尝试止血隔离材料，改善充填环境，使充填材料的优点得以充分发挥。