安奎生,付申成,谷德山
(东北师范大学,吉林 长春 130024)
教学用金属真空蒸发镀膜实验装置的研制
安奎生,付申成,谷德山
(东北师范大学,吉林 长春 130024)
介绍了自制的金属真空蒸发镀膜实验装置,分析了真空镀膜的实验原理,详述了真空蒸发镀膜装置的操作流程。
真空系统;蒸发镀膜;镀膜室
真空镀膜属于薄膜技术和薄膜物理范畴,广泛应用在电真空,电子学、光学、能源开发、现代仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学、以及原子能工业和空间技术中。由于真空镀膜技术的迅速发展,使得电子计算机的微型化成为可能,进而促进了人造卫星、火箭和宇航技术的发展。
真空镀膜是指在真空中将金属或金属化合物沉积在基体表面上,从技术角度可分为:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀膜和束流沉积等4种。真空镀膜的优点是:它可用一般金属(铝,钛等)代替日益缺乏的贵重金属(金,银)进行镀膜,从而降低产品成本,提高产品质量;由于在真空环境下镀膜,分子碰撞少,污染少,可获得表面物理研究中所要求的纯净、致密的薄膜;镀膜时间可人为控制,可得到厚度均匀或非均匀薄膜;被镀件表面不受损坏,薄膜与基体具有同等的光洁度。
本文介绍了自制金属真空蒸发镀膜实验装置,并以在载玻片上镀铝膜为例,详述了装置的实验操作流程。
自制金属真空蒸发镀膜实验装置主要由真空系统、电控系统、水循环制冷系统等3部分组成。装置设计尺寸为1 200 mm×800 mm×1 100 mm,极限真空度为5×10-3Pa,总功率为2.5 kW,其实物如图1所示。
图1 金属真空蒸发镀膜实验装置
1.1 真空系统
真空系统由真空获得设备、真空测量器件、真空玻璃镀膜室和真空组装配件构成。
(1)真空获得设备
型号为2XZ-4旋片式机械真空泵1台,TK-150T金属油扩散泵扩散泵1台,DN200冷阱1个。
(2)真空测量器件
ZD-I-LED数字复合真空计1台,真空规管接头2个,ZJ-53热电偶规管1只,JZ-27热阴极电离规管1只。
(3)真空玻璃镀膜室
真空蒸发镀膜室是立式圆筒形玻璃钟罩结构,其直径为280 mm,高为320 mm,蒸发器钨丝直径为0.5~1 mm,玻璃钟罩和金属法兰采用真空橡胶圈过渡连接。
(4)真空组合配件
GI-150高真空蝶阀1个,DDC-JQ25A电磁真空充气阀1个,GD-25高真空挡板阀2个,微调充气阀1个,波纹管3根,过渡法兰4个,不锈钢连接管道(三通、弯头等)若干件,实验台架1个。
1.2 电源控制系统
装置面板上安有机械泵、扩散泵和蒸发电源(通过调压器调节蒸发电流,输出直流0~40 A)控制开关。外部配置电源电压分别为380 V,220 V。
1.3 循环水系统
压强为1.5 kg/cm2~2.5 kg/cm2,水温低于20 ℃,冷却水管长度为8 m,用于金属油扩散泵冷却。
在平衡状态下,若金属克分子蒸发热ΔH与温度无关,则饱和蒸气压pS和绝对温度T的关系为
式中R为气体普适常数,k为积分常数。
在真空环境下,若金属表面静压强为p,则单位时间内从单位凝聚相材料表面蒸发出的质量(蒸发率)为
式中α为蒸发系数,M为克分子量,T为凝聚相材料的温度。
若真空度很高(P≈0)时蒸发的分子全部被凝结而无返回蒸发源,并且蒸发出向外飞行的分子也没有因相互碰撞而返回,此时蒸发率为
式中k为波尔兹曼常数,n为气体分子密度。
p/Pa10001001011×10-11×10-21×10-3λ/m5×10-65×10-55×10-45×10-35×10-25×10-15
自制金属真空镀膜装置简图如图2所示。
图2 金属真空蒸发镀膜装置简图
(1)准备工作
将被镀物(载玻片)清洗烘干后,放在蒸发器下面法兰上,在蒸发器上挂上一定数量的铝条(蒸发物),盖上玻璃钟罩。
(2)抽真空
关K1,开机械泵电源,慢慢打开K2(此时用手轻轻按住钟罩,待压紧为好),开K3,K4阀门,打开复合真空计电源,当真空度指示为5 Pa时,打开扩散泵水源和电源,关上K2。
(3)镀膜
当真空度达到8 Pa时,将蒸发调节旋钮逆时针转到零点,开蒸发电源开关,顺时针缓慢旋转蒸发调节钮,当电流在10 A左右,蒸发物从固体融化成液体,再到气体,当蒸发物全部蒸发完毕时,镀膜结束,将蒸发调节降到零,关掉蒸发电源开关。
(4)关机
关真空计电源,关扩散泵电源,关K4;开K1向镀膜室内充气,取出镀件(如图3所示);在关掉扩散泵电源30 min后,关K3;关机械泵电源(此时电磁放气阀DK自动打开充气),关水源,结束实验。
图3 载玻片镀膜前后比较图
该装置由于实验现象直观、状态稳定、操作方便、造价低,因此非常适合于真空实验课教学。管道阀K2,K3与高真空蝶阀K4、充气阀K1配合,可以将镀膜室隔离出来,实现在不停真空泵情况下连续镀膜,亦可随时调整安装蒸发器及蒸发物,而扩散泵仍处在高真空的工作状态,这对连续镀膜的生产是很有意义的。
[1] 徐成海.真空工程技术[M].北京:化学工业出版社,2006:12-19.
[2] 王欲知,陈旭.真空技术[M].北京:北京航空航天大学出版社,2007:21-23.
[3] 达道安.真空设计手册[M].北京:国防工业出版社,1991:29-32.
[4] 华中一.真空实验技术[M].上海:上海科学技术出版社出版,1985:73-79.
[5] 高雁.真空蒸发镀膜膜厚的测量[J].大学物理实验,2008(4):72-79.
Development of Experimental Apparatus for Vacuum Evaporation Coating Film
AN Kui-sheng,FU Shen-cheng,GU De-shan
(Northeast Normal University,Jilin Changchun 130024)
Introduced homemade metal vacuum evaporation coating experimental device,analyzed the experimental principle of vacuum coating,detailing operational processes vacuum evaporation coating apparatus.
vacuum system;evaporation coating film;coating chamber
2016-06-20
1007-2934(2016)06-0098-03
O 4-33
A
10.14139/j.cnki.cn22-1228.2016.006.026