电解电容器用低压腐蚀铝箔二电解处理的研究

周 英

（新疆众和股份有限公司乌鲁木齐830013）

电解电容器用低压腐蚀铝箔二电解处理的研究

周 英

（新疆众和股份有限公司乌鲁木齐830013）

通过对低压腐蚀铝箔腐蚀生产工艺中二电解处理溶液进行研究，优化生产工艺条件以提高铝电解电容器低压腐蚀铝箔的比容。

低压腐蚀铝箔比容铝电解电容器低压电子铝光箔

1 引言

我们平时所用的铝电解电容器用电极箔是经过特殊腐蚀、化成工艺生产的电子产品，其生产难度大、技术含量高，其中的腐蚀生产工艺更是生产电极箔的重要环节，经过腐蚀生产工艺生产出来的产品叫腐蚀箔，判断腐蚀箔好坏的重要电性能指标是比容，因此腐蚀箔比容的提高是提高电极箔性能的重要因素。获得高比容电解电容器的关键技术之一，就是利用特殊的电化学扩面技术在铝箔表面往纵深方向腐蚀出大量蚀孔以提高比表面积，低压铝箔腐蚀过程是一个腐蚀与缓蚀平衡的过程，即保持蚀孔往纵深方向发展的同时保留蚀孔之间的间隙不受腐蚀，从而在铝箔表面产生大量的海绵状的蚀孔。目前，低压铝箔腐蚀主要采用盐酸为主的交流腐蚀工艺。影响比容的因素很多，除铝箔本身的质量外，还有腐蚀液配方、腐蚀电源、腐蚀工艺、化成工艺等。本论文就是通过优化腐蚀生产工艺中的二电解液的配方以提高腐蚀箔的比容。

2 实验部分

2.1 实验仪器与试剂

采用自制交流腐蚀电源；自制PVC腐蚀槽；石墨极板（两平行石墨板间距为5cm）；试样夹板，试样裸露部分尺寸为9cm×10cm；温控仪，控制精度为0.1℃；磁力搅拌器；LCR数字电桥；精密线性直流稳压稳流电源；自制小样化成槽；铝箔智能检测系统；电导率仪；自制折弯仪；PHS-3C型pH计。

盐酸、硫酸、硝酸、结晶氯化铝、氢氧化钠、草酸等以上试剂均为分析纯。

2.2 实验方案

采用硬质低压电子铝光箔为原材料，将其经过前处理后在含HCl-H2SO4混合酸体系的腐蚀槽中进行初级交流腐蚀（一电解处理）、中间化学处理（中处理）和后级交流腐蚀（二电解处理）；腐蚀后的样片在硝酸水溶液中进行后处理；进行干燥和热处理，此时硬质低压电子铝光箔的腐蚀工艺流程结束，经过腐蚀后的样片为低压腐蚀铝箔；将低压腐蚀铝箔在21V化成后按照JCC方法用LCR数字电桥测量其比容,见表1。

表1 检测数据对照表

方案1：二电解溶液为HCl-H2SO4-Al水溶液。

方案2：二电解溶液为HCl-H2SO4-Al+5～10gL草酸的水溶液。

方案3：二电解溶液为HCl-H2SO4-Al+15～20g/L草酸水溶液。

方案4：二电解溶液为HCl-H2SO4-Al+25～30g/ L草酸水溶液。

3 结果与讨论

由表1可知，通过往二电解液中添加草酸，可以将铝电解电容器用低压腐蚀箔的比容提高。草酸的添加量过低或过高，都不利于腐蚀箔比容的提高，需控制在一定的范围内。

4 结论

铝电解电容器用低压铝箔的腐蚀生产过程中，其它工艺条件不变的前提下，通过在二电解液中添加草酸，并将其添加量控制在15～20g/L范围内，可将铝电解电容器用低压腐蚀箔的比容提高。

收稿：2015-01-26

10.16206/j.cnki.65-1136/tg.2015.04.020