专利信息

周雅文 提供

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Patent Information

太阳能电池基板的清洗方法和设备

Method and apparatus for cleaning substrates for solar cells：韩KR2010088202 [专]/ EM Power Ltd., S（Lim, Jong Hyeon; Jung, Yeong Cheol; Yoo, Yeong Jong; Kim, Yeong Gyun.）－2010.08.09. －9页.－KR2009-7252（20090130）

本专利涉及用于制备太阳能电池板的薄片材料的清洗。包含以用于储存臭氧水的水箱和一个控制薄片在水箱中保持水平的夹子。薄片能水平对齐并被清洗液洗涤。

交通工具清洗方法和装置

Method and apparatus for cleaning vehicles：美US20100071717 [专]/ R. Lewis Technologies, Inc.（Lenhart, John G.）－2010.03.25. －15页.－US2007-953461（20071210）

本专利提供一种洗车的方法和装置。清洁方法包括用人工电磁辐射照射外表面。外表面污垢含多环芳香族碳氢化合物，至少有一些是化学结合到一起的。此方法将用人工电磁辐射的方法打开污垢的化学键，人工电磁辐射有预先设置的电磁波长，其能量足够打开那些化学键。该方法还包括其他车辆的清洗。

改进的清洗方法和装置

An improved cleaning method and apparatus for use with the method：新西兰NZ579091[专]/ Rolling Stone Cleaning Co Limited,（Clark, Graeme Henry.）－2010.02.26.－NZ2009-579091（20090814）

本专利涉及一种液体喷雾机清洗基板方法及装置。步骤包括液体喷雾机与液体供应的连接、喷雾器出口灵活的羊毛套筒接头、将液体通过喷雾机出口喷射到基板上。

铝网清洗装置和方法

Method and apparatus for cleaning aluminum web：日JP2010052939 [专]/ Fujifilm Cor.（Yamamoto, Takashi.）－2010.03.11.－11页.－

JP2008-222815（20080829）

本专利提供铝网清洗技术，铝网通过弹性材料或金属材料形成的输送辊支撑。辊从上下两面支撑铝网。清洗液被供应到一个输送辊的表面，或在辊和铝网间形成清洗液池。

洗衣店处理设备

Laundry treatment machine：韩KR2012026376 [专]/ LG Electronics, Inc.（Lim, Min Gyu; Kim, Ji Maeng）－2012.03.19.－KR2010-88556（20100909）

本专利洗衣店处理设备包含一个给水阀组件。给水阀组件包含阀组合件和给水阀，进水管引入口，送水到洗涤剂盒的出口管道口，和连接进水管口与出水管口的长连接管。长连接管当干扰阀组合件或出口管口时一定间隔可以隔离开使用。长连接管很容易插入和拔出而且制造简单。

基于延长表面活性剂链长降低碱性的洗衣房用洗涤剂

Reduced caustic laundry detergents based on extended chain surfactants：美WO2012036703 [专]/ Ecolab USA Inc.（Man, Victor Fuk-Pong; Denoma, Michael Charles; Killeen, Yvonne Marie; Lentsch, Steven Eugene）－2012.03.22.－66页.－WO2010-US49338 （20100917）

本发明专利涉及表面活性剂和洗涤剂组分的协同作用。在某些程度上代表一个表面活性剂系统，其中包括增长烷基链的阴离子表面活性剂，表面活性剂连接基团和多电荷阳离子的组成部分。该系统形成乳状液，可消除油腻和油性污渍，甚至除去由非反式脂肪酸组成的污垢。另一个特点是阴离子表面活性剂与溶剂和氧化胺相结合可除去防晒污渍。该配方可以单独使用，也可以作为其他预处理剂或作为软或硬表面处理添加剂使用。

清洁牙刷的方法和装置

Method and apparatus for cleaning a toothbrush：美US20120042906 [专]/ Meerzoumen, Raya.－2012.02.23－6页.－US2010-806794（20100823）

本发明提供的方法和装置用于容易有效地清洁牙刷。刷牙是睡前人们从事复杂或技术活动时做不愿意做的事情。因此，消费者需要非繁琐的简易方法清洗牙刷。本创造性的发明方法包括一放置清洗液的喷雾瓶用于清洗牙刷。这个方法简单易行，并可以方便地调整为最佳角度或牙刷清洁所需的强度。尽管它很简单但它是讲究的，因为它由用户直接控制，因此可以由用户动态调整牙刷的朝向、气味、或在给定时刻的感觉。

W/O乳液型漂白液体洗涤剂

Water-in-oil-type emulsion liquid bleaching detergents：日JP4732166 [专]/ Kao Corp. （Maki, Masataka; Tase, Yuichiro; Ishizuka, Hitoshi; Yamaguchi, Nobuyoshi.）－2011.07.27－16页.－JP2005-379146 （20051228）

本专利涉及一种液体洗涤剂，含（a）过氧化氢或产生过氧化氢的化合物，（b）0.1-10 %的漂白活化剂，（c）45-80 %的非离子表面活性剂，（d）水，（e）硼酸、硼砂、硼酸盐中至少一个化合物，（f）多元醇化合物，使溶液20o时pH值在4 -7。本专利还涉及一种含过氧化氢的液体漂白洗涤剂，其W/O乳液液滴均匀地分散在表面活性剂形成的连续相里。

基板表面清洗方法和装置

Method and apparatus for cleaning substrate surface：日JP2012044082 [专]/ Seiko Epson Corp.（Inoue, Hiroyuki）－2012.03.01－14页.－JP2010-185844（20100823）

本专利方法涉及在含氢氟酸的清洗液中浸泡基板底物，并将基板传送到下一阶段，其中在清洗和转移过程中，空间区域的相对湿度大于 60%和小于100%。该方法可以防止待清洗的表面在此空间内干燥，因此可以均匀分散清洗液和便于清洁表面。

清洗质谱仪离子源表面的方法和装置

Method and apparatus for cleaning surface of ion source of mass spectrometer：英WO2012017190 [专]/ Kratos Analytical Limited. (Allison, John).－2012.02.09－45页.－WO2011-GB1139（20110728）

本发明涉及清洗质谱仪离子源表面的方法和装置，例如基质辅助激光解吸电离离子源。该方法包括释放UV 光到材料表面以解吸污染物。UV光源可以是一种激光和移动的反射表面，它可以直接将光反射到表面上。

碳化硅半导体的清洗方法和装置

Method and apparatus for cleaning silicon carbide semiconductors：日JP2012004272 [专]/ Sumitomo Electric Industries, Ltd. (Miyazaki, Tomihito; Wada, Keiji; Hiyoshi, Toru.).－2012.01.05－18页.－JP2010-136869（20100616）

本专利技术设计用形成氧化物层清洗碳化硅半导体，例如用氧等离子体然后用卤素或氢等离子体清除氧化层。该装置的执行过程包括形成氧化层的部分和除去氧化层部分。此装置可以将半导体表面清理干净。

用浸在里面的洗涤液清洗孔的方法和装置

Method and apparatus for cleaning holed works by their immersion in cleaning liquids：日JP2012000598[专]/ Hitachi Plant Technologies Co., Ltd. (Masaki, H.; Sahara, T.; Tsumaki, N.). －2012.01.05－12页.－JP2010-140228（20100621）

本专利涉及用保留在孔中液体清洗孔的工作。该专利使用密封罐中清洗液，罐抽真空用于除去液体中的空气，罐通过一种在水中溶解度比空气小的气体加压，例如氢气，真空和加压步骤不断重复操作以取代孔中的空气。清洗孔装置包括密封罐、真空泵和使气体进入密封罐的设备。孔内剩余的空气通过几乎不溶气体加压很容易除去。

一种清洗方法和装置

Method and apparatus for cleaning：日JP2011243762[专]/ Shibaura Mechatronics Corporation. (Koyama, H.; Abe, M.; Hirose, H..). －2011.12.01－15页.－JP2010-114945 （20100519）

本专利涉及一种清洗如半导体板的方法，包括形成溶解一定气体的洗涤液，将待洗物浸入洗涤液中，蒸发溶解气体以形成气泡。同时，专利还涉及如何使用设备。

液体洗涤剂配方

Liquid detergent composition：韩KR2011123982 [专]/ Aekyung Industrial Co., Ltd., S. (Cho, In Sik; Ku, Hyeong Seo; Nam, Gi Cheon; Yoo, Gyeong Min.). －2011.11.16－11页.－KR2010-43498（20100510）

本专利提供一液体洗涤剂配方，其配方包含非离子表面活化剂R1-O-(EO)x-H(R1 = C10-16线性或支链烷基或烯基; EO =乙氧基；x=5-20个乙氧基数目)，脂肪酸盐和阳离子聚合物。此洗涤剂具有对各种各样污染物有较高的清洁能力，具有易漂洗的特征和在低温下的良好稳定性，适用于滚筒式洗衣机用洗涤剂。

含螯合酸的碱性洗盘机用洗涤剂

Caustic dishwashing detergents containing chelating acids：美WO2011138719 [专]/ Ecolab USA Inc. (Miralles, Altony.).－2011.11.10.－49页.－WO2011-IB51910（20110429）

本专利提供一个用于清洗洗盘机用的洗涤剂和漂洗溶液配方。洗涤剂包括碱金属的氢氧化物、缓蚀剂和表面活性剂。洗涤剂包括不大于1%碱性金属的碳酸盐。冲洗液包括水和螯合酸。

洗碗机和纺织洗烫用定量洗衣粉盒

dishwashing and textile laundering process using dosing cartridge：德WO2011138165[专]/ Henkel AG & Co. KGaA, (Nitsch, Christian; Bastigkeit, Thorsten; Sendor-Mueller, Dorota; Eiting, Thomas; Kessler, Arnd; Benda, Konstantin.). －2011.11.10.－53页.－WO2011-EP56231（20110419）

本专利提供一个洗碗机和纺织洗烫用定量洗衣粉盒和洗涤剂组分。其组分含（a）填料；(b)氧漂白剂。一典型的清洁剂配方含EDDS 0-20wt.%，磷酸盐0.5-20wt.%，碳酸盐或碳酸氢盐 0-20wt.%，碱性氢氧化物0-22 wt.%，阴离子聚合物0-30 wt.%，水30-80 wt.%和其他添加剂。

可溶性锂盐、铝盐和硅酸盐在餐具洗涤剂中作为玻璃腐蚀抑制剂的应用

Use of soluble lithium salts, aluminum salts, and silicate salts as a glass etching inhibitors in dishwashing detergents：美WO2011138720 [专]/ Ecolab USA Inc. (Miralles, Altony.). －2011.11.10.－44页.－WO2011-IB51913（20110429）

本专利提供餐具洗涤剂配方含酒精、腐蚀抑制剂和任意清洗剂。玻璃腐蚀抑制剂为锂盐、铝盐和硅酸盐中的至少一种。洗涤剂的pH至少为8。

带磨料颗粒的液体洗涤剂

Liquid detergent composition with abrasive particles：美EP2431451 [专]/ The Procter & Gamble Company（Perez-Prat Vinuesa, Eva Maria; Gonzales, Denis Alfred; Asmanidou, Anna; Fernandez Prieto, Susana）－2012.03.21－32页.－EP2011-178626（20110824）

本发明涉及一种洗碗机配方，含磨料颗粒和悬浮助剂，其悬浮助剂选自蜡结晶、纤维素微纤丝、氨基凝胶剂、二苄基多羟基二乙醇衍生物的一种或混合物。另外，本发明设计其加工方法和使用。

对干尿渍具有强去污力的马桶清洁洗涤剂

Detergents for toilet bowl cleaning with high detergency against dried urine stains：日JP2011225762 [专]/ Lion Corp. (Nakazawa, Kaoru; Yajima, Kazumi.). －2011.11.10.－11页.－JP2010-98542（20100422）

本专利提供的洗涤剂p H为6.5-7.5，包括(a) 两性表面活性剂R1CONHR2N+R3R4(R5COO-) [R1= C8-20线性或分支的烷基（烯基）; R2= C1-5线性或分支的亚烷基; R3、R4= H， C1-3线性或分支的烷基; R5= C1-5线性或分支的亚烷基，或者R6R7N+ (R8COO-) [R6= C8-18线性或分支的烷基（烯基）; R7= C1-4线性或分支的烷基（烯基）; R8= C1-6线性或分支的(羟)亚烷基] 0.3-3%;(b)乙醇15-25%；(c)乙二胺四乙酸(盐) 0.7-2.2%和 (d) 适量MgSO4。因此，洗涤剂配方包括Enagicol L 30B(月桂基酰胺丙基甜菜碱)，乙醇和Dissolvine Z (乙二胺四乙酸)和适量的硫酸镁，洗涤剂酸碱度为7.0。

对金属颗粒有良好清洗效果的磁盘基片洗涤剂

Detergents for magnetic disk substrates showing good cleaning effect on metal ion-derived particles：日JP2011227984 [专]/ Sanyo Chemical Industries, Ltd. (Tanioka, Hiroaki; Suzuki, Kazumichi; Terakawa, Yasuko). －2011.11.10.－18页.－JP2011-78612（20110331）

本专利洗涤剂对基体有适当的蚀刻作用但不会降低表面平滑性，其组成包含(A)羟基羧酸；(B) 除A之外螯合剂并对Fe (III)离子具有令人满意的螯合稳定效果；(C) 烷醇酰胺。洗涤剂包含阴离子或者阴离子/非离子表面活性剂，并且可以清洗磁盘基板。此洗涤剂具有高效清洗效率并避免微粒的再沉淀。