赵文霞,赵玉,柴子茹,张硕,王世欣,焦志杰
(1 河北科技大学环境科学与工程学院,河北 石家庄 050018;2 河北科技大学河北省污染防治生物技术重点实验室,河北 石家庄 050018)
光催化技术是一种在环境领域有着应用前景的绿色技术[1-3]。二氧化钛(TiO2)因价格经济、无毒、不易产生二次污染等优良特征,成为备受青睐的光催化剂[4]。然而传统的纳米TiO2在实际应用中存在比表面积较小、孔结构不发达等不足之处。相比而言,介孔TiO2由于具备较大孔径和比表面积而受到研究者的关注[5]。目前介孔TiO2的制备方法主要有模板法[6-7]、溶胶凝胶法[8]和溶剂蒸发诱导自组装(EISA)[9]等。其中模板法因其操作简单、孔形貌具有一定的可控性得到广泛应用[10]。Erlandy等[11]以十二烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板剂,成功制备出比表面积为148.60m2/g 的介孔TiO2光催化剂,明显增强了TiO2在可见光下的光催化活性。Li等[12]以多元共聚物F127 为模板剂,辅助溶胶凝胶法制备出了介孔TiO2,其比表面积为112.40m2/g,但是制备过程耗时较长且需要高温煅烧。已有研究表明,常规的高温煅烧处理过程往往会造成粒子团聚、粒径变大、活性位点减少,进而影响TiO2的光催化活性[13]。
据文献报道,采用等离子体对TiO2进行改性处理可以改善高温煅烧造成粒子团聚的问题,提高其光催化性能[14-15]。等离子体可分为高温等离子体和低温等离子体,低温等离子体由于温度低、易操作而备受关注,在科学研究和工业上的应用更为广泛[16]。Islam等[17]采用溶胶凝胶法制备TiO2薄膜,利用微波辅助等离子体系统对TiO2薄膜进行处理,提高了其在可见光下对亚甲基蓝的降解,但是微波等离子体系统操作较为复杂,且需要较高的能量激发等离子体。Hu等[18]分别利用N2、N2-H2、H2等离子体余辉改性处理商品级TiO2(P25),结果表明经N2等离子体改性后的P25 样品光催化活性明显增强,但是其等离子体放电也需要较高的能量来激发。相比而言,介质阻挡放电(DBD)因其结构简单,放电较为均匀、稳定,成为国内外产生低温等离子体的主要形式[19-20]。目前有关介质阻挡N2低温等离子体改性处理介孔TiO2的研究报道较少。
本文在前期研究基础上[21-22],在石英平板介质阻挡放电装置中,选用N2氛低温等离子体改性处理介孔TiO2(M-TiO2),探究不同CTAB/Ti 摩尔比和等离子改性处理对M-TiO2的可见光催化性能的影响。借助XRD、TEM、BET、UV-vis DRS和XPS等手段对光催化剂的形貌结构和表面化学性质及组成进行表征分析。以甲基橙为目标污染物对其可见光催化性能进行评价,获得了一种性能稳定、可见光活性高的M-TiO2光催化剂。在此基础上,结合活性物种捕获实验和莫特-肖特基曲线测试结果,对N2等离子体改性M-TiO2的可见光催化机理进行了探究。
钛酸丁酯、无水乙醇、草酸铵(AO)、硫酸钠(Na2SO4)、甲基橙(MO),分析纯,天津市永大化学试剂有限公司;十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、对苯醌(BQ),分析纯,罗恩试剂。四氯化碳(CCl4),分析纯,天津市大茂化学试剂厂。叔丁醇(TBA),分析纯,天津博迪化工股份有限公司。
将含有模板剂CTAB的H2SO4溶液(pH=2)置于35℃恒温水浴中均匀搅拌,再将钛酸丁酯以一定比例(CTAB/Ti 的摩尔比分别为1∶2、1∶3、1∶4)缓慢滴加进上述溶液中搅拌均匀,将混合物转入聚四氟乙烯内衬的高压反应釜中,烘箱中60℃晶化24h,经过滤、洗涤、干燥,研磨得到M-TiO2中间体[23-24]。将研磨后的粉末置入管式炉内(GSL-1100X,合肥科晶),控制升温速率为5℃/min,在N2气氛下400℃煅烧2h,得到M-TiO2光催化剂,记作M-TiO2(C)。
N2低温等离子体改性M-TiO2的工艺流程如图1所示,其中介质阻挡放电(DBD)实验反应器(配套DBD-100B气固反应釜,CTP-2000K,南京苏曼等离子体科技有限公司)采用石英平板介质阻挡放电形式。
图1 等离子体改性M-TiO2实验装置图
M-TiO2(CTP+C):①将1.2 节制得的M-TiO2中间体平铺在介质阻挡实验反应器的石英平板反应釜内部;②打开N2气瓶,向介质阻挡实验装置内通入N2;③打开介质阻挡实验装置电源开关,工作功率为30W,放电时间为20min,对样品进行等离子体改性处理;④放电结束后,关闭电源开关,关闭N2气瓶开关,取出样品;⑤将样品置于管式炉内,N2气氛下400℃煅烧100min,得到M-TiO2光催化剂,记作M-TiO2(CTP+C)。M-TiO2(CTP+C)的制备流程如图2所示。
图2 M-TiO2(CTP+C)制备流程图
M-TiO2(C+CTP):将1.2 节制得M-TiO2中间体先置于管式炉内,N2气氛下400℃煅烧100min,然后按照①~④步骤进行等离子体改性处理,得到M-TiO2光催化剂,记作M-TiO2(C+CTP)。
X射线衍射(XRD,D/MAX2500,日本Rigaku)测定样品的晶型结构组成;透射电镜(TEM,JEM-2100,日本JEOM)观察样品的缺陷和结构状况;BET 比表面积测定仪(Nova2000e,美国Quantachrome)测定样品的比表面积及孔分布情况;紫外-可见光漫反射(UV-vis DRS,UV-2550,日本Shimadzu)研究样品对光的吸收性能;X射线光电子能谱(XPS,ESCALAB250,美国ThermoVG)测定样品表面元素和化学态。
实验用可见光源为装有可见光反射滤光片(VISREF780)和紫外截止滤光片(UVCUT420)的氙光灯(λ=420~780nm,XE300F,北京时代科诺科技有限公司)。称取0.1g 光催化剂加入装有100mL 浓度为20mg/L 甲基橙溶液的光催化反应器中,同时搅拌,暗置1h,以达到吸附平衡。打开氙光灯电源进行可见光催化反应,同时光催化反应器通入循环冷却水维持室温,每隔一定的时间取出5mL 溶液,用高速离心机(TG16,上海卢湘仪离心机仪器有限公司)离心15min,转速设定为5000r/min,离心完成后使用孔径为0.22µm 水系膜对上清液进行过滤,利用紫外-可见分光光度计(SP-752,上海光谱仪器有限公司)在甲基橙溶液最大吸收波长处(λ=465nm)测其吸光度,根据吸光度数值换算出净化效率[22,25],以此评价样品的可见光催化性能。
为了评价M-TiO2光催化剂的稳定性,将光催化降解甲基橙后的M-TiO2光催化剂回收[22],在相同条件下光催化降解甲基橙,评价其可见光催化活性。
取一定量的M-TiO2加入至一定体积的Nafion溶液中,手动混匀,取少量混合物,滴加在玻碳电极上(此过程是为了将样品黏附在玻碳电极上)作为工作电极,饱和甘汞电极(Hg/HgCl)为参比电极,铂片为对电极,0.1mol/L 的Na2SO4溶液为电解液,在上海辰华仪器有限公司生产的CHI660E 电化学工作站上进行测定,电压范围-0.8~1.3V,频率1500Hz。通过莫特-肖特基曲线和UV-vis DRS测定结果可以共同确定样品的价带和导带位置。
三种M-TiO2的XRD 谱图如图3 所示。三种M-TiO2均在2θ=25.36°、37.91°、48.16°、54.05°、55.20°和62.86°处出现特征峰,与锐钛矿TiO2(PDF#73-1764)的(101)、(004)、(200)、(105)、(211)和(204)晶面相一致[26]。在2θ=30.81°处的特征峰和板钛矿TiO2(PDF#75-1582)的(211)晶面相一致[24],但是其强度较弱,表明三种M-TiO2主要以锐钛矿相TiO2存在,且N2等离子体改性没有改变其晶型。根据Scherrer 公式[27]算出M-TiO2(C)、M-TiO2(C+CTP)和M-TiO2(CTP+C)三种M-TiO2的平均晶粒分别为5.7nm、5.6nm、5.7nm。与P25(平均晶粒为19.1nm[22])相比,三种M-TiO2的晶粒变小,这可能是由于模板剂CTAB在TiO2晶核生长的过程中起到了抑制作用,使得M-TiO2的平均晶粒维持在纳米级。
图3 M-TiO2的XRD谱图
三种M-TiO2的TEM图像如图4所示。从图4可以看出,三种M-TiO2均由大量晶粒组成,且经等离子体改性处理后所得的M-TiO2的晶粒分散度要明显高于单纯煅烧制得的M-TiO2。表明经N2等离子体改性后能明显改善光催化剂的晶粒分散性,使其分散更均匀,更有利于光催化反应的进行。这是由于等离子体是由大量的电子、离子、自由基和中性粒子组成,使得经等离子体处理过的晶粒间存在斥力,晶粒间的分散度变大。三种M-TiO2的晶格条纹的晶面间距均为0.35nm[图4(b)、(d)、(f)],这与锐钛矿型TiO2(101)晶面相对应,这与XRD 测定结果一致。
图4 M-TiO2的TEM图
三种M-TiO2的UV-vis DRS 光谱图和带隙能量图如图5所示。从图5(a)中可以看到三种M-TiO2均发生了红移,其对可见光的吸收强度由高到低依次为M-TiO2(CTP+C)>M-TiO2(C+CTP)>M-TiO2(C)。由Tauc plot法计算得到三种M-TiO2的带隙能量(Eg)。由图5(b)可知,三种M-TiO2的带隙能均低于锐钛矿相TiO2的带隙能量(3.2eV),其中M-TiO2(CTP+C)的带隙能量(2.51eV)最低,最易受到可见光的激发。这可能与前体钛酸丁酯和模板剂CTAB引入的C、N 元素或者N2等离子体改性处理引入的N 元素有关[22,28-29]。
图5 M-TiO2的UV-vis DRS光谱图和带隙能量图
三种M-TiO2的吸附等温线和孔径分布如图6所示,相应的BET比表面积及孔结构参数见表1。
由图6和表1可以看出,三种M-TiO2的吸附等温线均符合经典的Ⅳ型等温线,存在明显的滞后环,具有典型的介孔结构。与M-TiO2相比,经N2等离子体改性处理所得M-TiO2具有更大的比表面积。由此表明,N2等离子体改性处理可改善MTiO2的孔结构,提高其比表面积。具有较高比表面积的M-TiO2可为吸附提供更多的活性位点,从而有利于增强光催化活性[30]。
图6 M-TiO2的吸附等温线和孔径分布图
表1 BET比表面积及孔结构参数
为了进一步探究等离子体改性前后M-TiO2的表面元素含量和价态的变化,通过XPS 对三种MTiO2进行分析,XPS分析结果如图7和表2所示。
从图7(a)及表2可以看出,M-TiO2(C)在结合能为458.9eV 和464.6eV 处各有一个特征峰,分别对应Ti4+2p3/2、Ti4+2p1/2,表明未经等离子体处理过的M-TiO2(C)仅存在Ti4+,而M-TiO2(CTP+C)和M-TiO2(C+CTP)除了458.9eV 和464.6eV 处两个特征峰外,在457.9eV 和463.5eV 处各有一个特征峰,它们分别对应Ti3+2p3/2和Ti3+2p1/2,表明经N2等离子体处理得到的M-TiO2中存在Ti3+。从图7(b)可以看出,三种M-TiO2的O1s 均存在两个特征峰,其中530.1eV对应晶格氧(OL),531.9eV对应氧空位(OV)[31-32]。由表2 可知,三种M-TiO2中氧空位的占比(OV/O)由大到小依次为M-TiO2(CTP+C)>M-TiO2(C+CTP)>M-TiO2(C)。通常来说,Ti3+的产生伴随着氧空位生成,以维持电荷平衡[15]。由此表明,采用N2等离子体改性处理M-TiO2,等离子氛中的大量电子使得TiO2中的Ti4+还原成Ti3+,从而在M-TiO2表面形成更多的氧空位。从图7(c)可以看出,三种M-TiO2在284.6eV、286.2eV 和288.8eV 处各有一个特征峰。一般认为,284.6eV处的特征峰与外来碳源的C—C键有关[33],286.2eV 和288.8eV 分别对应C—OH 键和C—O—Ti键(间隙碳)[34-36]。由此推测前体钛酸丁酯和模板剂CTAB引入的C元素在M-TiO2中以间隙碳的形式存在,而C掺杂可导致TiO2的禁带宽度变窄,增强对可见光的响应[37-38]。
由图7(d)可以看出,M-TiO2(CTP+C)在399.8eV和402.5eV处存在特征峰,M-TiO2(C+CTP)在399.9eV和401.9eV 处存在特征峰,M-TiO2(C)在399.7eV 和401.7eV处存在特征峰。其中,399.8eV、399.9eV和399.7eV处的峰均对应Ti—O—N键(间隙氮)[21,38-39],402.5eV、401.9eV 和401.7eV 处的峰均归属于催化剂表面化学吸附的N2(N2*)[40-41]。由表2 可以看出,M-TiO2中N 原子主要以间隙氮的形式存在,且模板剂CTAB 中的N 是间隙氮的主要来源,而M-TiO2表面化学吸附的N2主要来自N2气氛,显然,N2等离子体改性处理过程可在M-TiO2中掺入N 元素,且主要以间隙氮的形式存在。但与C掺入量相比,N掺入量相对较少。
图7 M-TiO2的XPS图谱
表2 XPS分析结果
不同CTAB/Ti摩尔比制得M-TiO2可见光下降解甲基橙的性能曲线如图8(a)所示。从图8(a)中可以看出,当可见光持续照射240min时,控制CTAB/Ti摩尔比为1/3条件下制得的M-TiO2光催化剂对甲基橙的降解率最高,为79%左右。因此,确定CTAB/Ti摩尔比为1/3作为制备M-TiO2最佳比。
三种M-TiO2可见光降解甲基橙的性能曲线如图8(b)所示。从图8(b)可以看出,在暗吸附阶段三种M-TiO2的吸附效果基本相同,吸附率在5%左右。开灯后,三种M-TiO2对甲基橙的可见光降解率由高到低依次为M-TiO2(CTP+C)>M-TiO2(C+CTP)>M-TiO2(C)。当可见光照射240min时,M-TiO2(CTP+C)对甲基橙的光降解率最高,达90%左右,而MTiO2(C)最低,仅为79%左右。其原因可能在于MTiO2(CTP+C)具有更窄的禁带宽度[图5(b)]以及更多的Ti3+和表面氧[图7(a)和(b)],因而表现出更强的可见光催化活性。
三种M-TiO2可见光下降解甲基橙的动力学拟合曲线如图8(c)所示。动力学拟合曲线对应的线性回归系数及表观速率常数如表3 所示。从图8(c)和表3 中可以看出,-ln(Ct/C0)和时间t呈较好的线性关系,R2均在0.99以上,符合准一级反应动力学方程[42]。M-TiO2(CTP+C)和M-TiO2(C+CTP)的表观速率常数分别是M-TiO2(C)的1.4 倍和1.3 倍。显然,引入N2等离子体改性处理过程有利于提升M-TiO2的可见光催化速率。
图8 可见光催化性能评价
表3 可见光降解甲基橙的线性回归系数及表观速率常数
M-TiO2(CTP+C)的稳定性实验结果如图8(d)所示。经过3 次光催化循环后,M-TiO2(CTP+C)对甲基橙的降解效果没有明显下降,说明M-TiO2(CTP+C)光催化剂的稳定性较好。
为了进一步探究M-TiO2(CTP+C)在可见光下降解甲基橙的反应机理,采用活性物种捕获实验来测定反应过程中产生的活性物种。选用草酸铵(AO、0.1mmol/L)、叔丁醇(TBA、0.1mmol/L)、四氯化碳(CCl4、0.1mmol/L)和对苯醌(BQ、0.1mmol/L)分别作为空穴(h+)、·OH、电子(e-)和O2·-的捕获剂,无捕获剂作为对照实验。M-TiO2(CTP+C)活性物种捕获实验结果如图9所示。由图9可见,当加入BQ 和AO 时,甲基橙的可见光降解效果受到明显抑制。而加入TBA 和CCl4后,甲基橙的降解率略有下降,由此表明甲基橙可见光降解过程中起主要作用的活性物种是O2·-和h+,而·OH 和e-的贡献作用较小。
图9 M-TiO2(CTP+C)活性物质捕获实验
对三种M-TiO2的莫特-肖特基曲线进行绘制,如图10所示。由图10可见,三种M-TiO2的斜率均大于零,为典型的n型半导体。M-TiO2(C)、M-TiO2(C+CTP)和M-TiO2(CTP+C)相对于饱和甘汞电极(Hg/HgCl)的平带电位(EFB)分别为-0.48eV、-0.58eV和-0.73eV,相对于标准氢电极(NHE)的平带电位分别为-0.24eV、-0.34eV 和-0.49eV。通常认为n 型半导体平带电位值(ENHE)比导带值(ECB)正0.1eV[43],因此,三种M-TiO2的导带值(ECB)分别为-0.34eV、-0.44eV 和-0.59eV。根据式(1),结合三种M-TiO2的禁带宽度Eg[图5(b)],经计算得到M-TiO2(C)、M-TiO2(C+CTP)和M-TiO2(CTP+C)的价带值(EVB)分别为2.52eV、2.25eV和1.92eV[式(1)]。相对于标准氢电极,E(·OH/H2O)约为2.38eV[44],E(O2/O2▪-)约为-0.046eV[45]。M-TiO2(C)价带上的h+可以将H2O 氧化成·OH,而M-TiO2(C+CTP)和M-TiO2(CTP+C)价带上的h+不足以将H2O 氧化成·OH。MTiO2(C)、M-TiO2(C+CTP)和M-TiO2(CTP+C)导带上的e-均能将O2还原为O2·-,这与M-TiO2(CTP+C)的活性物种捕获实验结果相一致(图9)。
图10 三种M-TiO2的莫特-肖特基曲线
基于上述研究,本文给出了M-TiO2(CTP+C)可见光催化降解甲基橙的反应机理模型,如图11 所示。引入N2等离子体改性处理过程,等离子氛中的大量电子使得TiO2中的Ti4+还原成Ti3+,而Ti3+可窄化TiO2的带隙[15,46]。另一方面,C 掺杂可能引起C 2p 能级和O 2p 能级混合,产生新的价带,导致TiO2带隙变窄[3,35],两者共同的作用使得M-TiO2形成了对可见光敏感的窄带隙(2.51eV)。可见光照射下,M-TiO2(CTP+C)满带上的电子更易受激发跃迁至导带(CB)上,形成光生电子-空穴对,而与Ti3+伴生的氧空位则作为e-的捕获陷阱,促进了e-和h+的分离[3]。e-和O2反应生成O2·-活性氧基团,O2·-与h+作为主要活性基团将甲基橙矿化成H2O 和CO2[45,47]。
图11 可见光催化降解机理模型图
(1)经N2等离子体改性处理得到的M-TiO2光催化剂具有更好的晶粒分散性,更小的晶粒尺寸,更大的比表面积。其中M-TiO2(CTP+C)的BET 比表面积高达238.2m2/g,能带隙最小为2.51eV,OV/O最大为35.7%。
(2)三种M-TiO2对甲基橙的可见光降解效果由大到小依次为M-TiO2(CTP+C)>M-TiO2(C+CTP)>M-TiO2(C),其中M-TiO2(CTP+C)对甲基橙的可见光降解率高达90%以上(当持续光照240min时)。
(3)三种M-TiO2可见光降解甲基橙均符合准一级动力学反应方程,M-TiO2(CTP+C)和M-TiO2(C+CTP)的表观速率常数分别是M-TiO2(C)的1.4 倍和1.3倍。
(4)采用N2等离子体改性制备M-TiO2有利于形成更多的氧空位和间隙碳,两者共同作用使其表现出更优的可见光催化性能。可见光下M-TiO2(CTP+C)降解甲基橙过程中起主要作用的是和h+。