一种HF电子气体深度纯化材料的制备及应用方法

申请(专利)号：202010296836.6

公开(公告)日：2021-04-09

申请(专权)人：浙江博瑞电子科技有限公司

摘要:发明涉及高纯气体提纯领域，具体关于一种HF电子气体深度纯化材料的制备及应用方法；本发明制备了一种负载金属氟化物活性炭材料AC/MFx·nH2O，运用碳酰氟/高纯氮气混合气体流对该材料深度脱水后，得到一种HF电子气体深度纯化材料AC/MFx，该种材料具备氟化物，能够形成结晶水，形成水合金属氟化物，具备很强的吸水性能，而且无水氟化物和活性炭不存在被HF腐蚀的问题，不会造成骨架结构坍塌和反应产物对HF的二次污染，用于对HF进行高效除水具有纯度高，水分含量极低的优点。