广东理工学院电气工程系 吴 琼 徐殿双 宫占霞
过渡金属与Ⅵ族元素化合物的类石墨烯结构研究综述
广东理工学院电气工程系 吴 琼 徐殿双 宫占霞
材料结构的不同往往可以引起性质上的改变,石墨烯就是通过维度的减少,实现优良性质的形成。对于其它材料的二维是否可以稳定存在,并且性质上是否改变尚不可知,目前对新型材料的探索处于初期阶段,最可能实现二维材料稳定存在的就是类石墨的层状材料。过渡金属与Ⅵ族元素化合物许多都是这种结构的材料,本文主要对过渡金属与Ⅵ族元素化合物的研究进行综述。
过渡金属;二维材料;性质
石墨烯是仅有一层碳原子构成的单原子层材料,它是在石墨中剥离出来的,结构上由三维变到二维。维度的减小,对其产生巨大的影响。已经报道的石墨烯具有高的比表面积、高的杨氏模量、优良的导电性质等等超凡性质[1]。但是石墨烯本身的带隙为零,使得在制作器件方面受到限制,例如石墨烯制作的场效应管有低的电导率。石墨烯这种低维度性质的突变,引起了人们对二维材料的重视,其中包括金属硫化物,过渡金属氧化物以及其他二维混合物。过渡金属硫化物MX2由六方晶格层状的金属原子(M)与夹在两层之间的硫族元素原子(X)组成,以及相似结构的过渡金属与Ⅵ族元素的化合物。这些块体本身具有与石墨相同的层状结构,做出与石墨烯相似的二维新型材料可能性很高,所以可研究性很广。
过渡金属3D MX2硫化物构成了非常有趣的一类材料。它们有许多重要的性质,如半导体、半金属性、磁性、超导电性、电荷密度波。应用在许多领域,包括润滑剂、催化剂、超级电容器、太阳能电池、可充电电池系统[2-4]。层状的过渡金属硫化物类材料由两个六方晶格构成,MX2是典型的化学式,其中M代表过渡金属元素,X代表硫族元素,结构为三明治型,过渡金属元素与硫族元素分列在不同的层级,以形成稳定的形态。
过渡金属元素与硫族元素不同的排列,使得过渡金属硫化物呈现半导体性质(例如Mo、W)或者金属性质(例如Nb、Re)。MoS2是典型的过渡金属硫化物,与石墨烯和氮化硼不同,MoS2的六方晶系是由Mo和S原子交替分层形成的(如图1所示)[5-7]。
图1 MoS2结构模型
MoS2是重要的固体润滑剂材料,还具有很大范围的太阳能光谱,块体MoS2还应用在太阳能电池和光催化方面。具有宽的电子结构良好的光学性质。这些显著的优势不同于零带隙石墨烯,也不像氮化硼绝缘材料,块体MoS2具有1.29eV间接带隙的半导体材料。
许多研究表明块体MoS2做成层状MoS2之后,可以使其变为1.90eV的直接带隙半导体。单层MoS2不同的电子结构以及少层MoS2这种独特的光学性质,是由于MoS2导带和价带中d态电子引起的。
图2 MoS2、WS2块体到单层能带图
由图2所示中可以看出块体MoS2中价带顶在Γ点,导带底在K点,随着层数的减少,价带顶逐渐转移到K点,在单层MoS2中导带底与价带顶均在K点,变为直接带隙半导体。同样可以从图中看出,块体WS2是间接带隙的半导体,其中价带顶在Γ点,导带底在K点。随着材料层数的减少,价带顶不断转移,当形成WS2单层时,价带顶与导带底都在K点,形成直接带隙半导体。由此可以看出过渡金属硫化物随着层数的不同,材料性质发生变化。
单层MoS2、WS2的稳定存在,不仅引起了人们对过渡金属硫化物的猜想,掀起了对MX2硫化物的研究热潮。通过第一性原理计算发现不是所有的88种单层MX2化合物都可以自然状态下稳定存在,其中ZrS2、TiS2已经合成出来[8]。根据Ataca et al.报道的稳定性及电子结构分析中提出44种结构(如图3所示)[8]。
图3 44种MX2结构
这些MX2化合物有半导体性质、半金属性质以及不具有磁性的金属性质。其中块体MX2过渡金属氧化物(例如M=Sc,Cr,Mo,W;X=O)与过渡金属硫化物不同,过渡金属氧化物具有窄的禁带宽度和低的带边电子密度。所有蜂窝状的过渡金属氧化物都是间接带隙的半导体,过渡金属硫化物大多都为直接带隙半导体。单层MX2中M依次从Sc到W时,禁带宽度不断增大。单层MX2中X分别为O,S,Se,Te时,M依次从V到W得到的过渡金属硫化物的禁带宽度不会发生大的改变;金属或者半导体性质是由过渡金属元素中d态电子与s态电子决定。
石墨烯的诞生引发人们对二维材料的研究热潮,探索类石墨烯结构的新型材料是当务之急,过渡金属与Ⅵ族元素的化合物结构与石墨相似,为层状结构,对其二维结构的研究引发什么的重视,并有许多以在理论上实现合成。对新型二维材料的探索尚属开端,其它材料的研究依然有很广的前景。
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[8]Ataca,C.;Sahin,H.;Ciraci,S.J.Phys.Chem.C 2012,116,8983.
吴琼(1989—),女,硕士研究生,研究方向:控制理论与控制工程。
徐殿双(1987—),男,硕士研究生,研究方向:功能材料。
宫占霞(1989—),女,硕士研究生,研究方向:控制理论与控制工程。