纳米压印光刻技术

近年来纳米压印技术迅猛发展，已引起业界广泛关注。纳米压印是一种全新的纳米图型复制方法，利用不同材料之间的杨氏模量差，使两种材料之间相互作用来完成图型的复制转移。与传统的光刻工艺相比，压印技术不是通过改变抗蚀剂的化学特性实现抗蚀剂的图形化，而是通过抗蚀剂的受力变形实现其图形化。纳米压印自1995年被普林斯顿大学纳米结构实验室的华裔科学家Stephen Y. Chou教授提出后，在热压印、紫外常温压印、微接触压印技术基础上发展出了许多新工艺。

本书详细介绍了纳米压印技术的原理、特点、关键技术、工艺及应用，主要涉及压印研究现状、模板的制备和处理、压印用光刻胶、压印工艺以及压印理论等内容，着重阐述了纳米压印技术在半导体光电器件、半导体存储器件等领域应用的最新研究成果。本书共10章：1.引言；2.纳米压印光刻原理及现状；3.模板制备；4. 模板表面处理；5. 纳米压印光刻胶；6. 纳米压印光刻过程；7.纳米压印光刻建模与仿真；8.纳米压印光刻在发光二极管中的应用；9.纳米压印光刻在内存器件中的应用；10.纳米压印光刻在太阳能电池中的应用。

本书基于作者所在单位纳米加工技术实验室的研究工作以及近年来在纳米压印方面的研究成果编写而成，可供微纳加工、电子器件、生物芯片等领域的科研人员及工程技术人员参考，也可作为高等院校相关专业研究生和高年级本科生的教材或参考书。

作者周伟民是中国科学院上海微系统与信息技术研究所博士后，上海市纳米科技与产业发展促进中心纳米科技实验室副研究员，主要从事纳米压印技术研究。

杜利东，助理研究员

（中国科学院电子学研究所）

Du Lidong，Assistant Professor

（Institute of Electronics，CAS）endprint