专利文摘

牛金平 整理

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牛金平 整理

一种用于清洗烟气脱硫系统GGH结垢物的中性清洗剂

专利申请号：CN201110209050.7 公开号：CN102296008A

申请日：2011.07.26 公开日：2011.12.28

申请人：西安热工研究院有限公司

一种用于清洗烟气脱硫系统GGH结垢物的中性清洗剂，其特征在于：该中性清洗剂按质量百分比含20%～30%的草酸盐或水杨酸盐、0.1%的助溶剂渗透剂JFC、0.3%～0.5%的缓蚀剂TP-1、0.05%～0.1%表面活性剂OP-10，余量为水。本发明的有机酸盐能够溶解、疏松、膨化GGH换热片上形成的坚硬结垢物；助溶剂能够促进有机酸盐对结垢物的溶解；缓蚀剂能够减缓清洗剂对GGH钢质框架及GGH换热片表面搪瓷的腐蚀损坏；表面活性剂用于降低清洗剂的表面张力，增强清洗剂对结垢物的浸润性能。

有机硅环保清洁剂及其制备方法

专利申请号：CN201010218404.X 公开号：CN102296005A

申请日：2010.06.24 公开日：2011.12.28

申请人：威海赛奥新材料科技有限公司

本发明公开了一种非耗臭氧型有机硅环保清洁剂，主要成份为有机硅氧烷。该清洁剂具有优良的清洗能力，ODP值为0，能取代HCFC-141B、CFC-113、HCFC-225等溶剂，可应用于精密金属零件、精密光学部件、塑胶部件、电子元件等的脱脂清洗，同时它们也是油类、润滑剂、涂料和有机硅聚合物的良好溶剂。本发明同时公开了一种有机硅环保清洁剂的制备方法。

一种用于清洗离子交换树脂机油污染的清洗剂

专利申请号：CN201110209265.9 公开号：CN102296002A

申请日：2011.07.26 公开日：2011.12.28

申请人：湖北省电力公司电力试验研究院

本发明提供一种用于清洗离子交换树脂机油污染的清洗剂。所述清洗剂由以下重量百分比的物质组成：3%～8%十二烷基苯磺酸钠、1%～4%辛基酚聚氧乙烯醚、0～2%椰子油脂肪酸二乙醇酰胺、0.75～3%脂肪醇聚氧乙烯醚、0.005%～0.015%有机硅消泡剂、0.5%～2%氯化钠、0.5%～2%助剂A、0.5%～2%助剂B、余量为水。本发明的清洗剂中含有阴离子表面活性剂和非离子型表面活性剂，复配有各种助剂，既有能彻底清洗离子交换树脂表面的油污，还能洗除离子交换树脂孔内吸附的油污，恢复离子交换树脂的交换功能，同时配方中还考虑有离子型的表面活性剂,不会二次污染离子交换树脂。

清洗组合物及用其形成半导体图形的方法

专利申请号：CN201110193699.4 公开号：CN102296006A

申请日：2011.06.28 公开日：2011.12.28

申请人：韩国拉姆科技有限公司

揭露了一种清洁组合物及半导体图形形成的方法。所述清洁组合物包括基于所述清洁组合物总量的10%～70%重量的醚化合物、0.1%～2%重量的含氟化合物作为蚀刻剂、0.1%～3%重量的抗腐蚀剂、及去离子水的余量。所述方法中，在包括预定结构的基底上形成绝缘层，并且在所述绝缘层中形成大马士革图形。使用所述清洁组合物进行清洁，形成填满所述大马士革图形的金属层，并且使得所述金属层平面化以暴露所述绝缘层的上部，并且形成金属布线。在蚀刻处理之后，可去除蚀刻残留物而不会损伤金属布线，特别是铜布线，并且可减少处理缺陷的生成。

一种平板显示用清洗液及其制备方法

专利申请号：CN201110206269.1 公开号：CN102296001A

申请日：2011.07.22 公开日：2011.12.28

申请人：绵阳信利电子有限公司

本发明公开了一种平板显示用清洗液及其制备方法。该清洗液，包括式I所示表面活性剂、有机溶剂、螯合剂、防腐剂、消泡剂和水；所述式I所示表面活性剂占所述清洗液总重的百分比为1%～20%；所述有机溶剂占所述清洗液总重的百分比为5%～30%；所述螯合剂占所述清洗液总重的百分比为0.5%～5%；所述防腐剂占所述清洗液总重的百分比为0.01%～5%；所述消泡剂占所述清洗液总重的百分比为0.01%～5%；余量为水。该清洗液能有效除去玻璃基板上面的金属离子、有机及无机杂质和固体粒子，清洗能力强，且对环境无污染，清洗后对基板无腐蚀等特点。

采用一种包括内置冲洗助剂的组合物清洗烹饪设备或器具

专利申请号：CN200980156061.4 公开号：CN102300973A

申请日：2009.12.01 公开日：2011.12.28

申请人：美国迪瓦西公司

本发明公开了一种清洗烹饪设备或器具的方法，包括使用清洗组合物接触至少是烹饪设备或器具的烹饪室，清洗组合物包括一种片型聚合物，这种片型聚合物至少在烹饪室表面上提供一层薄膜，致使在水冲洗步骤中提供拨水作用。片型聚合物是选自阳离子多糖和马来酸-烯烃共聚物组成的组分。

纳米洗车液

专利申请号：CN201010279283.X 公开号：CN102399635A

申请日：2010.09.13 公开日：2012.04.04

申请人：上海伊宇商贸有限公司

本发明涉及一种纳米洗车液，由重量百分比为5%的20～65nm的纳米氧化钛，重量百分比为6%的脂肪醇聚氧乙烯醚，重量百分比为1%的硅油，重量百分比为12%的液体石蜡，重量百分比为5%的0.8%的硼酸水溶液，重量百分比为1%的芳香剂，余量为水组成。

锅炉洗液

专利申请号：CN201010282661.X 公开号：CN102399649A

申请日：2010.09.14 公开日：2012.04.04

申请人：顾世琴

本发明公开了一种锅炉洗液，由柠檬酸铵、羟胺、碳酸钠、铜离子封闭剂组成。本发明配方合理，使用效果好，生产成本低。

冷却水处理设备用化学清洗剂

专利申请号：CN201010282906.9 公开号：CN102399647A

申请日：2010.09.15 公开日：2012.04.04

申请人：陆忠跃

本发明公开了一种冷却水处理设备用化学清洗剂，由聚烯酸、异丙醇、邻苯二甲酯、水组成。本发明配方合理，使用效果好，生产成本低。

清洗组成物

专利申请号：CN201010288941.1 公开号：CN102399650A

申请日：2010.09.19 公开日：2012.04.04

申请人：盟智科技股份有限公司

本发明涉及一种清洗组成物，包括多胺基羧酸盐(polyaminocarboxylicsalt)、酸及水。多胺基羧酸盐的含量为0.01重量%至0.5重量%。酸的含量为0.01重量%至0.5重量%。其中，清洗组成物的剩余部分为水。本发明能有效地移除进行化学机械研磨过程后所产生的残留物。

中性清洗剂及其制备方法

专利申请号：CN201110289495.0 公开号：CN102399642A

申请日：2011.09.27 公开日：2012.04.04

申请人：英特沃斯(北京)科技有限公司

本发明提供一种中性水基清洗剂及其制备方法。该中性水基清洗剂，按质量百分比计算，包括脂肪醇烷氧基表面活性剂0.5～1.5%，优选1%；脂肪醇聚氧乙烯醚类表面活性剂1～5%，优选3%；聚醚型表面活性剂1～5%，优选3%；直链烷基苯磺酸钠0.5～1%，优选0.7%。本发明通过将非离子表面活性剂与阴离子表面活性剂复配，降低了清洗剂的表面张力，并且保持清洗剂pH为中性。本发明的中性水基清洗剂配合超声波清洗、高压喷淋、刷洗等物理清洗手段，对极性和非极性污染物都有良好的清洗效果，在狭小缝隙清洗方面取得了意料不到的有益效果。

从基板去除污染物质的方法和装置

专利申请号：CN201080017053.4 公开号：CN102405276A

申请日：2010.04.08 公开日：2012.04.04

申请人：美国太阳索尼克斯公司

本发明提供了一种用于从基板去除污染金属以改善电气性能的方法。阳离子金属已知对绝缘体或半导体基板的电气性能是特别有害的。该方法包括将基板接触下列结构式(1)的至少一种化合物的水性溶液：其中，n在每种情况中是独立的0和6之间的整数值，X在每种情况中是独立的H、NR4、锂、钠或钾，以及至少一个X是NR4；R在每种情况中是独立的H或C1～C6烷基，以改善基板的电气性能。一种用于制备这种溶液的试剂盒,包括1～20总重量百分比的结构式(I)的至少一种化合物的浓水剂。该试剂盒还提供了用于浓水剂稀释以形成该溶液的操作指南。

一种含氟清洗液

专利申请号：CN201010277703.0 公开号：CN102399648A

申请日：2010.09.10 公开日：2012.04.04

申请人：安集微电子(上海)有限公司

本发明公开了一种具有低氮氧化硅刻蚀速率的半导体工业用含氟清洗液，该清洗液组合物含有：a)氟化物 0.1%～20%，b)多元醇0.01%～20%，c)水5%～75%，d)溶剂1%～75%，e)其他添加剂0～20%。本发明的清洗液组合物可有效地清洗半导体制造过程中等离子刻蚀残留物，同时对于基材如低介质材料(SiO2、PETEOS)和一些金属物质(如Ti，Al，Cu)等具有较低的蚀刻速率；特别是氮氧化硅刻蚀速率较低，从而进一步扩大含氟清洗液的清洗操作窗口，并进一步提高含氟清洗液的使用寿命，降低半导体厂的运营成本，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。

冷却水处理设备用清洗剂

专利申请号：CN201010279030.2 公开号：CN102399633A

申请日：2010.09.13 公开日：2012.04.04

申请人：张红涛

本发明公开了一种冷却水处理设备用清洗剂，由磺基琥珀酸-2-乙基乙酯钠盐、乙二醇、苯甲酸、水组成。本发明配方合理，使用效果好，生产成本低。

一种洗洁粉配方

专利申请号：CN201010275472.X 公开号：CN102399653A

申请日：2010.09.08 公开日：2012.04.04

申请人：武生智

一种洗洁粉配方，它涉及一种超强去油污的产品。它的配方组成为：珍珠岩珠光砂5～15kg、乳化剂/表面活性剂5～15kg、电气石粉5～10kg、护肤剂0.5～1.5kg、天然杀菌剂0.5～1.5kg、水85～75kg；适用于人手、衣物、家庭清洗地板、家具、玻璃、油烟机、厨具等，也适用于汽车维修、机械厂、模具厂、印刷厂、电动车维修等重油污行业去污，还适用于清洁各种不干胶、透明胶、口香糖残留物及多种其他污渍均有很好的效果。

一种油脂清洗液

专利申请号：CN201110328594.5 公开号：CN102433224A

申请日：2011.10.26 公开日：2012.05.02

申请人：陈瑜

本发明提供了一种油脂清洗液，所述清洗液的组分包括烷基苯磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚、焦磷酸钠、氢氧化钾、五水偏硅酸钠和水。本发明提供的油脂清洗液，可有效地清除肉类及乳品的油污，既适用于肉类加工屠宰及乳品加工行业，也适用于同类食品商店、餐厅及家庭。

一种用于清除树脂和焊迹的清洗剂

专利申请号：CN201110319827.5 公开号：CN102433226A

申请日：2011.10.20 公开日：2012.05.02

申请人：华阳新兴科技（天津）集团有限公司

本发明涉及一种用于清除树脂和焊迹的清洗剂，其组分及重量配比为：醇醚类溶剂、20～60%、松香类溶剂0～5%、腐蚀抑制剂0.001～0.01%、抗氧剂0.001～0.01%，碳氢溶剂加至100%。本清洗剂具有强的溶解树脂、焊迹、油污的能力，清洗时间短只需10～15min，对集成线路板无腐蚀，使用过的清洗剂可以蒸馏再生，更重要的是这种环保型树脂和焊迹清洗剂不含毒性强且对大气有破坏作用的卤代烃，是卤代烃类清洗剂的替代产品。

一种汽车玻璃水

专利申请号：CN201010500169.5 公开号：CN102443492A

申请日：2010.10.08 公开日：2012.05.09

申请人：蔡全喜

本发明公开了一种汽车玻璃水，属于日用化工领域，按重量份数比：包括六甲基环三硅氧烷10～30份，环氧乙烷12～20份，偏硅酸钠1～2份，二甲苯磺酸钠20～30份，烷基醇聚氧乙烯醚22～30份，正癸基二苯醚二磺酸钠15～19份，十二烷基硫酸钠12～15份，丁烷基葡萄糖甙5～8份，苹果香精0.5～0.6份，弱酸蓝0.1～0.2份和水25～40份；其配制方法是先把六甲基环三硅氧烷、环氧乙烷、偏硅酸钠、二甲苯磺酸钠、烷基醇聚氧乙烯醚、正癸基二苯醚二磺酸钠、十二烷基硫酸钠、丁烷基葡萄糖甙放在容器中保持50℃混合均匀，然后加入苹果香精、弱酸蓝混合均匀；该玻璃水清洁性能好，使用方便，实用环保。

地毯去渍剂

专利申请号：CN201010500337.0 公开号：CN102443493A

申请日：2010.09.30 公开日：2012.05.09

申请人：刘世超

本发明公开了一种地毯去渍剂，由下述组分按重量份组成：乙二醇丁醚6～8%、异丙醇2～4%、醋酸2～4%、月桂基硫酸钠1～3%、AEO-9 12～15%、余量为水。本发明的地毯去渍剂能够对地毯上的污渍进行清洁，去除咖啡、葡萄酒和茶类污垢，去除油脂污垢效果好。

清洗液组成物

专利申请号：CN201010510281.7 公开号：CN102443495A

申请日：2010.10.13 公开日：2012.05.09

申请人：明德国际仓储贸易(上海)有限公司

一种清洗液组成物，其包括：(A) 0.1～20份重量的碱金属氢氧基盐类化合物；(B) 0.1～30份重量的如下式(I)结构非离子界面活性剂；式(I)其中，R1为氢原子或甲基；R2为氢原子或甲基；n是0至10的整数；m是4至20的整数；(C) 0.1～10份重量的阴离子界面活性剂；(D) 0.1～20份重量的螯合剂；(E) 0.1～20份重量的添加剂；以及(F)其余份重量的水配成100份重量的清洗液组成物。

一种用于清洗烟气脱硫系统GGH结垢物的中性清洗剂

专利申请号：CN201110209050.7 公开号：CN102296008A

申请日：2011.07.26 公开日：2011.12.28

申请人：西安热工研究院有限公司

一种用于清洗烟气脱硫系统GGH结垢物的中性清洗剂，其特征在于：该中性清洗剂按质量百分比含20%～30%的草酸盐或水杨酸盐、0.1%的助溶剂渗透剂JFC、0.3%～0.5%的缓蚀剂TP-1、0.05%～0.1%表面活性剂OP-10，余量为水。本发明的有机酸盐能够溶解、疏松、膨化GGH换热片上形成的坚硬结垢物；助溶剂能够促进有机酸盐对结垢物的溶解；缓蚀剂能够减缓清洗剂对GGH钢质框架及GGH换热片表面搪瓷的腐蚀损坏；表面活性剂用于降低清洗剂的表面张力，增强清洗剂对结垢物的浸润性能。

有机硅环保清洁剂及其制备方法

专利申请号：CN201010218404.X 公开号：CN102296005A

申请日：2010.06.24 公开日：2011.12.28

申请人：威海赛奥新材料科技有限公司

本发明公开了一种非耗臭氧型有机硅环保清洁剂，主要成份为有机硅氧烷。该清洁剂具有优良的清洗能力，ODP值为0，能取代HCFC-141B、CFC-113、HCFC-225等溶剂，可应用于精密金属零件、精密光学部件、塑胶部件、电子元件等的脱脂清洗，同时它们也是油类、润滑剂、涂料和有机硅聚合物的良好溶剂。本发明同时公开了一种有机硅环保清洁剂的制备方法。

五氟丙烷、氯三氟丙烯和氟化氢的类共沸组合物

专利申请号：CN201080005963.0 公开号：CN102300975A

申请日：2010.01.26 公开日：2011.12.28

申请人：美国霍尼韦尔国际公司

本发明涉及基本由有效量1，1，1，3，3-五氟丙烷、1-氯-3，3，3-三氟丙烯和氟化氢组成的三元类共沸混合物。

一种用于清洗离子交换树脂机油污染的清洗剂

专利申请号：CN201110209265.9 公开号：CN102296002A

申请日：2011.07.26 公开日：2011.12.28

申请人：湖北省电力公司电力试验研究院

本发明提供一种用于清洗离子交换树脂机油污染的清洗剂。所述清洗剂由以下重量百分比的物质组成：3%～8%十二烷基苯磺酸钠、1%～4%辛基酚聚氧乙烯醚、0%～2%椰子油脂肪酸二乙醇酰胺、0.75～3%脂肪醇聚氧乙烯醚、0.005%～0.015%有机硅消泡剂、0.5%～2%氯化钠、0.5%～2%助剂A、0.5%～2%助剂B、余量为水。本发明的清洗剂中含有阴离子表面活性剂和非离子型表面活性剂复配有各种助剂，一方面能彻底清洗离子交换树脂表面的油污，还能洗除离子交换树脂孔内吸附的油污，恢复离子交换树脂的交换功能，同时配方中考虑有使离子型的表面活性剂不会二次污染离子交换树脂。